LTCC材料共烧技术基础研究.ppt
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1、2023/7/31,1,LTCC材料共烧技术基础研究,张怀武 教授,2023/7/31,2,LTCC材料共烧技术基础研究,LTCC相关概念及技术机理实验数据及讨论实验结果,工艺条件掺杂CuO、MnCO3材料双性复合降温掺杂,2023/7/31,3,LTCC技术的概念及其分类_概念,LTCC技术是一种先进的混合电路封装技术,它是将四大无源器件,即变压器(T)、电容器(C)、电感器(L)、电阻器(R)集成,配置于多层布线基板中,与有源器件(如:功率MOS、晶体管、IC电路模块等)共同集成为一完整的电路系统。,有效地提高电路的封装密度及系统的可靠性,2023/7/31,4,LTCC技术的概念及其分类
2、_概念,The character of Thick Film、LTCC、HTCC technology,2023/7/31,5,LTCC技术的概念及其分类_概念,LTCC substrate with integrated passives,Construction of typical LTCC mutilayer device,Construction of typical LTCC mutilayer device,2023/7/31,6,LTCC技术的概念及其分类_概念,Cross-section of LTCC multilayer device showing the indiv
3、idual components that can be integrated,Individual components that can be integrated in LTCC,2023/7/31,7,LTCC技术的概念及其分类_概念,LTCC INDUCTOR,LTCC BANDPASS FILTER 3D LAYOUT,LTCC INDUCTOR have been used,2023/7/31,8,LTCC技术的概念及其分类_分类,LTCC技术的研究,设 计 技 术,生磁料带技术,混合集成技术,混合集成,生磁料带制造,2023/7/31,9,LTCC技术之国内外发展现状,目前实现
4、多达50层、16英寸,应用频率为50MHz5GHz 的LTCC集成电路 日本富士通已研制出61层,245mm的共烧结构 美国IBM公司研制出了66层LTCC基板的多芯片组件,2023/7/31,10,LTCC技术之国内外发展现状,仅以对低温共烧片式电感器的需求为例,国内需求情况,2023/7/31,11,LTCC技术有待完善的问题,收缩率控制问题基板散热问题基板材料的研究 选择合适的掺杂,保证材料的高频特性并轻松降低 材料烧结温度 材料与内电极的匹配,及进一步提高品质因素,降 低损耗 材料的良好机械性能、化学稳定性等,2023/7/31,12,LTCC材料工艺机理及相关理论,低温烧结理论,铁氧
5、体的固相反应和烧结,ZnOFe2O3 高温 ZnFe2O4NiOFe2O3 高温 NiFe2O4,烧结的传质机理,粘滞流动,塑性流动,表面扩散,体 扩 散,2023/7/31,13,LTCC材料工艺机理及相关理论,晶粒边界在烧结中的作用,烧结中原子与空隙流,降温机理,引入低熔点物质或能与材料中某些成分形成低共熔物的添加剂,引入某些异价离子或配合适当气氛,使用超细颗粒法,低温烧结理论,2023/7/31,14,LTCC材料工艺机理及相关理论,晶化动力学理论,铁氧体多晶成长过程,(a)烧结初期(b)孪晶(c)晶粒吞并(d)晶粒生长停止(e)最终密度,2023/7/31,15,LTCC材料工艺机理及
6、相关理论,技术公式,初始磁导率i与截止频率fr的关系,公式中:i初始磁导率 fr截止频率0真空磁导率 Ms饱和磁化强度 畴壁厚度 D晶粒平均尺寸旋磁比,以磁畴转动为磁化机制的尖晶石铁氧体,软磁铁氧体以畴壁的移动为磁化机制,2023/7/31,16,LTCC材料工艺机理及相关理论,技术公式,初始磁导率i,铁氧体磁芯及其等效电路电感量L及表征磁损耗的等效电阻R分别与磁导率的实部和虚部成正比,公式中:r1环形样品的内径(m)r2环形样品的外径(m)N线圈匝数L环形样品有效磁路长度(m)工作角频率(rad/s)A环形样品的横截面积(m2),2023/7/31,17,LTCC材料工艺机理及相关理论,磁滞
