《数字逻辑》第3章门电路.ppt
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1、数字逻辑,北航计算机学院艾明晶 牛建伟,2,第3章 门电路,本章补充常用半导体器件基础知识;介绍晶体二极管、三极管的稳态开关特性;分立元件门;TTL与非门,OC门,三态门;MOS管,MOS门等内容。介绍门电路的电路结构、工作原理及逻辑功能,以及基于Verilog HDL的门电路设计。,3.1 概述 3.2 常用半导体器件(补充)3.3 晶体二极管和三极管的开关特性3.4 分立元件门3.5 数字集成电路的主要性能参数(补充)3.6 TTL集成门3.7 MOS集成门3.8 基于Verilog HDL的门电路设计,共7学时,3,本章重点,晶体管的稳态开关特性;门电路的逻辑功能;数字集成电路的主要性能
2、参数及其含义;基于Verilog HDL设计门电路的方法。,4,3.1 概述,“门电路”是能实现某种逻辑关系的电路,它是数字电路的基本逻辑单元电路。基本的逻辑门有与门、或门、非门,复合逻辑门有与非门、或非门、与或非门、异或门等。逻辑门主要分为两类分立元件门:由电阻、二极管、三极管等分立元件构成;集成门:把构成门电路的基本元件制作在一小片半导体芯片上。集成反相器、缓冲器,集成与门、与非门,集成或门、或非门,集成异或门,集成三态门,5,集成电路与数字集成电路,集成电路(Integrated Circuit,IC):把若干个有源器件和无源器件及其连线,按照一定的功能要求,制作在一块半导体基片上,这样
3、的电路称为集成电路。集成电路相比分立元件电路的优点体积小、耗电省、重量轻、可靠性高,数字电路:对数字信号进行算术运算和逻辑运算的电路数字集成电路:在一块半导体基片上,把众多的数字电路基本单元制作在一起形成的数字电路。,6,数字集成电路的分类,早期的划分方法单位芯片面积上集成门电路的个数(1)小规模ICSSI(Small Scale Integration),含1 10门(2)中规模ICMSI(Medium Scale Integration),含10 100门(3)大规模ICLSI(Large Scale Integration),含100 1000门(4)超大规模ICVLSI(Very La
4、rge Scale Integration),含1000门以上,1、按集成度分类,这种划分方法现在已过时!,7,2、按制造工艺分类,(1)双极型IC:晶体三极管中两种载流子(空穴和自由电子)参与导电基本开关元件:晶体三极管常见双极型IC:TTL(Transister-Transister Logic,晶体管-晶体管逻辑)、ECL(Emitter Coupled Logic,发射极耦合逻辑)、HTL(High Threshold Logic,高阈值逻辑)、I2L(Integrated Injection Logic,集成注入逻辑)集成电路特点:速度快,但集成度较单极型IC低(2)单极型IC:MO
5、S晶体管中只有一种载流子(空穴或自由电子)参与导电基本开关元件:MOS晶体管常见单极型IC:PMOS、NMOS、CMOS(Complementary Symmetry Metal Oxide Semiconductor,互补对称金属氧化物半导体)集成电路特点:功耗低,集成度高,但速度较双极型IC低,8,我们为什么要学习门电路?,门电路是组合逻辑电路、触发器、时序逻辑电路、程序逻辑电路的理论基础要学好后面的电路,必须先了解门电路的电路结构、工作原理及逻辑功能组合逻辑电路是由各种逻辑门以一定的方式组合在一起构成的数字典路。触发器是由多个逻辑门(大多是与非门)交叉耦合构成的。时序逻辑电路是由组合逻辑
