现代材料检测8章SE.ppt
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1、第八章 扫描电子显微分析,History of SEM,1935:德国的Knoll卡诺尔提出扫描电镜的设计思想和工作原理。1942:剑桥大学的马伦首次制成世界第一台扫描电镜。,Features of SEM,广泛的放大倍率,1.扫描电子显微镜的构造,2扫描电子显微镜的工作原理,2扫描电子显微镜的工作原理 扫描电镜是用聚焦电子束在试样表面逐点扫描成像。试样为块状或粉末颗粒 由电子枪发射的能量为535keV的电子,以其交叉斑作为电子源,经二级聚光镜及物镜的缩小形成具有一定能量、一定束流强度和束斑直径的微细电子束,在扫描线圈驱动下,于试样表面按一定时间、空间顺序作栅网式扫描。聚焦电子束与试样相互作用
2、,产生随试样表面形貌而变化物理信号(二次电子、背散射电子或吸收电子等,二次电子是最主要的成像信号),这些电子信号被探测器收集转换成电讯号,经视频放大后输入到显像管栅极,调制与入射电子束同步扫描的显像管亮度,得到反映试样表面形貌的特征电子图像。,扫描电镜的主要结构电子光学系统获得扫描电子束,作为信号的激发源。为了获得较高的信号强度和图像分辨率,扫描电子束应具有较高的亮度和尽可能小的束斑直径电子枪1.热发射电子枪:W丝阴极:20-50um;LaB6阴极:20um 2.场发射电子枪:冷场致发射和热场致发射:10-20nm聚光镜(第一、第二聚光镜和物镜)物镜光阑,扫描系统扫描信号发生器扫描放大控制器扫
3、描偏转线圈,信号探测放大系统检测样品在入射电子作用下产生的二次电子、背散射电子等电子信号,然后经视频放大作为显像系统的调制信号,由闪烁体,光导管和光电倍增器所组成。图象显示和记录系统:显象管、照相机等真空系统:真空系统是保证电子枪和试样室有较高的真空度,高真空度能减少电子的能量损失和提高灯丝寿命,并减少了电子光路的污染。真空度一般为0.01Pa0.001Pa,通常用机械泵油扩散泵抽真空。电源系统,3.扫描电镜的工作内容,二次电子像:微观形貌像-得到物质表面形貌反差的信息。背散射电子像:组成分布像-可得到不同区域内平均原子序数差别的信息。,微区形貌观测,二次电子产额与二次电子束与试样表面法向夹角
4、有关,1/cos。角越大,二次电子产额越高,这表明二次电子对样品表面状态非常敏感因为随着角增大,入射电子束作用体积更靠近表面层,作用体积内产生的大量自由电子离开表层的机会增多;其次随角的增加,总轨迹增长,引起价电子电离的机会增多。,3.1 二次电子像,3.1、二次电子像 二次电子是被入射电子轰出的试样原子的核外电子,其主要特点是:(l)能量小于50eV,主要反映试样表面10nm层内的状态,成像分辨率高。(2)二次电子发射系数与入射束的能量有关。随着入射束能量增加,二次电子发射系数减小,(3)二次电子发射系数和试样表面倾角有如下关系:1/cos,(a)陶瓷烧结体的表面图像(b)多孔硅的剖面图,二
5、次电子像,3.2 背散射电子像,背散射电子既可以用来显示形貌衬度,也可以用来显示成分衬度。1.形貌衬度 用背反射信号进行形貌分析时,其分辨率远比二次电子低。因为背反射电子时来自一个较大的作用体积。此外,背反射电子能量较高,它们以直线轨迹逸出样品表面,对于背向检测器的样品表面,因检测器无法收集到背反射电子,而掩盖了许多有用的细节。2.成分衬度 背散射电子发射系数可表示为样品中重元素区域在图像上是亮区,而轻元素在图像上是暗区。利用原子序数造成的衬度变化可以对各种合金进行定性分析。背反射电子信号强度要比二次电子低的多,所以粗糙表面的原子序数衬度往往被形貌衬度所掩盖。,2、背散射电子像 背散射电子是由
