《制备过程》PPT课件.ppt
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1、,作 业 选 讲 2009年4月15日,BiFeO3-PbTiO3相图,BFPT相图文献,1、,and,State 6,375,19642、,J.Appl.Phys.94,3313,20033、W.Sakamoto,H.Yamazaki,A.Iwata,T.Shimura,andT.Yogo,Jpn.J.Appl.Phys.,Part1,45,7315,20064、J.Cheng,,J.Appl.Phys.94,5188,2003,KNbO3-NaNbO3 binary phase diagram,Sinterability of the ternary system,Approx.30040
2、0,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,第五章 电子陶瓷制备工艺原理 电子陶瓷的制备过程大致可分为原料准备、配料计算、粉料加工、成型、排胶、烧结、机械加工、表面金属化等基本工序。本章主要介绍有关工序的基本原理。,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,电子陶瓷制备工艺流程图:,成型,排胶,烧结,机械加工,表面金属化,性能测试,粉料加工,配料计算,原料准备,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,5.1 原料准备 电子陶瓷用的原料有天然原料和化工原料 天然原料含杂质较多,但价格便宜,因此只要产品性能符合相应的标准和使用要求,生产中往往挑选和使用纯度尽可能高的天然原料,以降低生产成本。,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,天然原
3、料分为可塑性原料和非可塑性原料。可塑性原料是指加工后具有一定塑性、有利于成型工艺、经适当温度煅烧后能获得坚硬而又保持原状的物体。常用的有黏土、膨润土等黏土类矿物。这类原料在高温下往往形成一定量矿物组成的熔体,或起到降低烧成温度的作用。,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,非可塑性原料又称脊性物质或骨料,在坯体中起骨架作用。天然原料在加工前需经人工拣选和淘洗,尽量去掉有害杂质。化工原料大多为金属和非金属氧化物、碳酸盐等,是电子陶瓷生产中最常用的原料,其纯度和物理特性可控制。,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,适当原料的选取择根据是从电子陶瓷的性能要求、所使用的生产工艺及设备,以及经济性来考虑的。不合格的原
4、料,根本做不出所需性能的材料。我国PTC材料的性能,在20世纪80年代初期,性能改进不大,其原因和当时生产的钛白粉(TiO2)不能满足要求有关。,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,随着高技术的发展,对电子陶瓷的性能提出越来越高的要求因此,在电子陶瓷的生产中,越来越多地使用高纯度、高细度化学试剂为原料,有的还是纳米级试剂。各种常用的电子陶瓷原料,如黏土、滑石、石英、氧化铝、二氧化钛等的具体要求,请参阅书稿有关内容。,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,5.2 配料计算 电子陶瓷研究和生产中的配料计算,主要是根据欲合成的化合物的化学分子式计算原料配比,如合成BaTiO3、PbTiO3、(Pb,La)(Zr,
5、Ti)O2等。设原料的摩尔数为X1、X2、X3,原料的分子量(或以克为单位的摩尔质量)为M1、M2、M3,则原料重量为:,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,原料的重量百分比即为:,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,上述计算是假设原料纯度为100%,若考虑实际原料的纯度P,则实际原料的重量应为:,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,例 1 合成BaTiO3通常用BaCO3和TiO2接下列反应进行:BaCO3+TiO2=BaTiO3 两种原料的用量均为1mol。BaCO3的分子量W1=197.35,TiO2的分子量W2=79.90,则原料的重量百分比为,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,例2 以铌镁酸铅为主晶相的低
6、温烧结独石电容器瓷料的配方计算。已知其化学式为 Pb(Mg1/3Nb2/3)O3+0.14PbTiO3+0.04Bi2O3。此外,镁含量要过量20%,所用原料纯度为:铅丹含Pb3O4 98%;三氧化二铋含Bi2O3 98%;五氧化二铌含Nb2O5 99.5%。试计算配制500g时各种原料所需的重量。计算步骤如下:,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,(1)计算各原料的摩尔数比例:由配方可知各原料的摩尔数比例。,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,(2)按原料纯度进行修正:将各原料的摩尔数比例除以该原料的纯度,得到原料的摩尔数修正值。,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,(3)计算各原料的重量:因为MgO要过量2
