VHDL课件第一章-概述.ppt
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1、第1章 概述,为什么要运用硬件描述语言(HDL)进行集成电路设计?,1.晶体管的发明,理论推动19世纪末20世纪初发现半导体的三个重要物理效应光电导效应光生伏特效应整流效应量子力学材料科学需求牵引:二战期间雷达等武器的需求,真空电子管无法满足高频、便携性、可靠性等要求。,一.集成电路的发展,晶体管的发明,1946年1月,Bell实验室正式成立半导体研究小组:W.Schokley(肖克莱),J.Bardeen(巴丁)、W.H.Brattain(布拉顿)Bardeen提出了表面态理论,Schokley给出了实现放大器的基本设想,Brattain设计了实验;1947年12月23日,第一次观测到了具有
2、放大作用的晶体管;,晶体管的发明,1947年12月23日第一个点接触式NPN Ge晶体管发明者:W.Schokley J.Bardeen W.Brattain,获得1956年Nobel物理奖,2.集成电路的发明,1952年5月,英国科学家G.W.A.Dummer(达默)第一次提出了集成电路的设想。1958年以德克萨斯仪器公司(TI)的科学家基尔比(Clair Kilby)为首的研究小组研制出了世界上第一块集成电路,并于1959年公布了该结果。,集成电路的发明,1958年世界上第一块集成电路:锗衬底上形成台面双极晶体管和电阻,总共12个器件,用超声焊接引线将器件连起来。,获得2000年Nobel
3、物理奖,集成电路的发明,Kilby 的专利(1964年),集成电路的发明,平面工艺的发明:1959年7月,美国Fairchild 公司的Noyce发明第一块单片集成电路,利用二氧化硅膜制成平面晶 体管,并用淀积在二氧化硅膜上的、和二氧化硅膜密接在一起的导电膜作为元器件间的电的连接(布线)。这是单片集成电路的雏形,是与现在的硅集成电路直接有关的发明。由此,将平面技术、照相腐蚀和布线技术组合起来,获得大量生产集成电路的可能性。,Noyce发明的第一块单片集成电路,第一块单片集成电路专利,Noyce的专利(1961年),集成电路的发展,集成电路经历了从小规模集成(SSI)、中规模集成(MSI)、大规
4、模集成(LSI)和超大规模集成电路(VLSI)、而达到目前的特大规模集成电路(ULSI)时代,目前还有人提出了GSI的说法。,集成电路的功能也不断增强,正向设计是指由电路指标、功能出发,进行逻辑设计(子系统设计),再由逻辑图进行电路设计,最后由电路进行版图设计,同时还要进行工艺设计。,从集成电路的布图风格看,集成电路设计方法可以分成:全定制(Full-Custom)方法;定制(Custom)方法;标准单元(Standard Cell,SC)通用单元(General Cell,GC)半定制(Semi-Custom)方法;门阵列(Gate Array,GA)有通道门阵列法 门海法-线性阵列(Lin
5、ear Array)可编程逻辑器件(PLD),现场可编程。PLA、PAL和GALFPGA和CPLD,全定制方法,全定制方法是指在系统功能设计、逻辑和电路设计完成以后,在优化每个器件的电路参数和器件参数的情况下,通过人机交互图形系统,人工设计版图中的各个器件和连线,以获得最佳性能(速度和功耗等)和最小芯片尺寸.全定制方法是一种以人工设计为主的设计,一.有通道门阵列法 门阵列设计技术是在一个芯片上把形状和尺才相同的单元排列成阵列形式,每个单元内部包含若干个器件,单元之间留有布线通道,通道宽度和位置固定,并预先完成接触孔和连线以外的所有芯片加工步骤,形成母片然后根据不同的应用,设计出不同的接触孔版和