6、样品反射出来的入射电子,其主要特点是:能量很高,有相当部分接近入射电子能量E0,在试样中产生的范围大,像的分辨率低。背散射电子发射系数随原子序数增大而增大(图2-75)。作用体积随入射束能量增加而增大,但发射系数变化不大(图2-75)。,两种图像的对比,锡铅镀层的表面图像(a)二次电子图像(b)背散射电子图像,扫描电镜图象及其衬度,背散射电子像分辨率低,因此一般不用它来观察表面形貌,而主要用来初步判断试样表面不同原子序数成分的分布状况。对有些既要进行形貌观察又要进行成分分析的样品,将左右两个检测器各自得到的电信号进行电路上的信号相加,便能得到反映样品原子序数的信息;相减能得到形貌信息。,扫描电
7、镜图象及其衬度,ZrO2-Al2O3-SiO2系耐火材料的背散射电子成分像,1000,ZrO2-Al2O3-SiO2系耐火材料的背散射电子像。由于ZrO2相平均原子序数远高于Al2O3相和SiO2 相,所以图中白色相为斜锆石,小的白色粒状斜锆石与灰色莫来石混合区为莫来石斜锆石共析体,基体灰色相为莫来石。,3.扫描电镜的主要特征,(1)放大倍数 荧光屏上的扫描振幅 电子束在样品上的扫描振幅 放大倍数与扫描面积的关系:(若荧光屏画面面积为1010cm2)放大倍数 扫描面积 10(1cm)2 100(1mm)2 1,000(100m)2 10,000(10m)2 100,000(1m)2,(2)分辨
8、率分辨率指能分辨的两点之间的最小距离。分辨率d可以用贝克公式表示:d=0.61/nsin。影响分辨率的主要因素:初级束斑:分辨率不可能小于初级束斑 入射电子在样品中的散射效应 对比度SEM是用电子束照射样品,电子束是一种De Broglie波,具有波粒二相性,12.26/V0.5(伏),如果V20kV时,则0.0085nm。目前用W灯丝的SEM,分辨率已达到3nm-6nm,场发射源SEM分辨率可达到1nm。高分辨率的电子束直径要小,分辨率与电子束直径近似相等。,光学显微镜分辨率 d0.5,可见光波长范围为:400nm-700nm,所以d 200nm,(3)景深大,景深是指一个透镜对高低不平的试
9、样各部位能同时聚焦成像的一个能力范围。景深大的图像立体感强,对粗糙不平的断口样品观察需要大景深的SEM。SEM的景深f可以用如下公式表示:,f=,式中D为工作距离,a为物镜光阑孔径,M为放大倍率,d为电子束直径。可以看出,长工作距离、小物镜光阑、低放大倍率能得到大景深图像。,一般情况下,SEM景深比TEM大10倍,比光学显微镜(OM)大100倍。,(4)保真度好,样品通常不需要作任何处理即可以直接进行观察,所以不会由于制样原因而产生假象。这对断口的失效分析特别重要。,(5)样品制备简单,样品可以是自然面、断口、块状、粉体、反光及透光光片,对不导电的样品如塑料、矿物只需蒸镀一层20nm的导电膜。
10、通常采用二次电子发射系数较高的金银或碳膜做导电层.另外,现在许多SEM具有图像处理和图像分析功能。有的SEM加入附件后,能进行加热、冷却、拉伸及弯曲等动态过程的观察。,1.镀膜 镀膜的方法有两种,一是真空镀膜,另一种是离子溅射镀膜。,离子溅射镀膜的原理是:在低气压系统中,气体分子在相隔一定距离的阳极和阴极之间的强电场作用下电离成正离子和电子,正离子飞向阴极,电子飞向阳极,二电极间形成辉光放电,在辉光放电过程中,具有一定动量的正离子撞击阴极,使阴极表面的原子被逐出,称为溅射,如果阴极表面为用来镀膜的材料(靶材),需要镀膜的样品放在作为阳极的样品台上,则被正离子轰击而溅射出来的靶材原子沉积在试样上
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