制程服务注意事项说明.ppt
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1、製程服務注意事項說明,晶片實作組2006/05/22,(含製程申請、晶片製作),講義內容更新說明,講義內容更新說明(P.1-2)重要公告(P.1-7,1-12,1-12-18)95年度製程服務相關重大變革說明(P.1-13)製程公告、規定(P.1-16 1.18)晶片製作申請(P.1-19 1-24)常見不受理申請原因(P.1-31)儀器設備使用申請(P.1-33)注意事項(P.1-34 1-39)Stream out 檔案上傳方式(P.1-40 1.48)審查會後資料修改&其他應注意事項(P.1-49 1.52),Outline,會中除了頒獎、展示國內學術界透過CIC製作晶片之研究成果、邀請
2、廠商(Agilent)發表演講外,將同時舉辦一場製程服務說明。藉此機會說明目前CIC於製程資料申請、晶片下線服務之相關措施與注意事項。因本場次說明內容亦包含製程資料控管部分,故將視為舉辦製程資料控管說明會。所以歡迎各位踴躍報名參加。如您是教授尚未申請T13製程(含T13RF、T13L)未來預計申請,或您是學生,之前不曾參加過製程資料控管說明會,未來預計下線T13製程,或您對CIC提供之製程服務相關措施有興趣,均歡迎您踴躍報名。欲瞭解2006晶片製作成果發表會相關訊息,或報名,請上網:http:/,公告:2006晶片製作成果發表會,時間:2006/05/04(四)AM 09:30 15:00地點
3、:奈米電子研究大樓二樓國際會議廳 新竹市科學園區展業一路26號,D35製程Dummy Pattern Cell使用說明(03/27/2006新增),適用製程:TSMC 0.35UM MIXED SIGNAL 2P4M POLYCIDE 3.3V/5V PROCESSCIC從D35-95C梯次開始要求申請者於佈局中加入Dummy Pattern,以滿足晶圓廠所要求的Poly/Metal Density,為了讓申請者在整個設計的流程更順利,CIC提供一個Dummy Pattern Cell 給申請者使用,讓申請者在佈局完成後能盡快的將Density補足。請至CIC首頁-製程服務-技術資料(輸入帳號
4、密碼登入)-技術資料,下載dummy pattern cell,-技術文件,下載dummy pattern使用說明文件,File name:T035MMDP001_V_1.pdf如有任何疑問,請與鄧宗維先生聯絡Tel:(03)5773693#229Email:,TSMC 0.13UM dummy metal generator(03/28/2006),更新T013LODR001C3_2_1A.tar.gz(TSMC 0.13UM DUMMY METAL(CALIBRE)GENERATION UTILITY)說明:修正CBM與M7、M8之距離過近以及無法產生對應Dummy Metal 之問題。適
5、用製程:T013RF如有任何問題歡迎與張文旭先生聯絡E-Mail:TEL:(03)5773693 ext.176,製程資料申請採用一年一簽,原本94年度申請使用期限至95年1月31日止,故請各位製程資料申請人,務必自即日起至本中心網頁 登入點選“製程申請”因95年起申請T13製程(含T13L、T13RF),被授權人員(如學生)必須參與製程資料控管說明會,方可授權使用製程資料與各類晶片製作申請(下線申請),因此請欲申請T13製程之申請者(老師)務必要求被授權人員(如學生)參加”製程資料控管說明會”。否則將影響未來下線權益。製程資料控管說明會(94年度)舉辦日期如下:注意:欲申請T13L-95A/
6、T13RF-95A 晶片製作的被授權人員(如學生),強烈建議參與第一場說明會,以利後續審核,避免影響下線權益。如未寄回95年度的製程資料保密同意書,本中心自95年2月1日起將無法繼續提供製程資料,亦無法提供晶片製作(下線申請)的申請服務。若有任何製程申請相關問題,歡迎隨時與 03-5773693*205晶片組 簡小姐 聯絡!,重要公告:95年度製程申請換約開始,TSMC 0.18um製程下線注意事項,DRC ERROR:1.CIC驗証結果以版本為標準檢查平臺,若有Calibre檢查之後察覺錯誤,實質上並不違反Design Rule檔所列規則,且Layout上無法修整至Error Free,請聯
7、絡CIC相關制程負責工程師。如遇到不明或上列未列之DRC Error請與工程師討論,請勿自行合理化!2.自T18_95A梯次起,Metal Density錯誤已不可略,學生以Hierarchical的方式並無法檢查出佈局中的錯誤!一般驗証時可以Hierarchical進行驗証,由於CIC只接受Flat方式的驗証結果,故繳交佈局檔時請以Flat方式進行最後驗証!,-SUMMARY-TOTAL CPU Time:273TOTAL REAL Time:553TOTAL Original Layer Geometries:311604(1927292)TOTAL DRC RuleChecks Exec
8、uted:323TOTAL DRC Results Generated:7(7)Hierarchical,-SUMMARY-TOTAL CPU Time:303TOTAL REAL Time:610TOTAL Original Layer Geometries:2039091TOTAL DRC RuleChecks Executed:323TOTAL DRC Results Generated:13Flat,因CIC調整明年(95年)度提供之製程,UMC 0.18um Mixed Signal/RF CMOS 1.8V/3.3V Process(簡稱U18)下線服務將至95年5月份為止,未來將
