场效应管及其基本.ppt
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1、第3章 场效应管及其基本电路,31 结型场效应管 32 绝缘栅场效应管(IGFET)33 场效应管的参数和小信号模型34 场效应管放大器,31结型场效应管,311结型场效应管的结构及工作原理 结型场效应管(JunctionFieldEffectTransistor)简称JFET,有N沟道JFET和P沟道JFET之分。图31给出了JFET的结构示意图及其表示符号。,图31结型场效应管的结构示意图及其表示符号(a)N沟道JFET;(b)P沟道JFET,N沟道JFET,是在一根N型半导体棒两侧通过高浓度扩散制造两个重掺杂P+型区,形成两个PN结,将两个P+区接在一起引出一个电极,称为栅极(Gate)
2、,在两个PN结之间的N型半导体构成导电沟道。在N型半导体的两端各制造一个欧姆接触电极,这两个电极间加上一定电压,便在沟道中形成电场,在此电场作用下,形成由多数载流子自由电子产生的漂移电流。我们将电子发源端称为源极(Source),接收端称为漏极(Drain)。在JFET中,源极和漏极是可以互换的。,如图32所示,如果在栅极和源极之间加上负的电压UGS,而在漏极和源极之间加上正的电压UDS,那么,在UDS作用下,电子将源源不断地由源极向漏极运动,形成漏极电流ID。因为栅源电压UGS为负,PN结反偏,在栅源间仅存在微弱的反向饱和电流,所以栅极电流IG0,源极电流IS=ID。这就是结型场效应管输入阻
3、抗很大的原因。,当栅源负压UGS加大时,PN结变厚,并向N区扩张,使导电沟道变窄,沟道电导率变小,电阻变大,在同样的UGS下,ID变小;反之,|UGS|变小,沟道变宽,沟道电阻变小,ID变大。当|UGS|加大到某一负压值时,两侧PN结扩张使沟道全部消失,此时,ID将变为零。我们称此时的栅源电压UGS为“夹断电压”,记为UGSoff。可见,栅源电压UGS的变化,将有效地控制漏极电流的变化,这就是JFET最重要的工作原理。,图32栅源电压UGS对沟道及ID的控制作用示意图(a)UGS=0,沟道最宽,ID最大;(b)UGS负压增大,沟道变窄,ID减小;(c)UGS负压进一步增大,沟道夹断,ID=0,
4、图32栅源电压UGS对沟道及ID的控制作用示意图(a)UGS=0,沟道最宽,ID最大;(b)UGS负压增大,沟道变窄,ID减小;(c)UGS负压进一步增大,沟道夹断,ID=0,图32栅源电压UGS对沟道及ID的控制作用示意图(a)UGS=0,沟道最宽,ID最大;(b)UGS负压增大,沟道变窄,ID减小;(c)UGS负压进一步增大,沟道夹断,ID=0,312结型场效应管的特性曲线 一、转移特性曲线 转移特性曲线表达在UDS一定时,栅源电压uGS对漏极电流iD的控制作用,即,(31),理论分析和实测结果表明,iD与uGS符合平方律关系,即,(32),式中:IDSS饱和电流,表示uGS=0时的iD值
5、;UGSoff夹断电压,表示uGS=UGSoff时iD为零。转移特性曲线如图33(a)所示。为了使输入阻抗大(不允许出现栅流iG),也为了使栅源电压对沟道宽度及漏极电流有效地进行控制,PN结一定要反偏,所以在N沟道JFET中,uGS必须为负值。,图33JFET的转移特性曲线和输出特性曲线(a)转移特性曲线;(b)输出特性曲线,图33JFET的转移特性曲线和输出特性曲线(a)转移特性曲线;(b)输出特性曲线,二、输出特性曲线 输出特性曲线表达以UGS为参变量时iD与uDS的关系。如图33(b)所示,根据特性曲线的各部分特征,我们将其分为四个区域:1.恒流区 恒流区相当于双极型晶体管的放大区。其主
6、要特征为:(1)当UGSoffUGS0时,uGS变化,曲线平移,iD与uGS符合平方律关系,uGS对iD的控制能力很强。,(2)UGS固定,uDS增大,iD增大极小。说明在恒流区,uDS对iD的控制能力很弱。这是因为,当uDS较大时,UDG增大,靠近漏区的PN结局部变厚,当|uDS-uGS|UGSoff|(33)时,沟道在漏极附近被局部夹断(称为预夹断),如图34(b)所示。此后,uDS再增大,电压主要降到局部夹断区,而对整个沟道的导电能力影响不大。所以uDS的变化对iD影响很小。,2.可变电阻区 当uDS很小,|uDS-uGS|UGSoff|时,即预夹断前(如图34(a)所示),uDS的变化
