配位化合物合成-单晶培养.ppt
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1、配位化合物的合成与制备化学,1 配位化合物合成反应基础2 配位化合物单晶培养,广义地讲,配位化合物除经典的中心离子与其它分子或离子(配体)通过授受电子对形成配键结合而成werner型之外,还应包括许多新型的化合物,如金属配合物、夹心配合物、笼状配合物、分子氮配合物,大环配合物,金属有机化合物和簇合物。但习惯上一般把含有金属碳键的配合物称为金属有机化合物;而把含有两上以上的金属原子且分子内存在有金属金属键的配合物称为金属簇化合物(Cluster compounds或Cluster complex)。,Werner型配合物的合成,经典的Werner型配合物主要是由溶液化学发展起来。水溶液中以H2O
2、、NH3、OH、F、Cl为配体的配合物研究得最早,最充分。但非水溶液中配合物的合成应用很广;配合物的固相合成化学发展也很迅速。因此,Werner型配合物一般都是在水溶液、非水溶液或固相反应法合成的,至于选择什么合成体系,哪一种方法要取决于所研究的体系。通常的做法是首先确定一条能以高产率获得目标配合物的反应,下一步就是确定出分离配合物的合适方法。,最常用的方法是结晶,其中包括:(a)浓缩、蒸发除去溶剂,用冰盐浴等冷却,使产物析出。(b)缓慢地加入与溶剂有互相混溶,但又不能溶解目标配合物的溶剂使产物析出。(c)若目标配合物是配阳离子,可加入能与它生成难溶盐的合适阴离子将它分离出来,而要制备配阳离子
3、时,可以加入一种合适的阳离子使其分离出来。当一次结晶不能制得纯目标化合物时,还需多次结晶,使其纯化。,直接法组分交换法氧化还原反应法固相反应法包结化合物的合成大环配体模板法,Werner型配位化合物合成化学,配体和金属离子直接进行配位反应合成配合物,主要包括溶液中直接进行配位反应即溶剂法、无溶剂法、气相法、金属蒸气法及固相反应法等。作为中心原子最常用的金属化合物是无机盐(卤化物、醋酸盐、硝酸盐、高氯酸盐、硫酸盐等)、氧化物和氢氧化物等。选择过渡金属化合物时兼顾发生反应和易于与反应产物分离等特点。水是重要溶剂,混合溶剂,溶液酸度影响反映产率和产物分离,控制pH值。,直接法,按Lewis酸碱理论,
4、配合物的直接加成反应为:M:L=M:L 当溶剂也是Lewis碱时(如H2O、C5H5N),与所加成的L会发生竞争配位,因此在直接加成时一定要考虑到这一点溶液中的直接加成 在配合物合成中,提供中心原子的化合物一般是无机盐(如含氧酸盐,卤化物等),氧化物或氢氧化物。对溶剂的要求是反应物在其中能较好的溶解,但碱性要小于目标化合物中配体的碱性,这样才能保证产物在其中不发生分解(水解、醇解等),同时还要有利于产物分离。,水溶液中的直接加成 实际上是用适当的配体去取代水合配离子中的水分子。控制酸度pH值对配合物反应产率和分离有很大影响。只有价态较低的金属离子,如Cu2+,Ni2+,CO2+,Zn2+等的绝
5、大多数配合物能从水溶液中直接合成,而高价态的离子如A13+,Ti4+,Zr4+等在水溶液中与OH形成羟合配离子的倾向很大。因此,只有它们的强Lewis碱配体如F-等的配合物才能从水中直接合成。对配体而言,含氧酸根,乙酰丙酮,氨,氰和胺类的许多配合物都能从水中合成。Cu(H2O)62+4NH3=Cu(NH3)4(H2O)22+CuSO4+2K2C2O4=K2Cu(C2O4)2+K2SO4 很多配体都是有机弱酸,只有将其变为酸根,即Lewis碱后方可配位。因此,合成配合物时需加入些碱使其转型。CO(NH2)2+H2O=2NH3+CO2 CrCl3+3C5H8O2+3NH3=Cr(C5H7O2)3+
