材料现代分析测试方法射线衍射打印.ppt
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1、第六章 X射线衍射分析,本章重点 1 相干散射与非相干散射 2 产生衍射的必要条件(布拉格方程)及充分条件 3 影响衍射线强度的因素 4 物相定性分析、定量分析的原理 5 物相定量分析方法 6 晶粒大小与X射线衍射线条宽度的关系 7 内应力的分类及在衍射图谱上的反映 本章难点 1产生衍射的条件 2影响衍射线强度的因素 3物相定量分析方法,第六章 X射线衍射分析第一节 X射线物理学基础,一、X射线的产生与性质 1.X射线的产生 高速运动着的电子突然受阻时,随着电子能量的消失和转化,就会产生X射线。,图 X射线发生装置示意图1高压变压器 2灯丝变压器 3X射线管 4阳极 5阴极 7X射线,X射线管
2、获得X射线最常用的办法,灯丝真空高压靶,2.X射线的性质,从本质上来说,X射线和无线电波、可见光、射线等一样,也是电磁波,其波长范围大约在0.011000 之间,介于紫外线和射线之间,但没有明显的分界线。,图 电磁波谱,二、X射线谱,图2 不同管压下Mo的X射线谱,X射线管发出二种谱线:连续谱 特征谱,1.连续谱 规律:各种管压下,都有一强度最大值,有一短波限(0)随管压的升高,各波长的X射线的强度一致升高,最大强度对应的波长变短,短波限变短,波谱变宽。,短波限 极限情况,电子将全部动能转化为一个光子,此光子能量最大,波长最短,相当于短波限的X射线。此光子的能量E为:,如电压U用kV为单位,波
3、长用表示,将光速c、普朗克常数h、电子电荷e值代入上式,则可得:,2.特征谱 当管压增高到某一临界值Uk时,则在连续谱上叠加特征X射线谱。刚好激发特征谱的临界管压称为激发电压。特点峰尖锐;强度高;改变管压U和管流i,波长不变,只改变强度;波长只决定于阳极靶材的原子序数;对一定材料的阳极靶,特征谱的波长是固定的;此波长可以做为阳极靶材的标志或特征,故称为特征谱或标识谱。,图 特征X射线产生原理图,产生机理,原子内层电子的跃迁。当电子能量足够大时,可以将靶材原子内层电子击出。例如,当K层中有一空位出现时(K激发态),L、M层中的电子就会跃入此空位,同时将多余的能量以X射线光子的形式释放出来。,LK
4、,MK电子跃迁,K系的K及K线;ML,NL电子跃迁,L系的L、L谱线。,同一靶材的K、L、M系谱线中,以K系谱线的波长最短,而L系谱线波长又短于M系。MLK同一线系各谱线间,如在K系谱线中,必定是:KKK,谱系 由不同外层上的电子跃迁至同一内层而辐射出的谱线属于同一线系,按跃迁所跨跃的电子能级数目多少,将这一线系的谱线分别标以、等符号。,临界激发电压 原子内层电子空位是产生特征辐射的前提,欲击出原子内层电子,比如K层电子,由阴极射来的电子的动能必须大于(至少等于)K层电子与原子核的结合能EK。只有当UUK时,受电场加速的电子动能足够大,将靶材原子的内层电子击出来,才能产生特征X射线。所以UK实
5、际上是与能级EK的数值相对应:,愈靠近原子核的内层电子的结合能愈大。需要不同的UK、UL、UM等临界激发电压。阳极靶材原子序数越大,所需临界激发电压越高。,特征X射线的辐射强度随管压U和管流i的增大而增大,K系谱线强度的经验公式为:,式中 A比例常数;UKK系谱线的临界激发电压;n常数,约为1.5。,莫塞莱定律,不同靶材的同名特征谱线,其波长随靶材原子序数Z的增大而变短。莫塞莱在1914年便发现了这一规律,并给出了如下关系式:,式中 K,常数。这个关系式就是著名的莫塞莱定律。莫塞莱定律已成为现代X射线光谱分析法的基础。各种元素的特征X射线波长见符录。,三、X射线与物质的相互作用 当X射线与物质
