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MOS场效应晶体管的基本特性

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13、4.1 MOS结构与基本性质4.1.1 理想MOS结构与基本性质,MOS结构指金属氧化物半导体结构。为便于讨论,规定在金属栅上所加电压UG相对于P型半导体衬底为正,称为正向偏置电压;反之则为反向偏置电压。,MOS 二极管结构 a 透视图 b。

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18、第六章 金属氧化物半导体场 效应晶体管Lienfeld和Heil于30年代初就提出了表面场效应晶体管原理。40年代末Shockley和Pearson进行了深入研究。1960年Kahng和Alalla应用热氧化硅结构制造出第一只MOSFET.。

19、第六章场效应晶体管,场效应,半导体的电导被垂直于半导体表面的电场调制的效应叫做场效应单极型晶体管,只有一种载流子参与导电过程的半导体器件,场效应晶体管可分为,1,结型场效应晶体管,JFET,2,金属一半导体场效应晶体管,MESFET,3,金。

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