真空溅镀工艺介绍.ppt

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1、Prepared by:EchoDate:2010/11/20,真空溅镀工藝介紹,真空溅镀作為一種新興的鍍膜技術，其產品表面有超強金屬質感。被越來越多的應用在手機等電子產品的外殼表面處理，其膜面不緊亮度高，質感細膩逼真，可做出多種亮麗色彩。同時，它還有製作成本较低，有利環境保護，較少受到基材材質限制的優點。,前言,(1)表面有超強金屬質感，亮度高，質感細膩。(2)可以解决闪银、魔幻蓝、裂纹、水滴银等七彩色的问题。（水电镀 颜色较单调，一般只有亮银和亚银等少数几种）(3)各種高沸點金属、合金或绝缘物均可做成靶材材料。(4)靶材的寿命长，可长时间自动化连续生产。(5)靶材選擇廣泛，可避免使用有害物

2、質（水鍍鍍層材質一般含六價鉻）而且所有镀层材料都是在真空环境下通过离子体沉积在基材上，没有 溶液污染，有利於環境保護。(6)基板材質選用範圍廣，如ABS料、ABS+PC料（水鍍只能鍍ABS材質）(7)较其它制程利于生产大面积的均一薄膜。,真空濺鍍的優点：,(1)真空濺镀不过UV油，其附着力較差，要保证真空濺镀的附着力，均需后续进行特殊的喷涂处理,成本提高(2)获得真空和离子体的仪器设备精密昂贵，其投资和日常生产维护费用昂贵,真空濺鍍的缺點：,真空溅镀,通常指的是磁控溅镀,属于高速低温溅镀法.在真空状态充入惰性气体氬氣(Ar)，并在塑胶基材（陽極）和金属靶材（陰極）之间加上高压直流电，由于辉光放

3、电(glow discharge)产生的电子激发惰性气体产生氬氣正離子，正離子向陰極靶材高速運動，将靶材原子轰出，沉积在塑胶基材上形成薄膜。,真空溅镀的原理：,粒子碰撞原理：,靶材,氣體,Ar+,靶材原子等粒子,Ar+,靶材,氣體,基材,溅镀要求在高真空狀態充入惰性氣體實現輝光放電.該工藝要求真空度在1.310-3Pa的分子流狀態。,真空濺鍍氣壓要求：,真空泵實現高真空狀態,主要工藝流程：,裝配,真空濺鍍,底漆,面漆,前處理,UV/IR照射烘乾,UV/IR照射烘乾,成品,清潔处理,將素材表面雜質，灰塵等用布摖拭乾淨，提高噴漆良率,裝配前處理,將素材裝配於專用掛具上，用以固定於流水線上，並按設計

4、需求實現外觀和功能性的遮鍍,裝配,將掛件置於流水線上，自動進入噴漆房,線前處理,由于素材是塑料件，在注塑时会残留空气泡，有机气体，而在放置时会吸入空气中的水分另外，由于塑料表面不够平整，直接濺镀的工件表面不光滑，光泽低，金属感差，并且会出现气泡，水泡等不良状况喷上一层底漆以后，会形成一个光滑平整的表面，并且杜绝了塑料本身存在的气泡水泡的产生，使得濺镀的效果得以展现,噴底漆,自動噴漆,將掛件裝配於真空容器內，容器中間裝配適當的靶材電極，實現基材濺鍍，此過程一般需要510分鐘。,真空濺鍍,噴面漆作用是為增強濺鍍表面性能，增加附著力和耐磨性，同時面漆可以用宇調節表面顏色，得到想要的效果。,噴面漆,技術人員噴塗面漆,Thank You!,