6、电路和触发器构成的。程序逻辑电路主要由控制电路(计数器、寄存器等,译码器、运算器等)和存储器(地址译码器、存储矩阵和输出控制电路)构成。,9,门电路与后续电路的关系示意图,组合逻辑电路,逻辑门组合,触发器,逻辑门交叉耦合,时序逻辑电路,组合逻辑电路,触发器,逻辑门组合,逻辑门交叉耦合,程序逻辑电路,控制电路,存储器,计数器、寄存器等,译码器、运算器等,地址译码器,存储矩阵,输出控制电路,若干存储单元(三极管或MOS管)构成,三态缓冲器,10,3.2 常用半导体器件(补充),3.2.1 半导体基础知识3.2.2 PN结3.2.3 半导体二极管3.2.4 半导体三极管,内容概要,11,3.2.1
7、半导体基础知识,导电能力介于导体和绝缘体之间的物体称为半导体。如:硅(Si)、锗(Ge)、硒(Se)以及大多数金属氧化物和硫化物。,半导体特性,1.热敏特性:温度导电能力可做成各种热敏元件,2.光敏特性:受光照导电能力可做成各种光电器件,3.纯净的半导体掺入微量杂质导电能力(几十万几百万倍)可制做半导体器件。如半导体二极管、三极管、场效应管及晶闸管等。,12,半导体的共价键结构,原子由具有正电荷的原子核和带负电荷的电子组成。电子按一定规律分布在核外的不同壳层上,最外壳层上的电子称为价电子。硅和锗都有4个价电子,都是四价元素。两个相邻的原子之间都有一对电子,任何一个电子,部分时间绕自身原子核运动
8、,另部分时间出现在相邻原子的轨道上,电子不再固定属于某一个原子,而是为两个原子所共有原子间的电子共有化结构称为共价键。,半导体的共价键结构,硅原子,价电子,共价键有很强的结合力,单晶中的价电子不是自由电子,仍是束缚电子,不能参与导电;但在一定温度下,少数电子有可能挣脱束缚成为自由电子。,13,几个基本概念,热激发,产生电子-空穴对由于热运动的能量使共价键破坏,晶体中产生了能运载电荷的粒子即电子和空穴,这种物理现象称为热激发。无电场作用时,电子和空穴的运动都是随机的、不规则的,不形成电流。外电场作用下,电子逆电场方向运动,空穴沿电场方向运动,形成电流。载流子能运载电荷的粒子自由电子由于热运动,少
9、数价电子获得足够的能量挣脱共价键的束缚成为自由电子。带负电空穴某价电子挣脱共价键的束缚成为自由电子,在相应共价键位置上少了一个电子而留下一个空位置,称为空穴。带正电,也像自由电子一样,能在晶体中自由运动。,载流子的产生与复合热激发同时,还有载流子的复合过程:电子会与空穴相遇,电子与空穴一起消失。在一定温度下,载流子的产生与复合达到动态平衡,晶体中的电子-空穴对维持在一定的数目。,14,常温下自由电子和空穴的产生与复合,+4,+4,+4,+4,+4,+4,+4,+4,+4,自由电子,空穴,成对出现,成对消失,自由电子和空穴称为载流子,15,半导体的分类,半导体分为2类本征半导体指不含有杂质的、完
10、全纯净的半导体。靠热激发的载流子数目有限,导电能力差。杂质半导体:通过扩散工艺,在本征半导体中掺入微量特定元素而形成杂质半导体。载流子数目剧增,导电能力强。P(Positive)型半导体在纯净的硅或锗晶体中掺入微量的三价元素(如硼或铟),导电以空穴为主N(Negtive)型半导体在纯净的硅或锗晶体中掺入微量五价元素(如磷或砷),导电以自由电子为主,在外电场作用下,电子和空穴均能参与导电。这是半导体导电与导体导电最本质的区别。,半导体中占多数的载流子称为多子;占少数的载流子称为少子。,16,杂质半导体 N型半导体结构示意图,在N型半导体中,自由电子是多数载流子,空穴是少数载流子。,17,杂质半导
