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白底9第9章MOS场效应晶体管

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12、第六章 金属氧化物半导体场 效应晶体管Lienfeld和Heil于30年代初就提出了表面场效应晶体管原理。40年代末Shockley和Pearson进行了深入研究。1960年Kahng和Alalla应用热氧化硅结构制造出第一只MOSFET.。

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19、第五章场效应晶体管,场效应管,管的阈值电压,体效应,的温度特性,的噪声,尺寸按比例缩小,器件的二阶效应,场效应管,管伏安特性的推导,两个结,型漏极与型衬底,型源极与型衬底,同双极型晶体管中的结一样,在结周围由于载流子的扩散,漂移达到动态平衡。

20、微电子学概论,第二章半导体物理与器件,半导体物理学刘恩科等著国防工业出版社半导体物理学叶良修高等教育出版社半导体物理与器件,第版,美,著,赵毅强等译半导体器件物理与工艺,美,施敏,著,王阳元等译,导论半导体及其基本特性半导体中的载流子半导体。

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