第1章光电导探测.ppt
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1、第1章 光电导探测器,光电子器件的种类很多、很广,由于其类型和用途不同,对其性能和参数的要求也不同,评价的参数和方法也不尽相同,在此处只能就其共性进行描述。,由于本课程主要涉及光电探测器和光电成像器件两大类,所以对它们的性能参数也分两大类。,对光电探测器有:响应特性、噪声特性,包括响应率、探测率、时间常数及噪声等。,对光电成像器件有:包括上面参数,还有成像特性,包括:分辨率、空间频率特性以及空间抽样特性等。,1.1 光电子器件的基本特性,信号噪声比乃是反映器件总体特性的综合参数,对描述光电探测器以及光电成像器件都是必不可少的。本节只叙述光电器件的响应特性、探测率以及吸收系数,其他特性在各章叙述
2、。,1.1.1 光谱响应率和响应率,响应率定义:光电探测器输出信号电压或电流与单位入射光功率之比,即单位入射光功率作用下探测器输出信号电压或电流称为响应率.有光谱响应率 和积分响应率R。是传感器灵敏度相似的概念.,1.光谱响应率,光谱电压响应率Ru:光电器件在单色(在波长 附近一个很小的波长范围内)辐射功率作用下产生的信号电压为:光谱电流响应率Ri:光电器件在单色(在波长 附近一个很小的波长范围内)辐射功率作用下产生的信号电流为,则:,:,光电器件的光谱响应曲线:归一化,可得相对光谱响应率:Rm为光谱响应率的最大值.,光谱量子效率:单色入射辐射量子数 由产生的信号量子数 光谱响应率及量子效率仅
3、由器件的响应特性所决定,而与光源无关。,把 转化为:以m为单位,则 以A/W为单位。如果以nm为单位,则 以mA/W为单位。此公式计算简单,常在工程中应用到。光谱响应率及量子效率仅由器件的响应特性所决定,而与光源无关。,简称为响应率R,为器件输出信号与输入功率之比:电压响应率:P入射辐射功率 us输出信号电压 电流响应率:Is输出信号电流 量子效率:NP入射辐射量子数 Ns由NP所产生的信号量子数 响应率实质上反映了器件的灵敏程度,因此,响应率又被叫做灵敏度或积分灵敏度,而相应的光谱响应率叫做光谱灵敏度。,2.积分响应率,光度量的电压响应率和电流响应率:输入光通量 对给定色温的光源,其光通量与
4、辐射功率P之比是一定的,辐射响应率与光度响应率的关系:,3.光谱响应率与响应率的关系 光源辐射功率谱密度 定义为单位波长范围内的辐射功率,即:光源辐射功率谱密度随波长的分布曲线如图1-2,是光源的特性。光源光谱辐射功率谱密度归一化:Pm:单色辐射功率最大值 P:单色辐射功率的相对值,称为器件同光源的光谱匹配系数它反映了器件响应的波长范围同光源光谱的吻合程度。,器件的光谱响应同光源的光谱辐射的匹配程度:在光源固定的情况下,面积A1是不变的,如果与曲线重合得愈多,面积A2愈大,也就是光谱匹配愈好,愈大;反之,如果两曲线没有重合之处,=0,即二者完全失配,则该光电器件对光源没有探测能力。,光谱匹配是
5、选择光电探测器,如像管、光电倍增管、红外成像器件的光电转换材料的重要依据。希望光电探测器尽量与光源匹配。由于夜视器件大部分工作在夜晚,其红外波段辐射较集中,因此,制作夜视探测器要尽量向红外方向延伸。要探测那个波段的光辐射的信号,就要使器件的响应范围与光辐射的波段尽量一致。,功率谱密度,波长(nm),400,800,1200,1600,2000,紫外线,可见光,红外线,黄绿光,太阳辐射,0,1.1.2 最小可探测辐射功率和探测率,1.最小可探测辐射功率Pmin:当输出信号电压等于输出噪声电压均方根值时的探测器的入射辐射功率 P入射辐射功率;un噪声电压均方根;us输出信号电压。,噪声,光电探测器