7、现象分析模型Preisach理论,由磁场H引起的磁通密度B,B=,=,-,S为(,)平面上Hsat-Hsat的矩形区域,2023/7/31,18,LTCC材料工艺机理及相关理论,当磁性材料从初始状态(未磁化)到刚被磁化时,磁通密度,Bi=,-,T()=,=,差分电感:,磁滞损耗Pd,磁滞现象分析模型Preisach理论,2023/7/31,19,LTCC材料工艺机理及相关理论,包含不同损耗的磁滞回线图形,不同软磁材料的磁滞回线,磁滞现象分析模型Preisach理论,2023/7/31,20,复合材料工艺,复合机理,Zn2+,Mn2+,Fe3+,Cu1+,Fe2+,Mg2+,Li1+,Cu2+,
8、Mn3+,Ti4+,Ni2+,A位 B位,金属离子在尖晶石中的A、B位占位倾向,尖晶石结构,2023/7/31,21,复合材料工艺,研究方案及工艺路线,2023/7/31,22,实验数据及讨论,部分工艺条件对NiZn铁氧体磁性能影响 预烧温度对品质因数Q的影响现象:品质因数随预烧温度的 升高而增大,1100后Q值下 降。原因:较高预烧温度可促进固相反应的完全,增加成型密度,从而增加磁芯的密度;当预烧温度超过1100,固相反应完全,材料活性降低。,2023/7/31,23,部分工艺条件对NiZn铁氧体磁性能影响,预烧温度对磁导率 的影响现象:相同Ts下的铁氧体磁导率随预烧温度的升高逐渐下降。原因
9、:预烧温度低时,材料固相反应生成的立方尖晶石相并不稳定,二次粉碎时的机械能易使部分晶格扭曲变形,粉体表面活性增大,烧成阶段晶粒生长速度比高预烧温度时快,晶粒大,晶界薄,磁导率大。,实验数据及讨论,2023/7/31,24,部分工艺条件对NiZn铁氧体磁性能影响,烧结温度Ts对Q的影响现象:随着烧结温度的增加,Q值逐渐减小。原因:随Ts的升高,磁芯内密度增加,气孔减少,晶粒粗大,晶界处电阻率减小,Q值减小。另外,随Ts的升高,Zn挥发增加,引起Fe2+增多,八面体位就出现不同价的电子导电,激活能最低,具有强导电性。铁氧体的电阻率降低,涡流损耗增加,Q值减小。,烧结温度Ts对Q的影响,实验数据及讨
10、论,2023/7/31,25,部分工艺条件对NiZn铁氧体磁性能影响,烧结温度Ts对的影响Ts1320时:磁导率 随Ts的增加而降低原因:异常晶粒生长,实验数据及讨论,2023/7/31,26,部分工艺条件对NiZn铁氧体磁性能影响,Ts=1320的SEM Ts1250的SEM烧结温度为1320时:晶粒大小不均匀,出现异常晶粒(20 m)烧结温度为1250时:晶粒细小,较为均匀。,实验数据及讨论,2023/7/31,27,CuO掺杂对NiZn铁氧体磁性能影响,CuO对起始磁导率i的影响规律:随CuO含量的增加铁氧体的i降低。原因:Cu2+倾向占据八面体(B)位,产生能级分裂,改变核外电子云分布
11、,晶体点阵发生畸变,增加各向异性能。i降低。i与各向异性能关系:i(s饱和磁致伸缩系数,内应力),CuO对起始磁导率i的影响,实验数据及讨论,2023/7/31,28,CuO掺杂对NiZn铁氧体磁性能影响,CuO对Ts的影响规律:随着CuO含量的增加NiZn铁氧体的烧结温度Ts降低。原因:CuO的熔点较低,高温烧结过程中产生液相,促进固相反应的发生。,CuO对Ts的影响,实验数据及讨论,2023/7/31,29,CuO掺杂对NiZn铁氧体磁性能影响,CuO对品质因数Q的影响规律:掺有CuO的铁氧体Q值普遍升高。原因:Ts的降低减少Zn挥发,从而Fe2+,提高电阻率,增加Q值。另外CuO的增加冲
12、淡了铁氧体中Zn百分含量,也起到降低Zn的挥发的作用。,CuO对品质因数Q的影响,实验数据及讨论,2023/7/31,30,MnCO3掺杂对NiCuZn铁氧体磁性能影响,MnCO3含量对i的影响现象:随MnCO3含量的增加,NiCuZn铁氧体的起始磁导率i降低。,MnCO3含量对i的影响,实验数据及讨论,2023/7/31,31,MnCO3掺杂对NiCuZn铁氧体磁性能影响,含6wtMnCO3的NiCuZn铁氧体x衍射图谱说明:未出现MnFe2O4的三强峰,铁氧体为NiCuZn尖晶石结构。,实验数据及讨论,2023/7/31,32,MnCO3掺杂对NiCuZn铁氧体磁性能影响,MnCO3含量对
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- LTCC 材料 技术 基础 研究
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