PCB电镀制程讲解(完整工艺介绍).ppt
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1、,電鍍制程講解,目 錄電鍍組織架構簡介第一章:PTH工藝流程第二章:ICU工藝流程第三章:IICU工藝流程第四章:蝕刻工藝流程第五章:電鍍制程主要不良項目第六章:電鍍工安注意事項電鍍制程考核試題,第一章 PTH工藝流程,一、PTH前處理(磨刷)目的:去除鑽孔后孔邊的披峰及板面氧化物,磨刷,水洗,超音波水洗,投板,高壓水洗,水洗,烘干,插板,注意事項:1.磨刷效果:以烘干后水破試驗大於15秒2.定期整刷:維持磨刷均勻性,避免造成局部過度磨刷3.刷幅:要求1.01.5cm,刷幅過多易造成隨圓孔(喇叭孔)4.定期檢查磨刷水洗噴嘴及清理銅粉(泥)等,5.高壓水洗:3560kg/cm2,中壓水洗520k
2、g/cm26.超音波振蕩:將鑽孔后細小epoxy及磨刷銅粉去除(不能過強),二、PTH-Planted Throught Hole(導通孔鍍銅)目的:將鑽孔后不導電的環氧樹脂孔壁鍍上一層極薄的金屬,使之具有導電性,為之后的制程(ICU)做準備流程:,上料,膨鬆,回收,雙水洗,除膠,回收,水洗,預中和,水洗,中和,雙水洗,整孔,熱水洗,雙水洗,微蝕,雙水洗,酸洗,水洗,預浸,活化,雙水洗,速化,純水洗,化學銅,雙水洗,薄,下料,水洗,抗氧化,厚,下料,1.膨鬆目的:使用於除膠渣前之處理劑,可除去鑽孔所產生的碎屑及污物,能膨鬆及軟化基材,以增進下一站高錳酸鉀的咬蝕作業參數及條件溫度 7020OC時
3、間 6分攪拌 擺動槽體材質 S.S316或304加熱器 鈦、石英或鐵弗龍循環過濾 須要,2.除膠:目的:將鑽孔后孔壁及內層銅薄上殘留的樹脂殘渣(smear)去除,並將孔內的樹脂(epoxy)部分咬蝕成峰窩狀,以加強化學銅與孔壁的結合力溫度 7020 OC時間 15分(12分18分)攪拌 擺動 鼓風總Mn量 605g/l Mn6+25g/l NaOH 408g/l再生機電流 800A槽體材質 鈦或S.S316加熱器 鈦或鐵弗龍再生裝置 須要,3.中和劑目的:此藥液為酸性還原劑,可中和鹼性殘液,並可還原殘餘七價錳,六價錳及二氧化錳等可溶性二價錳離子,避免氧化劑帶入其 后之流程作業參數與條件溫度 4
4、52 OC時間 6分攪拌 擺動 槽體材質 P.E或PP加熱器石英或鐵弗龍過濾 須要,4.整孔劑是一种微鹼性的化學品,主要含有陽離子界面活性劑,使原本負電性的孔壁形成帶正電性以利於活化劑鈀的附著;另一方面,使槽浴的表面張力降低,讓原本不親水性的板面及孔壁也能夠具有親水濕潤的效果,以利於后續的藥水更能發揮更好的效果溫度 632 OC時間 5分30秒擺動 必須水洗 三段水洗,第一段最好用4050 OC熱水洗槽體材質 S.S316 或304 加熱器 S.S加熱器過濾 須要,5.微蝕劑是一种能將銅表面粗化的藥液,一方面能將銅面上的氧化物,雜物及整孔劑咬掉,使在金屬化的過程中讓鈀膠體及化學銅能盡量鍍在孔內
5、;另一方面是使板面粗化,讓化學銅在粗化的板面上有更好的附著力反應原理:Cu+H2O2 CuO+H2OCuO+H2SO4 CuSO4+H2OH2O2 H2O+1/2O2,6.酸洗一方面能去除板面的氧化物,另一方面將殘留於板面的銅監徹底的清除室溫下作業,H2SO4濃度控制在7.52.5%(V/V),7.預浸劑主要功能是保護鈀槽避免帶入太多的水分及雜質,並提供活化劑所需要的氯離子及酸度,而做為犧牲溶液以維持鈀槽濃度的穩定鈀槽進水會生成Sn02與鈀的沉澱作業參數及條件溫度 25 OC時間 3分12秒擺動 必須槽體材質 P.P或PVC,8.活化劑具有高負電荷密度的錫鈀膠體,它能提供孔內所需的鈀觸媒,而能
