第十三章化学气相沉积ppt课件

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6、生物化学沉积矿床,一,概述,定义,指由沉积作用堆积起来的生物遗体,或经过生物有机体的分解而导致有用组分,矿物,沉淀所形成的矿床,也包括在沉积过程中由于细菌的生命活动而使某些元素聚集而形成的矿床,这类矿床的成矿过程中,生物作用占有很大的意义。

7、2化学气相沉积法CVD 3溶胶凝胶法,定义：利用气相反应，在高温等离子或激光辅助等条件下控制反应气压气流速率基片材料温度等因素，从而控制纳米微粒薄膜的成核生长过程；或者通过薄膜后处理，控制非晶薄膜的晶化过程，从而获得纳米结构的薄膜材料。分类。

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9、t课件PPT课件,1,第 十章 多晶硅薄膜,多晶硅薄膜材料：指在玻璃陶瓷廉价硅等低成本衬底上，通过化学气相沉积等技术，制备成一定厚度的多晶硅薄膜。根据多晶硅晶粒的大小，部分多晶硅薄膜又可称为微晶硅薄膜ucSi，其晶粒大小在1030nm左右或。

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11、多相催化反应动力学理论与实践,学时：40 讲解：李建伟 工业催化与反应器研究室 综合楼517 电话64436787,1,PPT课件,化学反应动力学建立与应用的引入, 过程工程科学的核心理论 三传一反热量质量动量传递，反应, 过程工程问题解决。

12、第四章 化学气相沉积,李斌斌,4.1 化学气相沉积4.2 硅气相外延生长,4.1 化学气相沉积,化学气相沉积CVD是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料。从理论上来说，它是很简。

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14、高三化学专题训练电化学,高三化学专题训练,典例,1.KIO3是一种重要的无机化合物,可作为食盐中的补碘剂。回答下列问题：3KIO3也可釆用电解法制备，装置如图所示。,典例1.KIO3是一种重要的无机化合物,可作为食盐中的补碘剂,电化学专题共。

15、化学气相沉积,程立维 常秀丽 禚昌岩 西北工业大学,化学气相沉积概述,一化学气相沉积的原理 二化学气相沉积的工艺方法 三化学气相沉积的特点与应用 四 PVD和CVD两种工艺的对比 五化学气相沉积的新进展,一化学气相沉积的原理定义：化学气相沉。

16、1,第四章 薄膜的化学气相沉积Chemical vapor deposition,2,第一节 化学气相沉积反应的类型第二节 化学气相沉积过程的热力学第三节 气体的输运特性第四节 化学气相沉积装置第五节 SolGel工艺技术,3,简 介,化学。

17、化学气相沉积法CVD制备石墨烯,滕燕燕,化学气相沉积CVD,利用气态或蒸汽态的物质在热固表面上反应形成沉积物的过程,气相生长技术,CVD反应体系应满足的条件：,CVD反应过程的主要步骤,CVD技术在无机合成时的特点,不改变固体基底的形状，保。

18、矿床学,第十二章胶体化学沉积矿床,第十二章胶体化学沉积矿床,概念与特点形成条件矿床分类及主要矿床特征,第十二章胶体化学沉积矿床,概念与特点一,概念胶体化学沉积矿床,胶体化学沉积矿床,指地表岩矿石经风化作用形成的部分成矿物质以胶体溶液的形式迁。

19、第九章 深海沉积,一深海沉积物的来源二深海沉积物的分类三深海陆源沉积四深海生物源沉积五深海粘土和火山沉积六深海沉积中的矿物七海洋沉积地球化学的基本内容八深海沉积层和沉积速率九大洋沉积的分布规律十大洋沉积作用,一深海沉积物的来源,陆源物质：河。

20、第四章化学气相沉积,李斌斌,4,1化学气相沉积4,2硅气相外延生长,4,1化学气相沉积,化学气相沉积,CVD,是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术,包括大范围的绝缘材料,大多数金属材料和金属合金材料,从理论上来说,它是很简单的。