6、相遇时,会产生一系列效应,这是X射线应用的基础。除贯穿部分的光束外,射线能量损失在与物质作用过程之中,基本上可以归为两大类:一部分可能变成次级或更高次的X射线,即所谓荧光X射线,同时,激发出光电子或俄歇电子。另一部分消耗在X射线的散射之中,包括相干散射和非相干散射。此外,它还能变成热量逸出。,图 X射线与物质的相互作用,1.X射线的散射 沿一定方向运动的X射线光子与物质的电子相互碰撞后,向周围弹射开来X射线的散射。X射线散射分为波长不变的相干散射和波长改变的非相干散射。相干散射(经典散射)入射的X射线光子与原子内受核束缚较紧的电子(内层电子)相碰撞而弹射,光子的方向改变了,但能量几乎没有损失,
7、于是产生了波长不变的相干散射。,当入射的X射线光子与原子中受核束缚较弱的电子(如外层电子)发生碰撞时,电子被撞离原子并带走光子的一部分能量而成为反冲电子,而光子也被撞偏了一个角度2。由于入射光子一部分能量转化成为电子的动能,散射光子的能量必然小于入射光子的能量,散射波的波长大于入射波的波长。,非相干散射(量子散射),根据能量和动量守恒定律,求得散射光的波长:式中 散射线的波长(nm);入射线的波长(nm)。,2.X射线的真吸收光电效应与荧光(二次特征)辐射 当入射的X射线光量子的能量足够大时,可将原子内层电子击出,产生光电效应,被击出的电子称为光电子。被打掉了内层电子的受激原子,将发生外层电子
8、向内层跃迁的过程,同时辐射出波长严格一定的特征X射线。为了区别于电子击靶时产生的特征辐射,称这种利用X射线激发而产生的特征辐射为二次特征辐射,也称为荧光辐射。,欲激发原子产生K、L、M等线系的荧光辐射,入射的X射线光量子的能量必须大于等于K、L、M层电子与原子核的结合能EK、EL、EM,例如:,式中 K入射的X射线须具有的频率临界值;K入射的X射线须具有的波长临界值。,一旦产生光电效应,入射的X射线光子被大量吸收,所以,K以及L、M等也称为被照物质因产生荧光辐射而大量吸收入射X射线的K、L、M吸收限(可查)。,利用吸收限可计算靶材的临界激发电压,如UK:式中 UKK临界激发电压(kV);K阳极
9、靶物质的K吸收限的波长()。激发不同谱线的荧光辐射所需要的临界能量条件是不同的,所以它们的吸收限值也是不相同的。UKULUM,MLK 原子序数愈大,同名吸收限波长值愈短。在X射线衍射分析中,X射线荧光辐射是有害的,它增加衍射花样的背底,但在元素分析中,它是X射线荧光分析的基础。,原子K层电子被击出,L层电子,例如L2电子向K层跃迁,其能量差E=EK-EL2可能有二种释放形式:a.产生一个K系X射线光量子辐射;b.被邻近电子(比如另一个L2电子)或较外层电子所吸收,使之受激发而成为自由电子。第二种过程就是俄歇效应,这个自由电子就称为俄歇电子。(见图)俄歇电子常用参与俄歇过程的三个能级来命名,如上
10、所述的即为KL2L2俄歇电子。,俄歇效应,图 光电子、俄歇电子和荧光X射线三种过程示意图,KL2L2俄歇电子,3.X射线的吸收 当X射线穿过物质时,由于受到散射、光电效应等影响,强度会减弱,这种现象称为X射线的吸收。X射线的衰减规律与吸收系数 X射线穿过物质时,其强度要衰减。通过厚度为dx的无穷小薄层物质时,X射线强度相对衰减量dI/I与厚度dx成正比,即:,式中 l线吸收系数(cm-1)。l的大小与入射线波长和物质有关。,将上式积分:,式中 I0入射线强度;I穿过厚度为x的物质的X射线强度;I/I0穿透系数或透射因数。上式表明,X射线穿过物质时,其强度将随穿透深度的增加按指数规律减弱。,质量