11、体 P型半导体结构示意图,少数载流子,多数载流子,在P型半导体中,空穴是多数载流子,自由电子是少数载流子。,18,半导体中载流子的两种运动方式,2、扩散运动即使没有电场,由于载流子的浓度分布不均匀,也会发生载流子的定向运动从浓度高的区域向浓度低的区域扩散,扩散运动形成的电流称为扩散电流,它正比于载流子的浓度梯度。,1、漂移运动载流子在电场中的定向运动称为漂移,由漂移形成的电流称为漂移电流。半导体中电子逆电场方向定向运动,空穴沿电场方向定向运动,形成半导体总的漂移电流。,半导体中的电流为漂移电流和扩散电流之和。,19,3.2.2 PN结,P 区,N 区,空间电荷区(PN结),内电场方向,少子漂移
12、,多子扩散运动方向,(1)PN结的形成(漂移、扩散),将P型半导体和N型半导体制作在一起,由于浓度差的原因,P型半导体的空穴扩散进入N区,与N区的电子复合;N型半导体的电子扩散进入P区,与P区空穴复合,则在交界面处形成一个PN结。,20,(2)PN结的正向偏置与反向偏置,在PN结两端施以外电压,称为给PN结以偏置。若外部电压的正极接P区(即PN结内电场的负极),负极接N区(即PN结内电场的正极),则称为正向偏置(正偏置);反之为反向偏置(反偏置)。,PN结最重要的特性:在正偏置和反偏置时表现出完全不同的电流属性。,未加偏置时,PN结是平衡的,多子的扩散电流与少子的漂移电流平衡(大小相等、方向相
13、反),PN结内无宏观电流。如需PN结产生宏观电流,必须设法破坏其扩散与漂移间的平衡。,正向偏置,21,PN结的单向导电性,PN结正向偏置时,外电场与内电场方向相反,空间电荷区变窄,有利于多子的扩散。多子的扩散运动超过内电场作用下的少子的漂移运动,在PN结内形成了以扩散电流为主的正向的宏观电流IF;该正向电流较大,PN结处于导通状态;PN结反向偏置时,外电场与内电场方向一致,使空间电荷区变宽,多子的扩散运动受阻,少子的漂移运动超过多子的扩散运动,在PN结内形成了以漂移电流为主的反向电流IR。该反向电流很小,约等于0,PN结截止。,22,3.2.3 半导体二极管,半导体二极管(晶体二极管)是在PN
14、结两侧的中性区上各引出一个欧姆接触的金属电极构成的。二极管按结构分为点接触型、面接触型和平面型二极管。按材料划分为硅管和锗管。,点接触型二极管的结构,产品外形,二极管符号,23,二极管的伏安特性,硅管的伏安特性,反向特性,死区,IS,正向特性,击穿电压UBR,开启电压 Uon,iD=f(uD),+uD,描述了二极管的外特性,即管子电流与电压的关系。二极管对正偏置和反偏置具有截然不同的特性。,24,二极管的伏安特性(续),死区电压(开启电压)Uon,Si 管:0.5V左右Ge管:0.1V左右,导通电压,Si 管:0.6V0.8VGe管:0.2V0.3V,二极管的伏安特性受温度的影响。如当环境温度
15、升高时,二极管的正向特性曲线左移,反向特性曲线下移。,二极管方程,IS:反向饱和电流。UT:温度的电压当量。常温下,即T=300K(270C)时,UT=26mV。,注意,在反向段:当|uD|UT时,iD IS,25,3.2.4 半导体三极管,半导体三极管又称晶体(三极)管。由两层N型半导体中间夹一层P型半导体(NPN型)或两层P型半导体中间夹一层N型半导体(PNP型)组成。,按结构划分,NPN型,按材料划分,硅管,按功率划分,大功率管,按频率划分,高频管,按用途划分,放大管,PNP型,锗管,小功率管,低频管,开关管,1、半导体三极管的分类,常用三极管的外形图,26,NPN型三极管,集电区,集电
