有机合成课件保护基团.ppt

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1、第七章 保护基团(protective groups)参考文献：T.W.Greene,Protective groups in organic synthesis,third edition,一、概述：理想保护基团的标准1保护基的来源，经济性2容易引入，保护效率高3保护基的引入对化合物的结构不应增加过量的复 杂性，如新手性中心等。4保护后的化合物在后面的反应中要求稳定5保护后的化合物对分离、纯化和层析要稳定6能在高度专一的条件下选择性、高效脱除、不影 响分子其余部分。7去保护的后的主产物要易于分离。8有时还可以将保护基转换为其他官能团。,二、羟基的保护（一）形成醚1.甲基醚,I.保护（1）有机

2、溶剂,产率6090%（2）MeI,Me2SO4 NaH,KI，THF,引入甲醚无很大位阻影响（3）CH2N2 硅胶/HBF4,（4）MeI,Ag2O,II去保护Lewis酸 Me3SiI/CHCl3，BBr3，CH2Cl2。浓HI,2形成叔丁基醚类 ROC(CH3)3,去保护：无水CF3COOH，0-20oC.2M HCl,CH2OHHBr,AcOH,20oC 30分钟,3苄醚 ROCH2Ph,Bn-ORBnCl,KOH(粉末)，130140o,苄氯或苄溴与醇形成苄醚。,优先保护伯醇,三、二醇的保护1，2二醇1，3二醇（一）形成缩酮、缩醛用醛、酮：丙酮、环己酮、苯甲醛或其烯醇醚（2甲氧基丙烯）等在酸催化下进行。,糖类，甘油,脱保护：稀酸水溶液，rt;或加热。,四、羰基的保护（一）形成缩酮或其他等价物反应活性：醛链状羰基环己酮a,b-不饱和酮苯基酮,环状缩酮较稳定。,酸水解的相对速率：,（二）、形成缩硫酮保护：酸催化去保护:HgCl2，CdCO3Hg(ClO4)2，MeOH，25oC,Raney Ni 可将羰基还原成亚甲基。应注意去保护，同时可以完整地还原成CH2很好的保护基，但不如乙二醇乙二醇，毒性小二硫醇，毒性，气味,