6、3NH4C1,非水溶液的直接加成 对于金属中心离子与卤素、胂、磷酸酯,膦,胺,-二酮,席夫碱,冠醚等配体的配合物一般都要在非水溶剂中合成。常用的溶剂有醇,乙醚,甲苯,丙酮,氯仿,四氢呋喃,吡啶等。有时溶剂就是目标化合物中的配体,BF3(g)+Et2OBF3OEt2Cu2O(s)+2HPF6+8CH3CN2Cu(CNCH3)4PF6+H2O上述反应就是直接在无水乙醚和乙腈中进行的。典型的合成反应例如把氟代乙酰丙酮CF3COCH2COCF3直接加到ZrCl4的CCl4悬浮液中,加热回流直到无HCl放出,可得Zr的螯合物:有时在直接加成合成时也用混合溶液,例如,溶剂法溶液中的直接配位作用:CuSO4
7、5H2O+4NH3 Cu(NH3)4SO4H2O+4H2O CrCl3 3acac Cr(acac)3 3HCl,直接法,无溶剂法:气相反应法:最典型的反应是在一定压力和温度下由CO与过渡金属粉末反应生产羰基化合物。如:Ni(s)+4CO(g)Ni(CO)4 Fe(s)+5CO(g)Fe(CO)5Mo(s)+6CO(g)Mo(CO)6 RuH2(PPh3)3+N2 RuH2(N2)(PPh3)3,直接法,金属蒸气法:在蒸发器中经高温生产很高的金属蒸气,这些活泼的金属原子与配体分子或原子在低温沉积壁上发生反应而得到配合物。该方法要求高真空、高温,对反应设备要求很高。主要用于合成低价金属配合物、金
8、属有机配合物及原子簇配合物。如由钴原子直接合成Co2(PF3)8,金属蒸气法反应器示意图,直接法,组分交换法金属交换反应:金属配合物和某种过渡金属的盐或某种过渡金属化合物之间发生金属离子的交换。配体取代反应:一定条件下,新配体可以置换原配合物中的一个、几个或全部配体,从而得到新配合物,反位效应顺序可以作为合成新配合物的指导原则,控制反应条件是提高产率的关键,配体部分取代,可获得混合配体的配合物。配体上的反应与新配合物的生成:席夫碱、戊二酮、欧氮等化合物配体和其它活泼配体,配体上可以发生化学反应,导致新配合物生成。,取代和交换反应,取代和交换反应,金属交换反应:金属配合物与其它金属的盐(或化合物
9、)之间发生金属离子交换,可以用下式表示:MLl+Mn+MLk+Mm+(l-k)L式中M可以是过渡金属也可以是非过渡金属,M是过渡金属,L是螯合配体,反应结果是生成了更加稳定的螯合物MLk,例如2Ln(NO3)3+3Ba(tfacam)=2Ln(tfacam)3+3Ba2+6NO3-tfacam=d-trifluoroacetylcamphanone,即d-三氟乙酰樟脑,取代和交换反应,配体取代反应:在一定条件下,新配体可以取代原配合物中的一个、几 个或全部配体,得到新配合物。Ni(CO)4 4PCl3 Ni(PCl3)4 4CONiCl42-+4CN-=Ni(CN)42-+4C1-Ni(H2O
10、)6 2+3bipy Ni(bipy)3 2+6H2OFe(H2O)6 2+3phen Fe(phen)3 2+6H2OCo(NH3)5ClC12 3en Co(en)3C13+5NH3K2PtCl4 en Pt(en)C12+2KClK2PtCl4 2en Pt(en)2C12+2KCl K2PdCl4 2en Pd(en)2C12+2KCl K2Pt(en)2C12 2HCl K2Pd(en)Cl2+H2enCl2,取代和交换反应,平面四边形配合物的反位效应:在平面四边形配合物(Ni、Pt、Pd等的配合物)中,反位效应顺序可以作为合成新配合物的指导原则。所谓反位效应就是指在平面正方形配合物