7、0%,故总重量W=265.87+28.67(1+20%)+11.39+19.01+89.04=419.71 g,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,(4)计算重量百分比::重量百分比等于各原料的重量除以总重量。,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,(5)配置500g配料时所需各种原料的重量:,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,配料计算虽然比较简单,但应仔细,保证计算的准确。原料在称量前需充分干燥,除去吸附的水分。一般应在110干燥4h以上。根据原料的量和制备精度要求,合理选用天平和其他称量工具。(精度、量程)称量应迅速、准确,并作好记录,要有监督和检查。,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,5.3 粉料加工 原料按
8、给定配比称量后、经混磨、干燥、加粘合剂、造粒制成符合成型工艺所要求的粉料。原料称量前,大部分要干燥处理、过筛,有些则需要预合成、煅烧等,以便形成符合要求的化学组成或晶体结构。,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,5.3.1 原料的煅烧天然矿物原料和化工原料中,很多原料是同质多晶体。不同温度下,结晶状态或矿物结构不同。例如,工业氧化铝、二氧化钛和石英等是具有多种晶型的常用原料。,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,滑石具有层片状或粒状结构,在高温下分解为偏硅酸镁(MgO.SiO2)和游离的SiO2。MgOSiO3有几种结晶状态,相互转变时伴有体积效应。BaTiO3也有多种晶型,在120以上就变成没有铁电性的
9、结构型态。,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,原料中的这种多晶转变将导致体积变化,对烧成有不利的影响。层片状滑石配制的坯料,干压时不易压紧,挤压时作定向排列,易造成层裂,烧成时又由于各个方向的收缩不一致,易开裂和变形。解决这类问题,就必须煅烧原料。,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,煅烧可促进晶体转化,获得优良电性能的晶型;改变矿物结构,改善工艺性能,减少制品最终烧结时的收缩率;保证产品质量,提高产品的机电性能。,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,熔块合成(预烧)化工原料多是单成分的化合物,但在许多生产中需要多成分的原料,如BaTiO3、CaTiO3、CaSnO3、PbTiO3、CaZrO3等。目前,我国
10、生产这些中间原料的工厂较少,需要自己合成,然后配料。这种合成材料通常经过8001300的煅烧,煅烧后的材料称为烧块、熔块或团块。,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,合成过程大多是固相反应。可以用差热分析技术了解合成过程的物相变化,也可以用电收缩膨胀曲线和失重曲线了解合成过程中的物理化学变化和相变过程。合成过程也可在液相和气相下进行,并可形成超细、高纯、高活性的粉体。,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,合成的热分析曲线 1-DTA差热分析曲线,2-TG失重曲线,3-收缩曲线,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,BaCO3,BaCO3+TiO2(1:1mol)混合物的热分析曲线,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,合
11、成BaTiO3过程中,新相和老相变化的情况,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,PbTiO3(上)和PbZrO3(下)合成时的热分析,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,采用不同的氧化铅原料、合成Pb(ZrTi)O3时的热分析,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,合成烧块(预烧)的温度选择很重要。温度太低,反应不充分,主晶相质量不好;温度太高,烧块变硬,不易粉碎,活性降低,使烧成温度升高和变窄。,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,一般选择略高于理论温度值,根据试验,确定合适的合成温度。合成烧块时,必须控制有害的游离成分,如BaTiO3、CaTiO3、SrTiO3中的游离BaO3、CaO和SrO。游离成分过多会给工艺
12、操作造成困难和导致产品性能恶化。,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,粉料的制备 为了改善材料的性能、降低烧成温度和提高烧成质量,粉料制备应以获得高纯、超细粉料为目的。粉料制备方法大致有:粉碎法(从大到小)合成法(从小到大)两大类。,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,一、粉碎法多采用机械加工法,将大块的原料粉碎成细小的微粒。下面简要介绍机械粉碎的原理和方法。球磨 球磨机是最常用的一种粉碎装置。被粉碎的物料和球磨介质(亦称料和球)装在一个圆筒形容器球磨罐中。,大型球磨机,小型系列球磨机,立式球磨机,行星球磨机,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,球磨罐旋转时,带动球撞击和磨消物料,达到粉碎的目的。一般来说,磨机
