IC行业特种气体简介.ppt

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2、paration:Epitaxial Growth(Optional),LPCVDMetal CVDPECVDSACVDAPCVDEPI,Dry Etch,特气使用,2023/11/7,特气在IC制造中的应用-原理,CVD Deposition:SiH4+N2(Carrier gas)+NH3 plasma&heat SixNy+H2+N2+other volatilesCVD Chamber clean NF3+SixNy plasma SiF4+N2+other volatile掺杂:(如 Implant/DOPOS)PH3+H2混气等刻蚀:SiO2+CF4*SiF4+CO+CO2,固态,

3、刻蚀气体,气态,可被排出硅片及腔体,主要应用：反应载气腔体清洁掺杂刻蚀,2023/11/7,特气在IC制造中的应用-分类,大宗气体 N2 O2 Ar离子注入 BF3 SF6 Xe（红磷、黄磷、金属砒霜）PR（印刷）F2 He Kr Ne扩散 H2 POCl3DRY He CF4 C4F8 C5F8 CHF3 CH2F2 Cl2 HBr BCl3 SF6 COCVD TEOS TEB TEPO PH3 ClF3 SiH2Cl2 NF3 SiH4 NH3 He N2O WF6 C2F6 TiCl4 CH4,2023/11/7,特气在IC制造中的应用-用量,一个八寸的芯片厂每年气体的使用金额约为5千

4、万元人民币。,感官认识：,国内6寸以上芯片客户不完全统计,2023/11/7,芯片厂商对客户要求,合法安全可靠的质量管理体系有效的质量监控手段稳定有效的管理团对强大的技术研发实力物流能力专用危险品仓储场所,2023/11/7,芯片厂商对特气评价流程,供应厂商的资质气体规格的确认/比较控片/实验片上基础数据的确认小量产品的实验评价中量产品的实验评价大量产品的实验评价品质管理体系的审核量产审查通过成为合格供应商,2023/11/7,IC行业有竞争力的气体公司和产品,氟碳化合物（C2F6、CF4、SF6等C1-C4产品）日本企业（昭和、住友以及大阳日酸）绿菱气体（CF4、C2F6、CHF3等）黎明化

5、工院（SF6、C2F6等）N02:林德气体NF3和WF6:718所硅烷：AP,2023/11/7,华特气体在芯片行业的竞争力,国内本土厂商:承担国家02专项项目（C2F6、CHF3）。产品种类齐全：C2F6、CF4、SF6、CHF3、C3F8、C4F8、NO（3N）、NH3、C02、CO（4N）、SiH4等。良好的品牌效应（已经供应的客户）性价比高，确实降低客户的成本快捷的物流配送（交货期短、应急反映迅速）,2023/11/7,中芯国际（8寸、12寸）,如何开发芯片行业客户,个人经验，与大家探讨。要有信心，相信自己的产品；心态很重要熟悉自己的产品（规格、用户、市场行情）如何开拓客户 信息收集（统计相关区域内的所有IC厂商）信息处理（筛选具有价值的客户）找到相关联系人（关键人：每个公司的情况不一样）与客户沟通（了解客户的使其用情况；成本、性价比、交货期等；邮件、电话、展会、拜访）维护客户（评估更多的产品；客户的口碑是最好的广告）自我总结、加强学习、提升自我,2023/11/7,谢谢！,交流时间,2023/11/7,