CVD化学与薄膜工艺

1、化学气相淀积与薄膜工艺,孟广耀,中国科学技术大学材料科学与工程系固体化学与无机膜研究所,化学气相淀积系统中的质量输运原理和和技术,系统中物质输运过程及其作用,气体的一些性质,气态方程,输运性质,开管气流系统中的质量输运,水平反应管中的气流状。

2、第三章纳米薄膜材料,材料化学系,材料化学系,薄膜材料是相对于体材料而言的,是人们采用特殊的方法,在体材料的表面沉积或制备的一层性质于体材料完全不同的物质层,薄膜材料受到重视的原因在于它往往具有特殊的材料性能或材料组合,返回,材料化学系,薄膜。

3、第三章纳米薄膜材料,材料化学系,材料化学系,薄膜材料是相对于体材料而言的,是人们采用特殊的方法,在体材料的表面沉积或制备的一层性质与体材料完全不同的物质层,薄膜材料受到重视的原因在于它往往具有特殊的材料性能或材料组合,返回,材料化学系,薄膜。

4、第四章薄膜的化学气相沉积,第一节化学气相沉积反应的类型第二节化学气相沉积过程的热力学第三节气体的输运特性第四节化学气相沉积装置第五节工艺技术,简介,化学气相沉积,化学气相沉积乃是通过化学反应的方式,利用加热,等离子激励或光辐射等各种能源,在。

5、第三章纳米薄膜材料,材料化学系,材料化学系,薄膜材料是相对于体材料而言的,是人们采用特殊的方法,在体材料的表面沉积或制备的一层性质于体材料完全不同的物质层,薄膜材料受到重视的原因在于它往往具有特殊的材料性能或材料组合,返回,材料化学系,薄膜。

6、Ch,5化学气相沉积,本章主要内容化学气相沉积的基本原理化学气相沉积的特点CVD方法简介低压化学气相沉积,LPCVD,等离子体化学气相沉积其他CVD方法,化学气相沉积基本原理,化学气相沉积的基本原理,化学气相沉积的定义,化学气相沉积是利用气。

7、1,Review,第三章：物理气相沉积技术 热蒸发镀膜 溅射镀膜 离子镀膜,工作原理工艺方法,2,第四章 化学气相沉积技术,热氧化生长化学气相沉积,3,薄膜制备方法：物理气相沉积法 被镀材料由固态转变为气态时没有化学反应发生。化学气相沉积法。

8、Ch,5化学气相沉积,本章主要内容化学气相沉积的基本原理化学气相沉积的特点CVD方法简介低压化学气相沉积,LPCVD,等离子体化学气相沉积其他CVD方法,化学气相沉积基本原理,化学气相沉积的基本原理,化学气相沉积的定义,化学气相沉积是利用气。

9、第三章纳米薄膜材料,材料化学系,材料化学系,薄膜材料是相对于体材料而言的,是人们采用特殊的方法,在体材料的表面沉积或制备的一层性质于体材料完全不同的物质层,薄膜材料受到重视的原因在于它往往具有特殊的材料性能或材料组合,返回,材料化学系,薄膜。

10、微电子工艺学第五章薄膜淀积与外延技术,张道礼教授,超薄膜,薄膜,典型薄膜,厚膜,单晶薄膜多晶薄膜无序薄膜,概述,采用一定方法,使处于某种状态的一种或几种物质,原材料,的基团以物理或化学方式附着于衬底材料表面,在衬底材料表面形成一层新的物质。

11、薄膜材料与薄膜技术,数理学院,酒馈汽姆湃搜溯官咆譬配搂正尚君欠矮凉煞伍筑犊敏腥侨缚沛屋绽持浸诱第二章薄膜的化学制备方法1第二章薄膜的化学制备方法1,第二章薄膜的化学制备方法,1,阉闹耕旨殃匆飘扦洞曾胃毯诫技恫咙蹿茫糠港瞒面确踌庭垃锄县投谷舌。

12、薄膜淀积与外延技术,超薄膜: 10nm薄膜: 50nm10mm典型薄膜: 50nm 1mm厚膜: 10mm 100mm,单晶薄膜多晶薄膜无序薄膜,5.1 概述,采用一定方法，使处于某种状态的一种或几种物质原材料的基团以物理或化学方式附着于衬。

13、2 薄膜沉积的化学方法,概 念：薄膜制备过程中，凡是需要在一定化学反应发生的前提下完成薄膜制备的 技术方法，统称为薄膜沉积的化学方法。条 件：化学反应需要能量输入和诱发优缺点：设备简单成本较低甚至无需真空环境即可进行； 化学制备工艺控制复杂。

14、2薄膜沉积的化学方法,概念,薄膜制备过程中,凡是需要在一定化学反应发生的前提下完成薄膜制备的技术方法,统称为薄膜沉积的化学方法,条件,化学反应需要能量输入和诱发优,缺点,设备简单,成本较低,甚至无需真空环境即可进行,化学制备,工艺控制复杂。

15、薄膜材料与技术,武涛副教授年秋季学期,薄膜沉积的化学方法,概念,薄膜制备过程中,凡是需要在一定化学反应发生的前提下完成薄膜制备的技术方法,统称为薄膜沉积的化学方法,条件,化学反应需要能量输入和诱发优,缺点,设备简单,成本较低,甚至无需真空环。

16、2薄膜沉积的化学方法,概念,薄膜制备过程中,凡是需要在一定化学反应发生的前提下完成薄膜制备的技术方法,统称为薄膜沉积的化学方法,条件,化学反应需要能量输入和诱发优,缺点,设备简单,成本较低,甚至无需真空环境即可进行,化学制备,工艺控制复杂。

17、上海交通大学,化学气相沉积CVD, 化学气相沉积的基本原理 化学气相沉积的特点 CVD方法简介 低压化学气相沉积LPCVD 等离子体化学气相沉积 其他CVD方法,概念,化学气相沉积CVD是一种化学气相生长法。 把含有构成薄膜元素的一种或几种。

18、上海交通大学,化学气相沉积CVD, 化学气相沉积的基本原理 化学气相沉积的特点 CVD方法简介 低压化学气相沉积LPCVD 等离子体化学气相沉积 其他CVD方法,概念,化学气相沉积CVD是一种化学气相生长法。 把含有构成薄膜元素的一种或几种。