13、转速越大,粉碎效率越高。但当磨机转速超过临界转速时就失去粉碎的作用。,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,影响粉碎效率的因素有:(i)球磨机的转速,应选择略低于实际临界转速。(ii)大小球配比、磨球形状、硬度及质量。磨球的大小应配合适当,最大直径在D/18D/24之间,最小直径为D/40,D为磨机的内径。,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,(iii)磨机装载量。一般装截量占球磨罐容积的7080%较好。(iv)料、球、水之比。此三者之比根据原料的吸水性、入磨颗粒大小和磨机装载量的不同而不同。粘土类原料吸水性强,水的比例要适当增大,否则料浆粘度过大,甚至固结,难以磨细。通常的比例为料:球:水=1:(11.4
14、):(0.81.2)。干磨时也应注意料球比例的选择。,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,(v)助磨剂的影响。为了提高研磨效率,使物料达到预期的细度,需加入助磨剂。常用的有油酸和醇类。干磨时加油酸、乙二醇、三乙醇胺和乙醇等,湿磨时加乙醇和乙二醇等。,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,(vi)分散介质的影响。球磨分为干法和湿法两种。干法不加分散介质,主要靠球的冲击力粉碎原料。湿法需加水或酒精等作为分散介质,靠球的研磨作用进行粉碎。,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,湿磨效率比干磨要高。通常用水作分散介质,若原料中有水溶性物质,可采用酒精等其他液体。(vii)球磨时间的选择。随球磨时间的延长,球磨效率降低,细度
15、的增加也趋于缓慢。长时间的球磨会引入大量杂质。因此,球磨时间应在满足适当细度的条件下尽量缩短。例如,混料为48h、细磨2040h、釉料、银浆等80100h。,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,为了减少杂质污染,可采取一些措施:如球磨时间不可过长、球磨罐要镶衬里(可用瓷瓦,橡皮或耐磨塑料等。小球磨可用尼龙罐、塑料罐等)、球可用鹅卵石、燧石、玛瑙等;也可用人造的瓷球,如氧化铝瓷球,或与原料组成近似的瓷球。对于耐酸原料,应用钢球或钢罐,球磨后的原料要经酸洗除铁。,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,振磨 振动磨是由电动机、弹性联轴节(橡皮管)振动器(偏心轮)弹簧、主轴、机架、底座、料筒、料斗(橡皮斗)、磨球等
16、组成。振动磨的原理是:电动机带动偏心轮转动,使支承在弹簧上的机架、料筒振动,料筒内的球和物料跟着振动,并有沿料筒的循环运动和料球的自身转动。,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,当振动频率很高时,上述运动非常剧烈,对物料的研磨和撞击作用很大。振磨能把物料粉碎到0.110 m。.细度和粉碎效率与振动频率、振幅大小、振动时间等因素有关。振磨也有干磨和湿磨两种,湿磨优于干磨。振磨又分间歇工和连续式。工业多用连续式密堆积磨球振磨机。磨球呈圆柱体,磨体呈圆环形。入磨细度为6080目筛,出磨细度全部通过300目筛。,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,行星磨 行星磨商品名称叫微粒球磨机。四只相同重量的球磨罐,置于同一
17、旋转的圆盘上,使球磨罐“公转”,各个球磨罐又烧自身轴线旋转即“自转”。当公转速度足够大时,离心力大大超过地心引力,自转角速度也相应提高,磨球不致于贴附罐壁不动,从而克服了旧式球磨机之临界转速的限制,大大提高了研磨效率。粉碎细度接近于振磨而优于球磨,粉碎时间一般1.53h。,行星磨原理(1-公转原盘;2-球磨罐;1-公转角速度;2-自转角速度),第五章 电子陶瓷制备工艺原理,砂磨 砂磨是由直立固定的圆筒和旋转的桨叶构成。磨球采用16 mm的粒状瓷球或钢球。待磨浆料由筒底泵入,经研磨后由上部溢出。磨球总量约占筒有效容积的一半。,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,中轴带动桨叶以7001400转/min的
18、速度旋转,给予磨球极大的离心力和切线加速度,球和球与壁之间产生滚碾磨擦。因研磨粒度下限比振磨低,故称超细粉碎。所得粉料粒径小,呈圆球形,流动性好,特别适用于轧膜、挤制和流延成型。砂磨可连续操作也可间歇操作,效率很高。,立式砂磨机,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,气流粉碎机 粉碎原理是用压力56 大气压的气流(空气或过热蒸气)把物料喷入粉碎机腔内,使物料颗粒之间相互磨擦,碰撞。被粉碎物料在分级区受离心力作用,按粒子粗细自行分级。,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,粗颗粒靠管道外壁,细粉末靠内侧,达到一定细度的粉一要,经惯性分离器在出口处被收集,粗颗粒下降,回到粉碎区继续粉碎。如此循环到达到一定细度。一