11、吸收系数 为了避开线吸收系数l随吸收体物理状态不同而变的困难,可以用l/代替l,为吸收物质的密度,这样,上式可变为:,质量吸收系数m=l/,表示单位质量物质对X射线的吸收程度。对一定波长的X射线和一定的物质来说,m为一定值,不随吸收体物理状态的改变而变化。各元素的物质吸收系数见本书附录。,式中 m质量吸收系数(cm2.g-1)。,当吸收物质一定时,X射线的波长愈长愈容易被吸收;当波长一定时,吸收体的原子序数Z愈高,X射线被吸收得愈多。实验表明,质量吸收系数m与波长和原子序数Z存在如下函数关系:,式中 K常数。,图 铅的m-关系曲线,随值减少非单调下降;有若干个跳跃台阶;每段曲线连续变化满足上式
12、,各段间仅K值不同;吸收突变处的波长,就是吸收限。随着入射线波长的减小,光子的能量达到了能激发某个内层电子的数值,从而X射线大量地被吸收,吸收系数突然增大。,第二节 X射线衍射方向X射线与晶体相互作用X射线衍射现象。衍射花样主要受晶体结构的影响。晶体结构 衍射花样通过衍射花样的分析,就能测定晶体结构和研究与结构相关的一系列问题。衍射花样包括:衍射线方向和衍射线强度。X射线衍射理论将晶体结构与衍射花样结合起来。衍射线方向可分别用劳埃方程、布拉格方程、衍射矢量方程及厄瓦尔德图解来描述。,1.布拉格方程的导出 先考虑同一晶面上原子散线的叠加条件。一束平行的单色X射线,以角照到原子面A上,如果入射线1
13、a和1在XX处为同相位,则面上的原子P和K的散射线中,处于反射线位置的1a和1在到达YY时为同光程。这说明同一晶面上的原子的散射线,在原子面的反射线方向上是可以相互加强的。,一、布拉格方程,如果相邻两个晶面反射线的相位差为2的整数倍(光程差为波长的整数倍),则所有平行晶面的反射线可一致加强,从而在该方向上获得衍射。,图 布拉格方程的导出,入射线1照射到A晶面后,反射线为1;入射线2照射到相邻的晶面B后,反射线为2。这两束X射线到达YY处的光程差为:,如果X射线的波长为,则在这个方向上散射线相互加强的条件为:这就是著名的布拉格方程。,布拉格方程只是获得衍射的必要条件而非充分条件。上式中的为入射线
14、(或反射线)与晶面的夹角,称为掠射角或布拉格角。入射线与反射线之间的夹角为2,称为衍射角,n为整数,称为反射级数。,2.布拉格方程的讨论选择反射 将衍射看成反射,是导出布拉格方程的基础,但本质是衍射。因此,在材料的衍射分析工作中,“反射”与“衍射”作为同义词使用。X射线的晶面反射与可见光的镜面反射不同。镜面可以任意角度反射可见光,但X射线只有在满足布拉格方程的角上才能发生反射。因此,这种反射亦称选择反射。,反射级数和干涉面 布拉格方程中n为反射级数。由相邻两个平行晶面反射出的X射线束,其光程差是波长的n倍。可把方程中的n隐含在d中,得到简化的布拉格方程。假若(100)晶面能发生二级反射,则 2
15、d100sin=2,设想在(100)中插入一个晶面,指数为(200),图 反射级数示意图,相应的方程为:2d200sin=此式可写为:2(d100/2)sin=相当于将2d100sin=2右边的2移往左边。,也就是说,可以将(100)晶面的二级反射看成(200)晶面的一级反射。一般地说,把(hkl)的n级反射,看成为n(hkl)的一级反射。如果(hkl)的面间距是d,则n(hkl)的面间距是d/n。,将布拉格方程改写,将n移至方程左边,即:令dHKL=dhkl/n则:,2d200sin=2d100sin=2,这样,就把n隐含在dHKL之中,布拉格方程变成为永远是一级反射的形式。也就是说,(hk
