新型光电子材料氧化钒.ppt
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1、新型光电子材料氧化钒,氧化钒是一种变价氧合物,例如三价(V2O3)、四价(VO2)和五价(V2O5)钒的氧化物。,氧化钒可以在半导体-金属-绝缘体之间可逆转变。,V2O3低于-123 下为半导体,高于-123 转变为金属,在金属态时外加电场或磁场将转变为绝缘体,去掉电磁场后又可逆转变为金属。VO2的临界温度为68 V2O5的临界温度为257 上述3种材料亦可掺杂,使得临界温度点和半导体的载流子浓度改变。半导体-金属-绝缘体之间的转变是高速的,在临界点附近,半导体-金属相转变时间为纳秒量级,金属-绝缘体相转变亦为纳秒量级,氧化钒系材料的光学特性临界温度以下半导体相高迁移率和透射率;临界温度以上金
2、属相对光高反射,低透过率;处于金属态时,在电场或磁场的作用下降转变为绝缘体,而当电磁场取消,又恢复到金属态即开关特性,氧化钒材料的应用方向一、智能节能玻璃 利用VO2薄膜制成的玻璃材料,低温时,可见光和红外线均可透过;高温时,仅可见光透过。,二、非制冷红外焦平面传感器材料VO2 薄膜具有高电阻温度系数、高电阻率、低热导率、低噪声系数、高动态响应和线性响应,因此VO2 目前为首选的热敏电阻型非制冷红外焦平面阵列,可以制备非制冷红外焦平面列阵的红外探测仪。今年武汉开建国内首条红外焦平面探测器生产线。,三、智能强激光防护材料利用激光辐射可激发相变的特点,将 VO2 薄膜作为红外脉冲激光的保护膜,以防
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