19、般,物料在管内要循环20002500圈。气流粉碎可连续操作,细度达到1m或更小。此法得到的物料细度均匀,混入杂质甚微。,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,二、合成法 粒径在2m 以下的粉体常称超细粉体。其下限依制法不同可达数千埃至数十埃。又称为纳米粉体(1100 nm)机械粉碎很难达到这样的细度。,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,超细粉料制备方法大致有固相法、液相法和气相法三种。,(超细)粉料制备方法,固相法,液相法,气相法,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,(1)固相法 将固溶体或固体混合物中可溶性成分用溶液浸出后,残留的不溶性成分会成为疏松的骨架状物体或粉末。稍加研磨即可成为超细粉末。如:2BaCO
20、3+TiO2 Ba2TiO4 850 C,N2+CO2气流中热分解:Ba2TiO4+CO2 BaTiO3+BaCO3,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,(2)液相法(a)由熔融盐制取超细粉体 某些难熔或易熔的盐,可以在熔融态进行反应,通常是复分解反应。例如,BaO与(NH4)2TiCl6在550 C 下熔融并发生反应,冷却后用水浸提,可得到BaTiO3的超细粉末。此法也可制PbTiO3的超细粉体。,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,(2)由溶液制取超细粉体 此法又称湿化学法或软化学法,包括各种沉淀法、去除溶剂法和水热法等。共沉淀法的基本原理,是利用金属离子水解,水解产物与其他离子反应。精确控制沉淀条件
21、,可使溶液中的各种金属离子同时沉淀,然后将它们加热分解,生成复合金属氧化物的超细粉体。,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,去除溶剂法的原理是,把金属盐混合溶液化成很小的液滴,使盐迅速析出,析出的颗粒细小而均匀。依使盐迅速析出的方法又可分为喷雾热分解、冷冻干燥、热煤油法等方法。水热法是利用不同温度下金属溶液解度的差别,使原料在高压釜底部溶解区溶解。借助对流作用,原料上升到上部温度较低的析晶区析晶。所得微细晶粒晶形完整,组成精确,符合化学计量比,粒径在0.010.1m。,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,共沉淀法,直接沉淀法,醇盐水解法,溶胶-凝胶法(Sol-Gel),均匀沉淀法,沉淀法,第五章 电子陶瓷
22、制备工艺原理,冷冻干燥,金属盐溶液,金属盐颗粒,氧化物颗粒,喷雾干燥,喷雾热分解,热煤油干燥,低温液体,热风,高温液体,高温气体,热分解,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,喷雾热分解法是将金属盐溶液成微细液滴(直径约1020um)喷入干燥塔中。液滴遇高温,水分迅速蒸发,金属盐析出并分解,生成氧化物微粉。调节溶液浓度和雾化程度易能得到0.2 m左右的粉体。冷冻干燥法是将金属盐混合溶液液滴入或喷入干冰和丙酮的冷冻槽(-94.3)中。,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,液滴结冰,再减压使冰迅速升华,得到疏松的、保持液滴形状的盐粒子。将其加热分解可制得复合氧化微粉。酒精脱水法是将金属柠檬酸盐混合溶液喷入酒精中
23、。由于溶液结构的变化,盐的溶解度降低沉淀,将沉淀加热分解,生成的粉体细小均匀,有良好的烧结性。,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,(3)气相法 气相法可制取晶粒在1 nm左右、晶形完整的粉体。在气相法中,晶粒的生成有以物态的变化为基础的蒸气凝缩法和以化学反应为基础的气相反应法。(a)蒸气凝缩法 此法又称蒸发凝缩或烟粒子法。,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,将原料用电阻炉、高频感应炉、电弧或等离子体火焰等加热气化,然后急速冷却使微粒凝结起来。该法可制得粒径为0.0050.1 m的粉体,适用于单一和复合的氧化物、氮化物、碳化物、硼化物或金属等。,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,(b)气相反应法 气相反应法
24、可分为两类:化合物的热分解和几种物质间的化学反应。气相反应法的原料一般选用制造容易、反应性好的氯化物,也可以用烃化物、金属醇盐等。加热方式有电阻炉、化学火焰、电弧、等离子体和激光等。,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,5.3.4 造粒 为了有利于烧结和固相反应的进行,原料颗粒应越细越好。但是,粉料越细、流动性越不好、干压成型时粉料就不能均匀地填充模子的每个角落,常造成空洞、边角不致密、层裂等。使细粉料变粗的办法就是造粒。造粒是将已经磨得很细的粉料,经过干燥、加粘合剂,做成流动性好的较粗的颗粒(粒径约为0.1mm)。有加压造粒法和喷雾造粒干燥法等。,第五章 电子陶瓷制备工艺原理,加压造粒是将混合了粘
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