核磁共振波谱分析法-质子核磁共振波谱.ppt
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1、2023/10/2,第十一章 核磁共振波谱分析法,11.3.1 化学位移及其影响因素11.3.2 自旋-自旋偶合与偶合常数11.3.3 1H 核磁共振波谱的应用,第三节 质子核磁共振波谱,Nuclear magnetic resonance spectroscopy,1H NMR,2023/10/2,11.3.1 化学位移及其影响因素,一、屏蔽作用与化学位移1.屏蔽作用 理想化的、裸露的氢核,满足共振条件:0=B0/(2),产生单一的吸收峰。实际上,氢核受周围不断运动着的电子影响。在外磁场作用下,运动着的电子产生相对于外磁场方向的感应磁场,起到屏蔽作用,使氢核实际受到的外磁场作用减小:B=(1
2、-)B0:屏蔽常数。越大,屏蔽效应越大。0=/(2)(1-)B0 屏蔽的存在,共振需更强的外磁场(相对于裸露的氢核)。,2023/10/2,2.化学位移 chemical shift,0=/(2)(1-)B0 由于屏蔽作用的存在,氢核产生共振需要更大的外磁场强度(相对于裸露的氢核),来抵消屏蔽影响。,在有机化合物中,各种氢核 周围的电子云密度不同(结构中不同位置)共振频率有差异,即引起共振吸收峰的位移,这种现象称为化学位移。,2023/10/2,3.化学位移的表示方法,(1)位移的标准没有完全裸露的氢核,没有绝对的标准。,相对标准:四甲基硅烷Si(CH3)4(TMS)(内标)位移常数 TMS=
3、0(2)为什么用TMS作为基准?a.12个氢处于完全相同的化学环境,只产生一个尖峰;b.屏蔽强烈,位移最大,与有机物中质子峰不重叠;c.化学惰性,易溶于有机溶剂,沸点低,易回收。,2023/10/2,位移的表示方法,与裸露的氢核相比,TMS的化学位移最大,但规定 TMS=0,其他种类氢核的位移为负值,负号不加。,=(样-TMS)/TMS 106,小,屏蔽强,共振需要的磁场强度大,在高场出现,图右侧。大,屏蔽弱,共振需要的磁场强度小,在低场出现,图左侧。,2023/10/2,二、影响化学位移的因素,1电负性-去屏蔽效应 与质子相连元素的电负性越强,吸电子作用越强,价电子偏离质子,屏蔽作用减弱,信
4、号峰在低场出现。,2023/10/2,电负性对化学位移的影响,2023/10/2,磁各向异性效应,磁各向异性是指质子在分子中所处的空间位置不同,屏蔽作用不同的现象。,2023/10/2,苯环的磁各向异性效应,去屏蔽作用。值大(7.2),低场。,2023/10/2,双键的磁各向异性效应,C=C双键去屏蔽,低场共振,化学位移位大(=5.84),C=O去屏蔽,低场共振,化学位移位大9特征,2023/10/2,三键的磁各向异性效应,横去屏蔽,竖屏蔽,高场共振,化学位移比双键小些。=2.88,2023/10/2,单键的磁各向异性效应,沿键轴方向为去屏蔽效应。链烃中CHCH2CH3,甲基上的氢被碳取代后,
5、去屏蔽效应增大,共振频率移向低场。,2023/10/2,2.氢键效应,形成氢键后1H核屏蔽作用减少,属于去屏蔽效应。,2023/10/2,3.空间效应,2023/10/2,空间效应,Ha=3.92Hb=3.55 Hc=0.88,Ha=4.68Hb=2.40 Hc=1.10,去屏蔽效应,2023/10/2,4.各类有机化合物的化学位移,饱和烃,CH3:CH3=0.791.10CH2:CH2=0.981.54CH:CH=CH3+(0.5 0.6),H=3.24.0H=2.23.2H=1.8H=2.1H=23,2023/10/2,各类有机化合物的化学位移,烯烃,端烯质子:H=4.85.0,内烯质子:
6、H=5.15.7,与烯基,芳基共轭:H=47,芳香烃,芳烃质子:H=6.58.0,供电子基团取代OR,NR2 时:H=6.57.0,吸电子基团取代COCH3,CN时:H=7.28.0,高场强仪器,单取代出现两组复杂峰。,2023/10/2,各类有机化合物的化学位移,COOH:H=1013,OH:(醇)H=1.06.0(酚)H=412,NH2:(脂肪)H=0.43.5(芳香)H=2.94.8(酰胺)H=9.010.2,CHO:H=910,2023/10/2,常见结构单元化学位移范围,2023/10/2,一些常见结构单元的化学位移范围,2023/10/2,11.3.2 自旋-自旋偶合与偶合常数,一
7、、自旋偶合与自旋裂分,裂分的原因?有什么规律?如何表征?对结构解析有何作用?,每类氢核不总表现为单峰,有时多重峰。,2023/10/2,峰的裂分,峰的裂分原因:自旋偶合相邻两个氢核之间的自旋偶合(自旋干扰);偶合常数(J):多重峰的峰间距,用来衡量偶合作用的大小。,2023/10/2,自旋偶合,2023/10/2,自旋偶合,2023/10/2,二、峰裂分数与峰面积,峰裂分数:n+1 规律;相邻碳原子上的质子数。裂分峰强度比符合二项式的展开式系数。,峰面积与同类质子数成正比,仅能确定各类质子之间的相对比例。,2023/10/2,峰裂分数,2023/10/2,峰裂分数,1:1,1:3:3:1,1:
8、1,1:2:1,2023/10/2,峰裂分数,1H核与n个不等价1H核相邻时,裂分峰数:(n+1)(n+1)个;,(nb+1)(nc+1)(nd+1)=22 2=8,Ha裂分为8重峰,1:3:3:1,1:2:1,1:1,1:6:15:20:15:6:1,2023/10/2,峰裂分数,Ha裂分为多少重峰?,Ha裂分峰:(3+1)(2+1)=12,实际Ha裂分峰:(5+1)=6,强度比近似为:1:5:10:10:5:1,2023/10/2,三、偶合常数,裂分峰的间距称为偶合常数,用J表示(单位Hz),结构解析的重要信息。特征:,(1)J 值是核自旋之间的相互作用,与外磁场强度无关。(2)J 值的大
9、小与a,b 两组氢核之间偶合的强弱有关。(3)J 值受溶剂影响较小,一般不变化,通常氢核之间的偶合常数为030 Hz。(4)相互偶合的1H核峰间距是相等的,即J 相等。若两组1H核的峰间距相等(J 相等),则这两组1H核是互相偶合的。,2023/10/2,偶合峰的判断,(1)偶合常数(J 值)相等(2)峰形,通常两组相互偶合的峰都是相应“内侧”峰偏高,而“外侧”峰偏低,在偶合信号的强峰上画一对相应的斜线,形成屋顶形状。,2023/10/2,四、化学等价与磁等价,1.化学等价(化学位移等价)若分子中两个相同原子(或两个相同基团)处于相同的化学环境,其化学位移相同,它们是化学等价的。,化学不等价例
10、子:,对映异构体,在手性溶剂中:两个CH3化学不等价。在非手性溶剂中:两个CH3化学等价。,2023/10/2,固定在环上CH2的两个氢化学不等价。,单键不能快速旋转,则连于同一原子上的两个相同基化学不等价。,与手性碳相连的CH2的两个氢化学不等价。,2023/10/2,分子中相同种类的核(或相同基团),不仅化学位移相同,而且还以相同的偶合常数与分子中其他的核相偶合,只表现一个偶合常数,这类核称为磁等价的核。,三个H核化学等价磁等价,H核、F核化学等价,磁等价,甲基六个H核化学等价,磁等价,2.磁等价,磁等价一定是化学等价的,但化学等价的核不一定磁等价!,2023/10/2,两核(或基团)磁等
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