16、结,基区,发射结,发射区,集电极C,基极B,发射极E,符号,结构有3个电极,3个区,两个背向的PN结,发射极箭头的方向表示发射结正偏时的电流方向,Ic,Ib,Ie,27,PNP型三极管,集电区,集电结,基区,发射结,发射区,集电极C,发射极E,基极B,结构,符号,Ic,Ib,Ie,28,2、三极管的3种接法,(1)共发射极接法,(2)共集电极接法,(3)共基极接法,不同的接法具有不同的电路特性,但管子的工作原理都是相同的。为使晶体管正常地放大工作,必须给它以正确的偏置,即发射结正偏,集电结反偏。,29,3、三极管的电流放大(控制)作用,电流放大的概念以NPN管共发射极接法为例。,输出回路,输入
17、回路,VCCVBB,调节RB,观察IB、IC及IE的变化。,结论,(1)IC、IE比IB大得多。,(2),称为电流放大倍数IB很小的变化可引起IC很大的变化,即IC受IB控制三极管的电流控制作用。,30,三极管内载流子的运动,IE,IB,IC,N,P,N,VBB正极拉走电子,补充被复合的空穴,形成 IB,VCC,RC,VBB,RB,ICBO,了解即可!,发射区,基区,集电区,集电结反偏,少子的漂移运动得到加速,形成反向饱和电流,31,三极管内载流子的运动(续),晶体管内载流子的运动可概括为:注入-扩散-收集。1 发射区向基区注入电子由于发射结正偏,发射区的多子(电子)向基区扩散,基区的多子(空
18、穴)向发射区扩散。由于发射区掺杂浓度很高,所以基区的空穴流与发射区的电子流相比可忽略不计,形成的扩散电流以发射区的电子流为主。2 电子在基区扩散与复合在扩散过程中,电子不断与基区中的多子空穴复合而消失。由于基区很薄,电子复合的机会不多,仅很少一部分被复合,绝大多数电子扩散到集电结的边缘。3 集电区收集电子由于集电结反偏,其电场将阻止集电区和基区中多子的扩散运动,但各自的少子的漂移运动却得到加速,扩散到达集电结边缘的电子,受集电结电场的吸引而为集电区收集。,由于集电结反偏,基区的电子及集电区的空穴的漂移运动得到加速,形成反向饱和电流ICBO。,32,三极管电流控制作用的外部条件,三极管具有电流控
19、制作用的外部条件:(1)发射结正向偏置;(2)集电结反向偏置。,NPN型三极管应满足:UBE 0UBC VB VE,PNP型三极管应满足:UEB 0UCB 0即 VC VB VE,33,3.3 晶体二极管和三极管的开关特性,3.3.1 晶体二极管的开关特性3.3.2 晶体三极管的开关特性,内容概要,34,3.3.1 晶体二极管的开关特性,一个PN结就是一只晶体二极管,记作D。,二极管特性:正向导通,反向截止单向导电性受外加电压极性控制的开关,半导体器件的开关特性:有导通和截止两种状态,导通状态下允许电信号通过,截止状态下禁止电信号通过。静态特性(稳态开关特性):器件稳定在导通和截止两种状态下的
20、特性;动态特性(瞬态开关特性):器件在状态发生变化(如导通到截止或截止到导通)过程中的特性。,35,二极管的稳态开关特性(1/3),(1)实际开关的特性,S闭合时:RS=0,US=0,IS=Vi/R,S断开时:RS=,US=Vi,IS=0,D正偏时:D导通,RD=0,UD=0,ID=Vi/R相当于开关闭合,(2)理想二极管的开关特性,二极管稳态开关特性:二极管稳定在正向导通和反向截止两种状态下的特性。,36,二极管的稳态开关特性(2/3),(3)实际二极管的开关特性(伏安特性),特性:UD0(反偏和零偏)时D截止,有一个小的反向饱和电流IS;,UD0时,ID以指数规律上升,但UDVD时,ID很
