模拟电子第五版康光华第五章场效应管放大电路.ppt
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1、电子技术基础,主讲:孙 静,模拟部分,第13讲,电气信息学院电工电子基础教研室,5.1 金属-氧化物-半导体(MOS)场效应管,5.2 MOSFET放大电路,第五章 场效应管放大电路,5.3 结型场效应管(JFET),*5.4 砷化镓金属-半导体场效应管,5.5 各种放大器件电路性能比较,学习指导,第五章 场效应管放大电路,场效应管:通过改变外加电压产生的电场强度-控制其导电能力。优点:体积小、重量轻、耗电少、寿命长,还具有输入电阻高、热稳定性好、噪声低、便于集成等特点。在大规模集成电路中广泛应用。分类:根据结构不同,可分为结型场效应管(JFET)、绝缘栅型场效应管(IGFET)。,第五章 场
2、效应管放大电路,5.1 金属-氧化物-半导体(MOS)场效应管,5.1.1 N沟道增强型MOSFET,5.1.5 MOSFET的主要参数,5.1.2 N沟道耗尽型MOSFET,5.1.3 P沟道MOSFET,5.1.4 沟道长度调制效应,1.结构(N沟道),第五章 场效应管放大电路,5.1.1 N沟道增强型MOSFET,L:沟道长度,W:沟道宽度,tox:绝缘层厚度,通常 W L,1.结构(N沟道),第五章 场效应管放大电路,5.1.1 N沟道增强型MOSFET,符号,剖面图,2.工作原理,第五章 场效应管放大电路,5.1.1 N沟道增强型MOSFET,(1)VGS对沟道的控制作用,当vGS0
3、时,无导电沟道,d、s间加电压时,总有一个PN结反偏,无电流产生。,产生电场,但未形成导电沟道(感生沟道),d、s间加电压后,没有电流产生。,当vGS VT 时,在电场作用下产生导电沟道,d、s间加电压后,将有电流产生。,vGS越大,导电沟道越厚。,VT 称为开启电压,当0vGS VT 时(电场吸引电子),2.工作原理,第五章 场效应管放大电路,5.1.1 N沟道增强型MOSFET,(2)VDS对沟道的控制作用,当v GS一定(v GS VT)时,,ID,沟道电位梯度,靠近漏极d处的电位升高,沟道变薄,电场强度减小,整个沟道呈楔形分布,2.工作原理,第五章 场效应管放大电路,5.1.1 N沟道
4、增强型MOSFET,(2)VDS对沟道的控制作用,当v GS一定(v GS VT)时,,v DS,ID,沟道电位梯度,当v DS增加到使v GD=VT 时,在紧靠漏极处出现预夹断。,在预夹断处:v GD=vGS-vDS=VT,2.工作原理,第五章 场效应管放大电路,5.1.1 N沟道增强型MOSFET,(2)VDS对沟道的控制作用,预夹断后,v DS,夹断区延长,沟道电阻,ID基本不变,2.工作原理,第五章 场效应管放大电路,5.1.1 N沟道增强型MOSFET,(3)vDS和vGS同时作用时,vDS一定,vGS变化时,给定一个vGS,就有一条不同的ID vDS 曲线。,3.V-I 特性曲线及
5、特性方程,第五章 场效应管放大电路,5.1.1 N沟道增强型MOSFET,(1)输出特性及特性方程,1)截止区 当v GSVT时,导电沟道尚未形成,I D0,为截止工作状态。,3.V-I 特性曲线及特性方程,第五章 场效应管放大电路,5.1.1 N沟道增强型MOSFET,(1)输出特性及特性方程,2)可变电阻区 vDS(vGSVT),由于vDS较小,可近似为:,R dso是一个受 vGS控制的可变电阻,3.V-I 特性曲线及特性方程,第五章 场效应管放大电路,5.1.1 N沟道增强型MOSFET,(1)输出特性及特性方程,2)可变电阻区,其中,Kn为电导常数,单位:mA/V2,受,控制的可变电
6、阻,3.V-I 特性曲线及特性方程,第五章 场效应管放大电路,5.1.1 N沟道增强型MOSFET,(1)输出特性及特性方程,3)饱和区(恒流区又称放大区),v GS VT,且v DS(v GSVT),是v GS2VT时的iD,3.V-I 特性曲线及特性方程,第五章 场效应管放大电路,5.1.1 N沟道增强型MOSFET,(2)转移特性,1.结构和工作原理(N沟道),第五章 场效应管放大电路,5.1.2 N沟道耗尽型MOSFET,二氧化硅绝缘层中掺有大量的正离子,可以在正或负的栅源电压下工作,而且基本上无栅流,2.V-I 特性曲线及大信号特性方程,第五章 场效应管放大电路,5.1.2 N沟道耗
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