6、與化學銅有良好且細致的結合狀況SnCL2+CL-SnCL3PdCL2+2SnCL3 Pd(SnCL3)2CL22-操作參數及條件:溫度 30 OC(2035 OC)強度:75 10%時間 6分(58分)比重:1.1451.180擺動 必須過濾 連續過濾槽體材質 P.P或PVC,10.化學銅是使經過前處理后的板子得到孔內金屬化效果的溶液原理:Pd主反應:CuSO4+4NaOH+2HCHO Cu+Na2SO4+2HC00Na+2H2O+H2副反應:2HCHO+NaOH HC00Na+CH3OH鈀觸媒的氧化還原反應式Pd+O2 Pd-O2-(ad)+Pd 2PdO(1)4H(ad)+Pd-O2-(a
7、d)2H2O+Pd(2)2H(ad)+PdO H20+Pd(3),Pd,9.速化劑主要在於剝除催化劑沉積在板面及孔內的錫殼,而露出所需要的鈀層,以利於化學銅的催化反應操作參數與條件:溫度 25 OC(2030 OC)時間 5分(36分)擺動 必須槽體材質 P.P或PVC,通Air之目的Cu+O-+H2O Cu2-+2OH-(4)背光級數7級沉積速率1530U”/23min操作參數及條件溫度 25 OC(2228 OC)時間 15分(1218分)負載 0.22dm2/l攪拌 擺動 鼓風及過濾循環槽體材質 PP或PVC加熱器 石英或鐵弗龍,以上各節簡要介紹了PTH薄銅的工藝流程,PTH厚化銅工藝基
8、本與此相似,唯一區別是厚化銅流程多了一道抗氧化,而薄銅抗氧化則在一銅后.,第二章Palted(一次銅)即板面電鍍目的:將PTH之后已金屬化的孔壁鍍上一層金屬銅,通常厚度為0.3mil(平均),依制程不同也可鍍至0.5mil至1mil,同時也起加厚板面的作用,故也可稱為板面電鍍流程:,上料,酸浸,鍍銅,水洗,抗氧化,水洗,下料,硝掛架,水洗,上料,酸浸 去除板面氧化物,維持銅槽槽液平衡作業條件及參數溫度 室溫時間 1分AR硫酸 102%鍍銅整流機的作用:將交流電變成直流電電鍍銅原理:在直流電的作用下,銅離子從陽極逐步向陰極轉移的過程,陰極:CU2+獲得電子被還原成金屬銅,正常情況下,電流效率可達
9、98%以上,即:CU2+2e CU某些情況下鍍液中存有少量CU2+將發生反應,即:CU2+e cu+陽極:陽極反應是溶液中cu2+的來源:CU-2e cu2+在少數情況下,陽極也可能發生如下反應:CU 1e cu+,溶液中的cu+在足夠硫酸的存在下可能被空氣中的氧氣氧化成cu2+2CU+1/2O2+2H+2CU2+H2O當溶液中酸度不足時,CU會水解成CU1O1,形成所謂“銅粉”CU2+2H2O 2CU(OH)2+2H+氧化亞銅的生成會使鍍層粗糙或呈海綿狀,因此在電鍍過程中盡量避免一價銅的出現.,作業條件及參數1.鍍銅之均勻性控制以面銅為準2.制程控制條件銅槽溫度 242oCCL-濃度 602
10、0PPM硫酸濃度 20015g/l硫酸銅濃度 7010g/l光澤劑 哈氏試驗調整,不燒焦,1L/(40006000)AH,硝掛架是通過強酸去除下板之后掛具上殘留的銅溫度 室溫HNO3(68%)40050ml/l抑制劑 355ml/l時間 12分鐘重要名詞1.藥劑部分:陰陽極面積比 光澤劑 配槽2.操作部分:假鍍 活性碳過濾 均勻性(對后制程影響)3.設備部分:天車故障 空氣攪拌 保養 自動添加 滴水時間 濾心,第三章Patten Palted(二次銅),目的:將孔銅厚度鍍至0.81.0mil,同時將所需保留的線路部分以錫(或錫鉛)保護流程:,硫酸銅 硫酸銅是鍍液中的主鹽,它在水溶液中電離出銅離
11、子,銅離子在陰極上獲得電子沉積出銅鍍層,硫酸銅濃度控製在70 10g/L,提高硫酸銅濃度,避免高電流區 燒焦.硫酸銅濃度過高,會降低鍍液分散能力硫酸 硫酸的主要作用是增加溶液的導電性,硫酸的濃度對鍍液的分散能力和鍍層的機械性能均有影響.硫酸濃度太低,鍍液分散能力下降,鍍層光亮范圍縮小,硫酸濃度太高,雖然鍍液分散能力較好,但鍍層的脆性降低,一般控製在200 15g/l,氯離子 是陽極活化劑,它可以幫助銅陽極正常溶解,當濃度低于20mg/L時,會產生條紋粗糙鍍層,易出現針孔和燒焦;當濃度過高時,鍍層光亮度下降,低電流區鍍層發暗;如果過量,陽極表面會出現一層白色膜,即陽極鈍化,一般控製在20-80P
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