《PVD制程介绍》PPT课件.ppt
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1、PVD制程介紹,制作人:PVD-QC 日期:2010/06/21,目 錄,1.PVD原理及其特點2.PVD工藝流程3.PVD產品品質管控要求4.PVD 工藝的優點,1.PVD原理及特點,PVD(Physical Vapor Deposition)即物理氣相沉積技朮即在電場作用下形成的等離子體中,塊體材料被濺射出來,而沉積在工件表面,形成一定厚度的薄膜.,濺射出的靶材粒子,氬氣在電場作用下被離化同時被加速,向加有負電壓的靶面飛去,轰击靶材表面,引起靶材表面各种粒子,如原子、分子或团束逸出即產生溅射。溅出的中性原子與真空腔內同時被離化的氣體粒子反應而沉积到工件表面上,於是形成了一定厚度的膜层。以T
2、iN為例,過程如下:,1.1 PVD過程,第一步 氣體離化,e,Ar+,Ar,Argon氣體團,Ar+e Ar+2e,第二步 濺射,Power,Ar+Ti Ti(Atom)+Ar+,磁控濺射PVD原理,a)電場及磁場的布置,b)電子的運動軌跡,c)平面磁控電極表面電子的運動,d)Z方向的收聚力,e)靶工作的圖片,第三步 反應成膜,Ar+N2 2N+Ar+Ti+N TiN,基底材料,2.PVD工藝流程,3.1PVD外觀管控3.2PVD顏色管控3.3PVD膜厚管控3.4PVD信賴性測試項目介紹,3.PVD產品品質管控要求,(1)PVD產品外觀標準 依據不同客戶定義,文件定義要求,客戶簽 樣要求,品
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