16、l)的n级反射,可以看成来自某种虚拟的、与(hkl)晶面平行、面间距为dHKL=dhkl/n的 n(hkl)晶面的1级反射。晶面(hkl)的n级反射面n(hkl),用符号(HKL)表示,称为反射(衍射)面或干涉面。其中H=nh,K=nk,L=nl。(hkl)是晶体中实际存在的晶面,(HKL)只是为了使问题简化而引入的虚拟晶面。干涉面的面指数称为干涉指数。,衍射极限条件 产生衍射的X射线的波长有一定的限度的。由于sin1,由布拉格方程可以得出:即:上式即为晶体产生衍射的极限条件。也就是说,能够被晶体衍射的X射线的波长必须小于或等于参加反射的衍射面中最大面间距的二倍,否则晶体不会产生衍射现象。,当
17、X射线的波长一定时,中能够参与反射的衍射面的数目是有限的。只有衍射面的面间距:时,(HKL)面才能衍射X射线。说明面间距大于或等于X射线波长一半的那些干涉面才能参与反射。可见,晶体中产生的衍射线条也是有限的。很明显,当采用短波X射线时,能参与反射的干面将会增多。,衍射花样与晶体结构的关系 当一定,是面间距d的函数。而在不同晶系中,面间距d与反射面(HKL)及点阵常数的关系不同,如:立方晶系 斜方晶系 如果将上述面间距公式代入布拉格方程,得到:立方晶系 斜方晶系,可以看出,晶体所属晶系不同,对于同指数的点阵面,其衍射线方向2不同。也就是说,不同晶系或点阵参数不同的晶体,它们的衍射线空间分布的规律
18、不同,即衍射花样不同。由此可得出以下结论:衍射线分布规律完全是由晶胞形状和大小确定。根据这一原理,可以从衍射线的分布规律来测定未知晶体中晶胞的形状和大小。,二、衍射矢量方程,O为原点上的原子,A为一任意原子,位置用位置矢量OA来表示:,图 衍射矢量方程的推导,p、q、r为任意整数。,一波长为的X射线,以单位矢量S0的方向照射在晶体上,考察单位矢量S的方向产生衍射的条件。,首先确定由原子O和A的散射光线之间的相位差,以Om和An分别表示垂直于S0和S的波阵面,则经过O和A的散射线的光程差为:,相位差为:,两个波互相干涉加强的条件为相位差等于2的整数倍,即要求:,如果是矢量(SS0)/是倒易空间的
19、一个倒易矢量:代入:,即能满足衍射条件。,令K=S/,K0=S0/。K、K0表示衍射方向和入射方向的波矢量,于是衍射条件变成:,衍射条件方程为:,这就是衍射矢量方程,亦就是倒易空间衍射条件方程,它的物理意义是:当衍射矢量和入射矢量相差一个倒格矢时,衍射才能产生。,三、各种衍射方法 要想使任一给定的晶体产生衍射时,其相应的入射线波长与掠射角,必须符合布拉格方程。当用单色的X射线去照射不动的单晶体,对于面间距为d的某晶面而言,、d已恒定,而该晶面相对于X射线的掠射角亦不可变。这样三个固定的参量一般是不会满足布拉格关系的,从而不可能获得衍射。为了使衍射能够发生,必须设法使或连续可变,以便有满足布拉格
20、方程的机会。,根据实验时改变这两个量所采取的方式,可将衍射实验方法分为三种。,表 X射线衍射方法,1.劳埃法 采用连续的X射线照射不动的单晶体。因波长连续可变,故可从中挑选出其波长满足布拉格关系的X射线使产生衍射。劳埃法是劳埃1912年首先提出的,是最早的X射线,图 劳埃法图,分析方法,它用垂直于入射线的平板底片记录衍射线而得到劳埃斑点。目前劳埃法多用于单晶取向测定及晶体对称性的研究。,2.转晶法 采用单色X射线照射转动的单晶体,并用一张以旋转轴为轴的圆筒形底片来记录。转晶法是入射线波长不变,而靠旋转单晶体以连续改变各晶面与入射X射线的角来满足布拉格方程的要求。,图 转晶法,即当晶体不断旋转时