6、输出的电流或电压在其平均值上下起伏.,这种起伏是一种无规则的、随机的,在某一瞬间的幅度不能预先知道,并且与其前后相邻时刻的幅度大小也毫无关系,这种起伏称为噪声,这种噪声是物理过程中所固有的,是不可能人为消除的。,由于噪声是在平均值附近的随机起伏,其瞬间值是不确定的,其长时间的平均值为零,简单地求平均没有意义,有意义的是足够长时间内求其平方平均值或均方根。,当有多个噪声源同时存在时,只要这些噪声源是独立,互不相关的,其噪声功率就可进行相加。,在信号较弱时,光电探测器的噪声会显著地影响信号探测的准确性,另外,噪声也限制了系统可能探测到的最小信号功率,因为信号太弱,就被噪声所掩没,难以被发现。,当入
7、射辐射较弱时,所产生的信号电压等于噪声电压时,此时信号被淹没在噪声之中,而不能分辨信号,此时该入射的辐射功率为该探测器所能探测到的最小功率,因此,又称为噪声等效功率,NEP(Noise Equalance Power)。当然Pmin越小,器件的探测能力越强,Pmin越小越好,但这不符合人们的习惯表示方法,因此引入探测率。,最小可探测辐射功率Pmin:当输出信号电压等于输出噪声电压均方根值时的探测器的入射辐射功率 P入射辐射功率;un噪声电压均方根;us输出信号电压。,2.探测率D 对Pmin取倒数作为衡量探测器探测能力的参数称为探测率 D越大,表示器件的探测性能越好,NEP(Noise Equ
8、alance Power)。当然Pmin越小,器件的探测能力越强,Pmin越小越好,但这不符合人们的习惯表示方法,因此引入探测率。,探测率与探测器的面积和工作频率带宽有关,为了将不同面积和不同工作带宽的器件进行比较,必须消除两个因素的影响。,表示探测器接收面积为1cm2,工作带宽为1Hz时的单位入射辐射功率所产生的信噪比。,研究指出,探测率与器件的面积和工作带宽成反比。,的测量是在一定的条件下进行的,如一定的黑体光源的温度,调制频率,测量系统的带宽等,测量值的(T,f,)如(500,900,5)。,为了描述单色情况,还引入光谱探测率,它表示器件对波长为 的辐射的探测率.,目前基本上用 取代了D
9、,若无特殊说明,本书所称的探测率均指 而言。,1.1.3 光吸收系数,光入射到材料,会发生吸收、色散、反射、折射等现象。对半导体而言,材料吸收光的原因,在于光与处在各种状态的电子、晶格原子和杂质原子的相互作用。,设入射光的强度为I0,入射到样品厚度为x处的光强度为I,则经过dx的厚度,光强度的减少量为dI,dI与入射光强度和厚度成正比,,负号表示光强度的衰减,为线吸收系数,单位为(1/cm)。,设初始入射光强度为I0,如果样品厚度为d,则样品吸收的光强度I为:,当厚度d=1/时,光强I=I0/e,约为入射光强的36%,此时的厚度称为吸收厚度,有64%的光在1/厚度内被吸收,即在吸收厚度内吸收了
10、大部分的光,如图1-5。当样品厚度 时,光在样品内被全部吸收。,可见吸收系数大,光吸收主要发生在材料的表层。吸收系数小,光入射得深。,如果样品厚度为d,则样品吸收的光强度I为:,吸收系数是光波长或光子能量的函数(),且各材料的吸收系数不同,吸收系数与材料的禁带宽度以及掺杂浓度等有关。图1-6为Si、Ge、GaAs半导体的吸收系数与光子能量的关系。,半导体的光吸收有本征吸收、杂质吸收、自由载流子吸收、激子吸收、晶格振动吸收等多种吸收机制。其中,最主要的吸收是本征吸收。价带中的电子吸收了能量足够大的光子后,受到激发,越过禁带,跃入导带,并在价带中留下一个空穴,形成了电子空穴对,这种跃迁过程所形成的
