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集成电路制造工艺之氧化

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1、前言,制造技术,梦想,先进的科学技术,先进的制造设备,先进的工艺技术,高端的材料,梦想成真,前言,工艺出精品,精品出效益,工艺的重要性,1,工艺是制造技术的灵魂,核心和关键,2,工艺是生产中最活跃的因素,3,广义制造论,工艺是设计和制造的桥。

2、第三章 集成电路工艺3.1 概述3.2 集成电路制造工艺3.3 BJT工艺3.4 MOS工艺3.5 BiMOS工艺3.6 MESFET工艺与HEMT工艺,50m,100 m头发丝粗细,30m,1m 1m晶体管的大小,3050m皮肤细胞的大小。

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13、集成电路器件与工艺,参考书目,半导体器件物理与工艺 施敏 苏州大学出版社微电子材料与制程 陈力俊 复旦大学出版社硅超大规模集成电路工艺技术理论实践与模型硅集成电路工艺基础 北京大学出版社芯片制造半导体工艺制程实用教程第四版, 电子工业出版社。

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15、第二章制造工艺装备,第一节金属切削刀具的基本知识,金属切削加工的目的,使被加工零件的尺寸精度,形状和位置精度,表面质量达到设计与使用要求,金属切削加工要切除工件上多余的金属,形成已加工表面,必须具备两个基本条件,切削运动,造型运动,和刀具。

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17、半导体制造工艺流程,2022122,1,半导体相关知识,本征材料:纯硅 910个9 250000.cmN型硅: 掺入V族元素磷P砷As锑SbP型硅: 掺入 III族元素镓Ga硼BPN结:,N,P,2022122,2,半导体元件制造过程可分为。

18、一,集成电路的定义,集成电路是指半导体集成电路,即以半导体晶片材料为主,经热氧化工艺,干氧氧化,水汽氧化,湿氧氧化互连线在接触孔处的纵向结构加工制造,将无源元件,有源元件和互连线集成在基片内部,表面或基片之上,执行某种电子功能的微型化电路。

19、CMOS集成电路制造工艺从电路设计到芯片完成离不开集成电路的制备工艺,本章主要介绍硅衬底上的CMOS集成电路制造的工艺过程。有些CMOS集成电路涉及到高压MOS器件例如平板显示驱动芯片智能功率CMOS集成电路等,因此高低压电路的兼容性就显得。

20、汇报人:王文龙 单位:崖城134项目组 日期:2012年3月7日,机械复合管制造工艺及铺设,2,汇报提纲,一摘要二概述三机械复合管国产化四机械复合管制造工艺五机械复合管陆地接长及海上铺设六结论,3,摘 要,一摘要 近年,随着海洋深水油气田的。

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