分子束外延

1、微电子工艺学第五章薄膜淀积与外延技术,张道礼教授,超薄膜,薄膜,典型薄膜,厚膜,单晶薄膜多晶薄膜无序薄膜,概述,采用一定方法,使处于某种状态的一种或几种物质,原材料,的基团以物理或化学方式附着于衬底材料表面,在衬底材料表面形成一层新的物质。

2、第三章,薄膜成形工艺,外延工艺,定义,外延,epita,y,Epi,ta,is,是在单晶衬底上,合适的条件下沿衬底原来的结晶轴向生长一层晶格结构完整的新的单晶层的制膜技术,新生单晶层按衬底晶相延伸生长,并称为外延层,长了外延层的衬底称为外延。

3、第五章分子束外延,分子束外延,MolecularBeamEpita,y,简称MBE,是晶体薄膜的一种外延生长技术,是指在清洁的超高真空,UHV,环境下,使具有一定热能的一种或多种分子,原子,束流喷射到晶体衬底,在衬底表面发生反应的过程,由于。

4、半导体材料,IIIV族化合物半导体的外延生长,第七章IIIV族化合物半导体的外延生长,内容提要：气相外延生长VPE 卤化物法 氢化物法 金属有机物气相外延生长MOVPE液相外延生长LPE分子束外延生长MBE,气相外延生长,气相外延生长vap。

5、第一节 真空蒸发镀膜原理,一定义：真空蒸发镀膜蒸镀是在真空条件下，加热蒸发物质使之气化并淀积在基片表面形成固体薄膜，是一种物理现象。 广泛地应用在机械电真空无线电光学原子能空间技术等领域。 加热方式可以多种多样。,1,PPT课件,二. 真空。

6、分子束外延技术,目录,1,引言,分子束外延,MolecularBeamEpita,y,MBE,在超高真空环境下,使具有一定热能的一种或多种分子,原子,束流喷射到衬底,在衬底表面发生反应的过程,由于分子在,飞行,过程中几乎与环境气体无碰撞,以。

7、在单晶衬底上淀积单晶薄膜的工艺称为外延,集成电路中的各种器件通常就是做在外延层上的,第章外延生长,大多数的外延工艺都可利用各种技术来实现,例如,快速热处理,金属有机物,超高真空,以及激光,可见光,射线辅助等,有些外延工艺则可以利用蒸发技术来。

8、半导体材料,III,V族化合物半导体的外延生长,第七章III,V族化合物半导体的外延生长,内容提要,气相外延生长VPE卤化物法氢化物法金属有机物气相外延生长MOVPE液相外延生长LPE分子束外延生长MBE,气相外延生长,气相外延生长,vap。

9、真空镀膜技术基础,真空技术,一,真空技术概况,巴德纯,二,真空工程理论基础,张世伟,三,干式真空泵原理与技术基础,巴德纯,四,真空系统组成与设计基础,刘坤,五,真空获得设备原理与技术基础,张以忱,六,真空测量技术基础,刘玉岱,七,真空镀膜技。

10、第二章薄膜制备的物理方法,物理气相沉积,薄膜沉积的物理方法主要是物理气相沉积法,物理气相沉积,PhysicalVaporDeposition,简称PVD,是应用广泛的一系列薄膜制备方法的总称,包括真空蒸发法,溅射法,分子束外延法等,物理气相。

11、1,第4章 外延工艺,2,2,第4章 外延工艺,本章3学时目标：,1了解相图和固溶度的概念,2了解外延技术的特点和应用,3掌握外延的分类,4掌握气相外延的原理步骤,5了解分子束外延的实现方式和优点,3,3,第4章 外延工艺,一相图和固溶度的。

12、复习上千一4,物质由分子,原子,离子,构成二,分子的特点,1,分子的质量和体积都很小2,分子在不断地运动,温度升高,分子的运动加快3,分子间有间隔般来说,气体液体固体,课题1分子和原子,第2课时,习目标知道分子是由原子构成的2,会用分子,原。

13、20238813,22,05,材料合成与制备,李亚伟赵雷无机非金属材料系,13,22,05,第四章薄膜的制备,薄膜制备是一门迅速发展的材料技术,薄膜的制备方法综合了物理,化学,材料科学以及高技术手段,薄膜的应用前景十分广泛,半导体器件,电路。

14、第三章,薄膜成形工艺,外延工艺,定义,外延,epita,y,Epi,ta,is,是在单晶衬底上,合适的条件下沿衬底原来的结晶轴向生长一层晶格结构完整的新的单晶层的制膜技术,新生单晶层按衬底晶相延伸生长,并称为外延层,长了外延层的衬底称为外延。

15、202353120,25,40,材料合成与制备,李亚伟赵雷无机非金属材料系,20,25,40,第四章薄膜的制备,薄膜制备是一门迅速发展的材料技术,薄膜的制备方法综合了物理,化学,材料科学以及高技术手段,薄膜的应用前景十分广泛,半导体器件,电。

16、主讲人,张以忱,真空镀膜技术基础,真空技术,一,真空技术概况,巴德纯,二,真空工程理论基础,张世伟,三,干式真空泵原理与技术基础,巴德纯,四,真空系统组成与设计基础,刘坤,五,真空获得设备原理与技术基础,张以忱,六,真空测量技术基础,刘玉岱。

17、分子束外延技术简介,声明：本文件中引用的来自书籍刊物及网页中的图片的一切权利归各自的权利人所有。,什么是分子束外延 真空技术介绍 分子束外延设备 分子束外延工艺,什么是分子束外延,外延生长技术在半导体领域得到应用是在20世纪60年代。它指的。

18、1,清洁表面的获得1,1超高真空的意义1,2清洁表面的获得手段2,分子束外延简介3,外延生长3,1外延生长的定义3,2外延生长的动力学过程4,反射式高能电子衍射5,分子束外延应用实例,实验4,清洁表面的制备及分子束外延,2,超高真空,Ult。

19、半导体材料,III,V族化合物半导体的外延生长,第七章III,V族化合物半导体的外延生长,内容提要,气相外延生长VPE卤化物法氢化物法金属有机物气相外延生长MOVPE液相外延生长LPE分子束外延生长MBE,气相外延生长,气相外延生长,vap。