11、光吸收过程称为本征吸收。,要产生本征吸收,光子的能量必须大于或等于禁带的宽度Eg,即,换算成光波长的表达式,可得,就是说,波长必须满足:,叫做本征吸收的长波限,又称为阈值波长。,所以要产生本征光吸收,光波长必需小于长波限。,对于杂质光吸收,要求入射光子能量大于杂质电离能Ei,,Ei=EcEDEC,ED分别为导带底和杂质能级。,可得杂质光吸收的长波阈值为:,光电导探测器,1.2 光电导探测器原理,内光电效应:材料在吸收光子能量后,出现光生电子空-穴,由此引起电导率变化或电流电压现象,称之为内光电效应,是相对于外光电效应而言的。光电导效应:当半导体材料受光照时,吸收光子引起载流子浓度增大,产生附加
12、电导率使电导率增加,这个现象称为光电导效应。,材料对光吸收有本征型和非本征型,所以光电导效应也有本征型和非本征型。当光子能量大于禁带宽度时,把价带中的电子激发到导带,在价带中留下自由空穴,从而引起材料导电率的增加,这是本征光电导效应。若光子能量激发杂质半导体的施主或受主,使它们电离,产生自由电子或空穴,从而增加材料电导率,这种现象就是非本征光电导效应。材料受光照引起电导率的变化,在外电场作用下就能得到电流的变化,通过测量回路的电流,就能检测到电导率的变化。,1.2.1 光电导效应,1欧姆定律,电导率:,欧姆定律的微分形式,电流:,电流密度J:,2漂移速度和迁移率电子在电场作用下,沿着电场的反方
13、向作定向运动称为漂移运动,定向运动的速度称为漂移速度。,设导体中电子浓度为n,电子的漂移速度为Vd,导体截面为S,则单位时间内通过截面的电子数nVd1S,则:I=neVdS J=neVd 当导体内部电场恒定时,电子应具有一个恒定不变的平均漂移速度,电场强度增大时,平均漂移速度也增大;反之亦然,所以平均漂移速度的大小与电场强度成正比。Vd=E 称为电子迁移率,表示单位电场下电子的平均漂移速度,单位m2/Vs,值与材料特性有关,,电导率和迁移率间的关系,3半导体的电导率,Jn,JP分别表示电子和空穴电流密度,n,p表示电子、空穴的浓度,,4光电导效应,本征半导体在没有光照时,电子空穴浓度记为n0,
14、p0,此时电导率为,为暗电导,在光注入时,半导体电导率:,电导率增量:,1.2.2 光电导电流,设光电导体两边的电极对光电导体中载流子的运动不产生影响,即只有光电导体的载流子移到电极上,而电极上的电子不能注入到光电导体中。,如图,设电极间的距离为l,宽度为w,样品厚度为d,样品横截面积为S=wd,光照射在样品上,单位时间内入射在单位面积的光子数为N0,样品的线性吸收系数为,量子效率为,则样品表面的光生载流子产生率,即单位时间单位体积内电子空穴对g为:,由于在产生的同时,还伴随着载流子的复合消失,所以光生载流子浓度的变化关系为(注:下式是在弱光照射时成立,如为强光,公式将不同。而且略去了载流子的
15、浓度扩散梯度和表面复合。)分别为电子和空穴的平均寿命。,当产生率和复合率达到平衡状态时,即稳定状态光生电子和空穴浓度分别为:,定态光电导率,定态光电导率,与载流子的迁移率、寿命、光电导体的线性吸收系数、量子效率有关。,流过外电路的电流包括电子和空穴运动形成的电流。设电场强度为E,局部电流密度:由于稳定时,,实际上,光入射到材料过程中,沿着入射深度方向,光子数逐渐减少,设入射的光子数为N0,到达深度x处的光子数为N(x),,随着x深度方向,光生载流子产生率随入射深度位置x而变化。,设样品足够厚度,入射的光子在厚度内都能被吸收,光生载流子产生率平均值为:,则光电流:,1.2.3 光电导增益 样品中
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