21、小,D仍截止;UDVD(钳位电压)时D导通,D导通时UD=VD,不变钳位特性;VD(锗)=0.2 0.3V;VD(硅)=0.5 0.7V(0.7V),反向电压超过VZ时D被击穿,UD基本=VZ,不变,理想二极管的开关特性,37,二极管的稳态开关特性(3/3),硅二极管的稳态开关特性当加在二极管上的电压UDVD(0.7V)时,二极管截止,ID=0;当UDVD(0.7V)时,二极管导通,而且一旦导通,则UD=VD(0.7V)不变。这里0.7V称为硅二极管的钳位电压。,38,3.3.2 晶体三极管的开关特性,在模拟电路中,晶体三极管主要作为线性放大元件和非线性元件;在数字电路中,主要作为开关元件。晶
22、体管共发射极电路放大能力强,也即控制能力强,只要在输入端加上两种不同幅值的信号,就可以控制晶体管的导通或截止。这里以NPN管共发射极电路为例,分析晶体三极管的稳态开关特性。作为开关电路,晶体三极管主要工作在截止区和饱和区。三极管的稳态开关特性是指三极管稳定在截止和饱和导通两种状态下的特性。,39,晶体三极管的稳态开关特性(1/4),三极管开关条件:当Vi为低电平时,T截止,开关断开,输出为高电平;当Vi为高电平时,T饱和导通,开关闭合,输出为低电平。,晶体管共发射极电路的稳态输出特性曲线,三极管开关电路,40,晶体三极管的稳态开关特性(2/4),(2)放大区条件:VBE 0,VBC0,发射结正
23、偏,由于PN结的钳位作用,VBE=0.7V;若IB较小,接在VCC 上的集电极,使VCE 0,则VBC=VBE-VCE 0,集电结仍反偏,故T工作在放大区。IC=IB,VO=VCC-ICRC,(1)截止区条件:VBE0,VBC0,VBC=VBE-VCE0,集电结反偏,故T截止。反向饱和电流(漏电流)很小,忽略故IB=IC=IE 0,VO=VCC,(3)饱和区条件:VBEVD(0.7V),VBC0发射结正偏,随着Vi(正电压),IB,IC,VO(VCE),当VCE下降到0.7V时,VBC=VBE-VCE 0,集电结由反偏变为0偏。若IB 继续,VBC0,集电结变为正偏,尽管IB 增加,但IC 基
24、本不变,T进入饱和区。IC=ICS=(VCC-VCES)/RC,VO=VCES=0.3V,41,晶体三极管的稳态开关特性(3/4),集电结为0偏(VCE=0.7V)时,称三极管处于临界饱和状态,满足IBS=ICS/=(VCC-VCES)/RC,IBS称为饱和基极电流 实际计算时一般取集射极间的饱和电压VCES=0.3V若IBIBS=(VCC-VCES)/RC,则三极管工作在饱和区 此时IC=ICS=(VCC-VCES)/RC,VO=VCES=0.3V若IBIBS,则三极管工作在放大区,是判断三极管工作在饱和区还是在放大区的条件,42,晶体三极管的稳态开关特性(4/4),43,三极管的共射输出特
25、性曲线,饱和区:不同的IB所对应的IC几乎一样,IC不受IB的控制。,截止区:IC很小,管子如同开路一样。,放大区:IC基本与VCE无关,仅受IB的控制,管子处于放大工作状态。,44,晶体三极管三个工作区的特点,放大区:,截止区:,饱和区:,发射结正偏,集电结反偏,有电流放大作用,IC=IB,输出曲线具有恒流特性,发射结、集电结处于反偏,失去电流放大作用,IC0,晶体管C、E之间相当于开路,发射结、集电结处于正偏,失去电流放大作用,IC=ICS,不变,晶体管C、E之间相当于短路,记住!,45,3.4 分立元件门,3.4.1 二极管与门3.4.2 二极管或门3.4.3 三极管非门3.4.4 复合
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