微电子工艺双极

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3、第六讲薄膜工艺之化学气相淀积,主讲人,李方强,化学气相沉积合成方法发展,化学气相沉积乃是通过化学反应的方式,利用加热,等离子激励或光辐射等各种能源,在反应器内使气态或蒸汽状态的化学物质在气相或气固界面上经化学反应形成固态沉积物的技术,化学气。

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19、对于承受弯曲,扭转,冲击等动载荷,同时又承受强烈摩擦的零件,如齿轮,曲轴,凸轮轴等,一般要求表面具有高的强度,硬度,耐磨性和疲劳强度,而心部则应具有良好的综合机械性能,为了满足这种要求,可采用表面强化技术,使材料表面得到强化,主要方法包括。

20、,微电子工艺第二章 晶体生长,第一章 引言第二章 晶体生长第三章 工艺中的气体化试水环境和硅片的清洗第四章 硅的氧化第五章 光刻第六章 刻蚀第七章 扩散第八章 离子注入第九章 薄膜淀积第十章 工艺集成 第十一章 集成电路制造,目标,通过本章。