第五章化学气相沉积课件

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8、第五章 化学气相沉积,一CVD的概念优点及特点二CVD的基本原理三CVD方法简介,一CVD的概念优点及特点1概念化学气相沉积是一种化学气相生长法，简称CVD Chemical Vapor Deposition 技术。这种方法是把含有构成薄膜。

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