7、直接影响整个沟道的电场强度,从而影响iD的大小。所以在此区域,随着uDS的增大,iD增大很快。与双极型晶体管不同,在JFET中,栅源电压uGS对iD上升的斜率影响较大,随着|UGS|增大,曲线斜率变小,说明JFET的输出电阻 变大。如图3-3(b)所示,图34 uDS对导电沟道的影响,3.截止区 当|UGS|UGSoff|时,沟道被全部夹断,iD=0,故此区为截止区。若利用JFET作为开关,则工作在截止区,即相当于开关打开。4.击穿区 随着uDS增大,靠近漏区的PN结反偏电压uDG(=uDS-uGS)也随之增大。,32 绝缘栅场效应管(IGFET),321 绝缘栅场效应管的结构 如图35所示,
8、其中图(a)为立体结构示意图,图(b)为平面结构示意图。,图35绝缘栅(金属-氧化物-半导体)场效应管结构示意图(a)立体图;(b)剖面图,图35绝缘栅(金属-氧化物-半导体)场效应管结构示意图(a)立体图;(b)剖面图,322N沟道增强型MOSFET(EnhancementNMOSFET)一、导电沟道的形成及工作原理 如图36所示,若将源极与衬底相连并接地,在栅极和源极之间加正压UGS,在漏极与源极之间施加正压UDS,我们来观察uGS变化时管子的工作情况。,图36N沟道增强型MOS场效应管的沟道形成及符号,图36N沟道增强型MOS场效应管的沟道形成及符号,二、转移特性 N沟道增强型MOSFE
9、T的转移特性如图37所示。其主要特点为:(1)当uGSUGSth时,iD 0,uGS越大,iD也随之增大,二者符合平方律关系,如式(34)所示。,(34),图 3-7 N 沟道增强型MOSFET的转移特性,式中:UGSth开启电压(或阈值电压);n沟道电子运动的迁移率;Cox单位面积栅极电容;W沟道宽度;L沟道长度(见图35(a);W/LMOS管的宽长比。在MOS集成电路设计中,宽长比是一个极为重要的参数。,三、输出特性 N沟道增强型MOSFET的输出特性如图38所示。与结型场效应管的输出特性相似,它也分为恒流区、可变电阻区、截止区和击穿区。其特点为:(1)截止区:UGSUGSth,导电沟道未
10、形成,iD=0。,图38输出特性(a)输出特性;(b)厄尔利电压,图38输出特性(a)输出特性;(b)厄尔利电压,(2)恒流区:曲线间隔均匀,uGS对iD控制能力强。uDS对iD的控制能力弱,曲线平坦。进入恒流区的条件,即预夹断条件为,(35),因为UGD=UGS-UDS,当UDS增大,使UGDUGSth时,靠近漏极的沟道被首先夹断(如图39所示)。此后,UDS再增大,电压的大部分将降落在夹断区(此处电阻大),而对沟道的横向电场影响不大,沟道也从此基本恒定下来。所以随UDS的增大,iD增大很小,曲线从此进入恒流区。,图39 uDS增大,沟道被局部夹断(预夹断)情况,沟道调制系数。不同UGS对应
11、的恒流区输出特性延长会交于一点(见图3-8(b),该点电压称为厄尔利电压UA。定义沟道调制系数 来表达uDS对沟道及电流iD的影响。显然,曲线越平坦,|UA|越大,越小。,(36),考虑uDS对iD微弱影响后的恒流区电流方程为,但由于1,沟道调制效应可忽略,则,(3)可变电阻区:可变电阻区的电流方程为,(38),(37b),(37a),可见,当uDS(uGS-UGSth)时(即预夹断前),那么,可变电阻区的输出电阻rDS为,式(310)表明,uGS越大,rDS越小,体现了可变电阻,(310),(39),323 N沟道耗尽型MOSFET(DepletionNMOSFET)增强型N沟道MOSFET
12、在uGS=0时,管内没有导电沟道。而耗尽型则不同,它在 uGS=0时就存在导电沟道。因为这种器件在制造过程中,在栅极下面的SiO2绝缘层中掺入了大量碱金属正离子(如Na+或K+),形成许多正电中心。这些正电中心的作用如同加正栅压一样,在P型衬底表面产生垂直于衬底的自建电场,排斥空穴,吸引电子,从而形成表面导电沟道,称为原始导电沟道。,由于uGS=0时就存在原始沟道,所以只要此时uDS0,就有漏极电流。如果uGS 0,指向衬底的电场加强,沟道变宽,漏极电流iD将会增大。反之,若uGS 0,则栅压产生的电场与正离子产生的自建电场方向相反,总电场减弱,沟道变窄,沟道电阻变大,iD减小。当uGS继续变
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