21、,某组晶面会于某瞬间和单色的入射线束的夹角正好满足布拉格方程,于是该瞬间便产生一根衍射线束。,转晶法通常选择晶体某一已知点阵直线为旋转轴,入射X射线与之相垂直,衍射花样呈层线分布。转晶法可确定晶体在旋转轴方向上的点阵周期,通过多个方向上点阵周期的测定,就可确定晶体的结构。,3.粉末法 采用单色X射线照射多晶试样。利用多晶试样中的各个微晶不同取向来改变,以满足布拉格方程的要求。粉末法是衍射分析中最常用的方法。大多数材料的粉末或多晶体块、板、丝、棒等均可直接用作试样,且其衍射花样又可提供甚多的分析资料。,粉末法主要用于测定晶体结构,进行物相定性、定量分析,精确测定晶体的点阵参数以及材料的应力、织构
22、、晶粒大小的测定等等。,目前最具实用性的是用计数器测定衍射X射线,这就是X射线衍射仪测量。,图 粉末法,粉末法是各种多晶体X射线衍射分析的总称,其中以德拜-谢乐法最具典型,它用窄圆筒底片来记录衍射花样。,四、非理想条件下的衍射 布拉格方程的推导中,假设某些理想条件:即一个完善的晶体、入射光严格单色、完全平行。加强条件为:相邻点阵面散射光的程差必须恰好为波长的整数倍。首先,我们详细地考虑在衍射光束以外的方向上是如何相消的。如果相邻点阵面散射光程差为半个波长,就产生相消干涉。,如果光程差是四分之一波长时,第一层和第二层点阵面所散射的光线并不能彼此抵消,而是形成一个振幅较同相位时合成的振幅为小的光束
23、。这种情况的相消干涉又是如何进行的?第二层和第三层的散射光线程差为四分之一波长,意味着第一层和第三层点阵面所散射的光线程差正好是二分之一波长,于是它们完全抵消。由第二层和第四层点阵面、第三层与第五层点阵面、等等,以至整个晶体都是完全反相位的。结果便产生了相消干涉,而没有衍射光束。由此可见,相消干涉正如相长干涉,同样都是原子排列周期性所引起的结果。,现在来看一个极端的例子:如果由头两层点阵面所散射的光线,其程差与波长的整数倍相差极微,则只有位于晶体深处的某一点阵面的散射光线与第一层点阵面的散射光线反相位。倘若晶体很小,致使该点阵面不存在,这样就不能使所有的散射线完全抵消。假设晶体在垂直于某反射面
24、的方向上,其厚度为L,共有(N3+1)个点阵面,面间距为d,L=N3 d,图 实际晶体的衍射强度曲线,图 晶块大小对衍射强度的影响,当入射线沿布拉格角入射时,相邻晶面散射线的光程差为一个波长:而从最下面的晶面反射的光线与最上面的晶面反射的光线的光程差为N3,即:这些光相互加强,合成一根最强的衍射光线Imax。,当光线呈一个稍大于的角度1入射时,设最下层的反射线与最上层的反射线程差为(N3+1),它们是同相位的,这就意味着在晶体中间正好有一个点阵面散射线与最上层的散射线是反相位的,从而这两条光线相互抵消,而在整个晶体其它相似点阵面偶上的散射线也同样地互相抵消。总的效应是上半个晶体各层晶面散射线被
25、下半个晶体各层晶面散射线抵消。因此,在21角上衍射线强度为0。,同样,比稍小角度2入射的光线,最上层与最下层衍射线程差为(N3-1),在22角上衍射线强度也为0。,而当入射线角度大于2,又小于1,则衍射线强度将不为0,而是介于0与Imax之间。,用峰的半高宽表示峰的宽度,可以近似地认为:,按1、2角入射光产生的反射线光程差方程是:两式相减即得:即:,考虑到1、2偏离值很少,可以认为:得到:代入:得:,更精确地处理时,便得到:这就是谢乐公式。说明了衍射线宽度与晶块在反射晶面法线方向上尺度成反比。利用它可测定晶块大小。,第三节 X射线衍射强度,在分析中经常会涉及衍射线强度问题。如,物相定量分析,固
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