6、金属连线版,在单元内部连线以实现某种门的功能,再通过单元间连线实现所需的电路功能 是一种母片半定制技术,未使用的单元,已经使用的单元(4-输入 NOR),定制设计方法,一.标准单元法,一种库单元设计方法 从标准单元库中调用事先经过精心设计的逻辑单元,并排列成行,行间留有可调整的布线通道,再按功能要求将各内部单元以及输入/输出单元连接起来,形成所需的专用电路,标准单元设计,标准单元版图示例,Brodersen92,可编程逻辑器件设计方法,是一种已完成了全部工艺制造的.可以直接从市场上购得的产品,刚购来时它不具有任何逻辑功能,但一经编程就可以在该器件上实现设计人员所要求的逻辑功能.,特点:采用熔断
7、丝、电写入等方法对已制备好的PLD器件实现编程,利用相应的开发工具就可完成设计,不需要设计人员承担投片风险和费用,资金投入小。用户可以反复地编程,以实现不同的功能。使用FPGACPLD进行电路设计时,不需要具备专门的IC(集成电路)深层次的知识,使设计人员更能集中精力进行电路设计,快速将产品推向市场。随着VlSI(Very Large Scale IC,超大规模集成电路)工艺的不断提高,FPGACPLD芯片的规模也越来越大,它所能实现的功能也越来越强,目前可以实现系统集成(sopc)。,二.集成电路设计方法和工具的变革,1.原始的手工设计,随着世界上第一块集成电路的问世,手工设计方法也就诞生了
8、。在IC设计的所有步骤上、完全依靠手工操作。人脑通过纸和笔,完成了初步的功能设计、逻辑设计、直至电路设计之后,用分立的元器件搭制起硬件模拟电路。让信号通过这一模拟电路,以验证其功能及各项参数是否满足原设计的要求。在接下来的版图设计阶段,也完全采用人工进行布局布线。凭眼力或感觉反复调整与斟酌。确定最佳排版案使之遵从面积最小、连线最短原则。然后,用尺和笔在方格纸上绘制版图分层剥刻红膜,逐一检查整套版中每一层红膜的每一个孔是否存在漏剥漏刻等等之类的错误。然后用这套红膜去拍照制版加工出流片所需的光刻掩膜板。,接下来是试制流片。整个流片过程中的工艺设计也是人工的。若需采取新工艺或调整一些工艺参数,则须通
9、过工艺线上一丝不苟的实验。最后,整个IC芯片试制的成功与否设计的正确与否,尤其是版图及其之后设计部分的正确性,都只有等到最终测试了流片结果后才能知晓。,依据以上的简单介绍,手工设计的缺点也是显而易见的,可以将它归纳为以下几个方面:(1)文档管理、修改十分不便。对于小规模电路而言,也许只是增加了一些工作量而己,而随着设计规模的增大,面对几十张,甚至上百张的逻辑设计图采用手工设计、查错,实际上已经是不可想象的事情。(2)只有等到设计的最后阶段才能进行实测分析。通常的方法是先用分立元件搭样机,通过样机实测,确定所设计的功能是否可以实现,然后再转入版图设计,等到芯片流片完成后才能获得测试结果。也就是说
10、,任何一步出了问题,只有到最后才能观测到,因而提高了设计成本.(3)整个设计过程与工艺相关,没有互换性。对不同的流片厂家,不同的流片工艺,版图都必须加以重新设计。手工设计方法主要应用于早期的小规模IC。,2.第一代EDA(计算机辅助设计CAD),针对手工设计所面临的困难,CAD技术出现了。随着计算机软件技术的渗透,各种各样的计算机模拟软件,比如线路模拟、逻辑模拟、时序模拟、器件模拟、工艺模拟等软件先后问世、构成了早期ICCAD技术的主要内涵。lCCAD除了众多的模拟软件之外。还有一个大的方向即是计算机也介入丁IC的版图设计领域。版图设计一直是一个费时费力又十分关键的工作、一般可分为两个环节:一
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- VHDL 课件 第一章 概述
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