11、中,某配体对它对位上(即反位)的配体(离去基团)产生影响,即对其反位上的配体有活化作用,使之容易离去,也就是容易被其它配体取代。经大量实验研究二价铂的配合物反位效应顺序为CO,CN-,C2H4PR3,H-CH3-,SC(NH2)2I-,NO2-,SCN-Br-Cl-py,NH3,RNH2OH-H2O。,取代和交换反应,顺式和反式二氯二氨合铂的合成,取代和交换反应,对于含有易水解金属离子的体系,如Fe3+、Cr3+等,或者配体的配位能力较弱,在与金属离子配位时竞争不过水分子,取代反应只能在非水溶剂中进行才能够顺利完成。Cr(H2O)6Cl3 3en Cr(OH)3 3H2O 3enHClCrCl
12、3 3en Cr(en)3C13 Cr(DMF)3Cl3+2en cis-Cr(en)2C12 3DMF 常用的非水溶剂:乙腈、无水乙醇、无水甲醇、丙酮、氯仿、二氯甲烷、四氢呋喃、N,N-二甲基甲酰胺(DMF)、脂肪醚类如1,2-二甲氧基乙烷、乙醚等。,加成和消除反应:代表性的具有平面四边形配位构型的金属离子有Ni(II)、Cu(II)、Rh(I)、Ir(I)、Pd(II)、Pt(II)等,,取代和交换反应,金属单质氧化制备配合物,水溶液中金属溶解在酸中制备金属离子水合物,非水溶液中氧化金属制备配合物。低氧化态金属氧化制备高氧化态金属配合物,过渡金属高氧化态配合物由低氧化态配合物氧化配位制得,
13、氧化剂O2、X2、H2O2、KMnO4、PbO2和电化学方法。还原高氧化态金属以制备低氧化态金属配合物,还原剂H2、金属钾、钠、锌、肼、电化学方法。由高氧化态金属氧化低氧化态金属以制备中间氧化态配合物;电化学法,可以在各种溶剂中进行,不需要氧化剂和还原剂,较多的是有机弱酸和卤化物反应体系,对水解配合物更为有效;高压氧化还原反应制备配合物,过渡金属Co、Ni、Fe、Mo、W羰基配合物用CO作还原剂。,氧化还原反应,氧化还原反应,Au4HClHNO3 HAuCl4 2H2O NOPt6HCl2HNO3 H2PtCl6 4H2O 2NO 2Co(H2O)6Cl2 10NH3+2NH4Cl H2O2
14、2Co(NH3)6C13 14H2OK2Ni(CN)4 2K K4Ni(CN)4 2Pt(PPh3)2C12 4PPh3 N2H4 2Pt(PPh3)24 4HCl N2,金属单质氧化制备配合物金属溶解在酸中制备其离子的水合物是最常见的例子。如金属Ga在高氯酸中加热溶解,并冷至该混合液的沸点以下时,就有Ga(H2O)6(ClO4)3的晶体析出。Ga+3HClO4+H2O=Ga(H2O)6(ClO4)3+3/2H2在非水溶液中也常用这种方法制备配合物,例如在N2保护下的反应:Hfod=CF3CF2CF2C(OH)CHCOC(CH3)3,由低价态化合物氧化制备高价态配合物 高价态金属离子形成配合物
15、的稳定性比低价态高,很多金属的高氧化态配合物可由其低价化合物经氧化配位制得:2CoCl2+2NH4Cl+8NH3+H2O2=2Co(NH3)5ClCl2+2H2O 制备时,可将CoCl26H2O溶解在NH3NH4Cl体系里,在搅拌下缓慢滴加H2O2溶液(30),待溶液中无气泡生成时,加入浓HCl即可得到紫红色结晶状产物。常用的氧化剂有O3,O2,H2O2,X2,KMnO4,PbO2等,其中前三种在实际中的应用较多,因其不引入杂质。PbO2也很常用,因为它本身是固体,还原后生成的Pb2+在有Cl-存在时,可成为PbCl2沉淀而过滤除去。其它如KMnO4,K2Cr2O7,Ce4+化合物等,因为能引
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