HDI板工艺流程介绍.ppt
《HDI板工艺流程介绍.ppt》由会员分享,可在线阅读,更多相关《HDI板工艺流程介绍.ppt(52页珍藏版)》请在三一办公上搜索。
1、0,HDI板工艺流程介紹,报告人:徐健 报告日期:,1,HDI简介,HDI:High Density Interconnection Technology高密度互连技术。简单地说就是采用增层法及微盲孔所制造的多层板。(也就是先按传统做法得到有(无)电镀通孔(PTH)的核心板,再于两面外层加做细线与微盲孔的增层而成的多层板。)微孔:在PCB业界,直径小于150um(6mil)的孔被称为微孔。埋孔:Buried hole,埋在内层的孔,一般在成品看不到。(埋孔与通孔相比较,其优点在于不占用PCB的表面面积,因此PCB表面可以放置更多元件。)盲孔:Blind hole,盲孔可以在成品看到,与通孔的区
2、别主要在于通孔正反都可以看的见而盲孔只能在某一面看见。盲孔与通孔相比较,其优点在于盲孔对应位置的下方还可以布线。,2,HDI板结构(一阶盲孔),1+2+1(4Layers),有盲孔及通孔,无埋孔,有盲孔,埋孔及通孔,一阶盲孔:导通外层与次外层的盲孔,3,HDI板结构(一阶盲孔),.,1+4+1(6Layers),有盲孔及通孔,无埋孔,有盲孔,埋孔及通孔,4,HDI板结构(一阶盲孔),1+6+1(8Layers),有盲孔及通孔,无埋孔,有盲孔,埋孔及通孔,5,HDI板结构(二阶盲孔),二阶盲孔:导通外层到第三层的盲孔,可以是直接导通13层,也可分别导通12层和23层。,1+1+4+1+1(8La
3、yers),6,HDI板结构(二阶盲孔),.,L1,L2,L3,L4,L5,L6,L7,L8,1+6+1(8Layers),7,6-layer(HDI)Surface finished:immersion GoldThickness:1.0mm0.1mmInner min W/S:4mil/4milOuter min W/S:4mil/4milThrough hole size:0.30mmLaser drill size:0.127mmSurface copper:1.0mil(min)1.4mil(avg.)Hole wall copper:0.7mil(min)Laser via cop
4、per:0.4mil(min)Laser PP:1086 R/C:58%(thk:3.0mil)Outline tolerance:+/-0.20mmHole tolerance:Via:+5/12mil PTH:+/-3mil NPTH:+/-2mil SLOT:+/-5mil,HDI板一般规格:,8,HDI板结构,L1,L2,L3,L4,L5,L6,1+4+1(6Layers),以此结构讲解HDI工艺制作流程:,9,普通多层板结构,标准多层板,是做好内层线路和外层线路,然后再利用钻孔,和孔内金属化的制程,来达到各层线路之内部连接功能。,内层线路,L1,L2,L3,L4,外层线路,外层线路,
5、通孔,10,下料-裁板-烘烤-化学前处理,HDI工艺制作流程简介,11,基板材料介绍,印制电路基板材料,刚性覆铜箔板,软性覆铜箔板,复合材料基板,玻璃布:环氧树脂覆铜箔板(FR-4),纸基板,特殊基板:金属性基板,如铝基板,按阻燃分为:阻燃型(UL94-V0)和非阻燃型(UL-4-HB),12,内层制作,一.印制板制造进行化学图像转移的光致主要有两大类:1.光致抗蚀干膜(简称干膜),是一种光致成像型感光油墨,主要用 于外层.2.液体光致抗蚀剂,主要用于内层做线路!,13,底片(菲林)概述,底片(菲林):是印制电路板生产的前导工序,底片的质量直接影响到印制板生产质量。在生产某一种印制线路板时,必
6、须有至少一套相应的菲林底版。印制板的每种导电图形(信号层电路图形和地、电源层图形)和非导电图形(阻焊图形和字符)至少都应有一张菲林底片。通过光化学转移工艺,将各种图形转移到生产板材上去。,底片,底片,14,内层线路製作流程:,15,7.棕化(Brown Oxide Coating)作用:1.增加与树脂接触的表面积,加强二者之间的附着力。2.在裸铜表面产生的一层钝化层,以阻绝高温下液态树脂中胺类对铜面 的影响.,棕化:,16,8.疊板(Lay-up),叠板:,铜箔,电解铜箔,压廷铜箔,17,9.壓合(Lamination),压合:,18,10.鑽孔(Drilling),钻孔:(埋孔L2-5),1
7、9,電鍍 Desmear&Copper Plating,一次铜:,*内层填孔-IPQC抽检-预烘-刷磨-后烘-刷磨(将突出的油墨打平),内层树脂填孔,20,12.外層壓膜 Dry Film Lamination(Outer layer),外层干膜:(L2-5层),21,13.外層曝光 Expose,曝光:,22,14.外層顯影 Develop,显影:,23,16.去乾膜,去膜:,24,17.蝕刻 Etch-去膜-AOI检查-棕化,蚀刻:,25,9.壓合(Lamination)上下两面叠镭射PP及铜箔,外层压合:,26,PP材料介绍,Normal PP:常规PP是不适合用于镭射。主要是因为PP的
- 配套讲稿:
如PPT文件的首页显示word图标,表示该PPT已包含配套word讲稿。双击word图标可打开word文档。
- 特殊限制:
部分文档作品中含有的国旗、国徽等图片,仅作为作品整体效果示例展示,禁止商用。设计者仅对作品中独创性部分享有著作权。
- 关 键 词:
- HDI 工艺流程 介绍

链接地址:https://www.31ppt.com/p-5433032.html