9、不再提供此製程之資料申請與下線相關服務。為減緩製程轉換衝擊與協助相關設計結案,預計95年5月份前仍保有兩梯次下線,確實下線時程以95年度晶片製作時程表為準(預計於94年10月份公告)。由於 UMC Mixed Signal/RF CMOS 1.8V/3.3V process與 TSMC 0.18um CMOS Mixed Signal/RF General Purpose MiM Al 1P6M 1.8V/3.3V process(簡稱T18)特性差異不大,T18相關設計環境也完整,亦提供Artisan Cell Library,因此建議U18使用者未來可轉換製程至T18製作。對於數位高速電路
10、之設計者,亦可參考使用TSMC 0.13um CMOS Mixed Signal General Purpose MiM Cu FSG 1P8M 1.2V/2.5V process。如有問題,請與下面人員聯絡:U18技術相關,請與陳益誠先生 03-5773693ext.201聯絡 T18技術相關,請與簡廷旭先生 03-5773693ext.202聯絡 T18Cell Library,請與王朝琴先生03-5773693ext.193聯絡 U18Cell Library,請與林俊賓先生03-5773693ext.163聯絡,重要公告:95年度U18製程調整與異動說明,T13L&T13RF製程差異說
11、明,CIC所提供之T13L並非一般Pure Logic,而是指應用於Mixed-Signal的Process。T13L相容於一般Pure Logic製程,且金屬厚度完全相同,並且提供MIM電容。CIC所提供之T13L的標準操作電壓為1.2V/3.3V,T13RF則是1.2V/2.5VT13RF的Top Metal厚度為3.3um,T13L僅0.9um,因此兩者在Design Rule方面將有所差異。T13RF不提供replace,因此無法適用CIC提供之Cell-Base Flow,使用Cell-Base Flow 請改用T13L。T13RF建議用於不需replace之電路,且操作電壓1.2V
12、/2.5V之RF Circuit,Analog Circuit,Mixed-Signal,Logic Circuit。T13L建議用於操作電壓1.2V/3.3V之Analog Circuit,Mixed-Signal,Logic Circuit。,T13L&T13RF製程比較表,95年度製程服務相關重大變革說明,UMC 0.18 UM 1P6M MMC/RFCMOS 1.8V/3.3V 製程將提供至95年上半年止,下半年起將停止製程資料申請、晶片製作相關服務。95年起,開始提供TSMC 0.13 UM CMOS Mixed Signal MS General Purpose Standard
13、Process FSG Cu 1P8M 1.2&3.3V 製程,(簡稱T13L)。其餘各製程維持不變所有製程之晶片製作時程,以CIC公告之晶片製作時程表(95)為準。,重要公告:申請書內容異動與審查會投影片規範,CIC為使書面審與審查會報告更具公平性,決議前瞻性、測試元件之晶片製作申請表內個人資料將不再提供審查委員參考,未來不論書面審或審查會議所提供委員審查之報告,將刪除申請書封面(申請表),僅保留申請書內容。但學生仍須填寫繳交申請表(CIC統計資料用)因刪除申請書封面緣故,前瞻性、測試元件申請書電子檔內容有作異動,在設計內容部分加入1專題名稱 2最近三次下線紀錄等項目,詳細請參考P9,P12
14、說明或參考:CIC網頁製程服務下線導引(3)各類晶片製作申請須知與說明 前瞻性晶片製作申請須知與說明(94年度)測試元件晶片製作申請須知與說明(94年度)前瞻性晶片製作申請書電子檔範例,請參考:CIC網頁製程服務下線導引(5)各類晶片製作申請範例申請書電子檔範例(94前瞻性)學生於審查會報告時,不可於投影片(含logo)和審查報告過程中提及申請者相關之學校系所、指導教授、實驗室、身份等資料,若因違反規定造成負面審查結果,需自行負責!投影片格式,頁數不拘,以重點敘述為主。但內容必需包含範例所提及項目(範例均為審查委員經常詢問項目),審查會投影片參考範例,請參考:CIC網頁製程服務下線導引(5)各
15、類晶片製作申請範例審查會報告投影片範例(94),重要公告:TSMC下線DRC注意事項(更新),由於先前有學生因違反design rule,而造成tsmc Fab廠人力負擔及時間延誤,所以tsmc嚴重警告,這些舉動不僅影響下線者本身,也有可能造成其他客戶及Fab廠損失,而未來如有類似情況,則tsmc有拒絕下線的權力,所以tsmc要求“design rule document is golden,everydesign has to follow design rule document”,所以晶片必需符合廠商提供的design rule才具有下線申請資格,並且麻煩各位配合下列事項:CIC目前均接
16、受Dracula&Calibre DRC report,但之前曾發生有因使用Dracula舊版次而產生DRC無法check到error的問題,所以至tsmc下線者若是採用Dracula做為DRC驗證tool者務必使用最新版次(IC5.0.33,Dracula 4.9.12-2003)或以上來run DRC以避免此問題。由於每一梯次之申請件數均甚為龐大,CIC限於人力因素目前僅用Calibre來驗證之並做為下線申請資格審核的依據。每次下線前請務必上CIC網站下載最新製程資料,並利用CIC release最新的command file作DRC,LVS checkDRC report必須沒有錯誤才具
17、有下線申請資格,若因有command file所造成的假錯,則必須至 http:/www2.cic.org.tw/shuttle/drc/確認是否為合理的假錯,並且將錯誤逐條解釋,並註明錯誤代號,若錯誤不為網址上所確認的合理假錯,則必須事先跟工程師確認。,重要公告,每梯次之截止時間一律訂為申請截止日當日下午五點整,逾時將關閉FTP,並不再接受檔案上傳,請注意網路壅塞情形,盡早上傳,以免因逾時及檔案上傳不完整而喪失下線資格。每次有佈局檔上傳,均需附上DRC,LVS驗證結果,並都務必記得上傳OK檔,並至下列網址:http:/www2.cic.org.tw/shuttle/chipworks/確認上
18、傳資料,CIC將依該網頁資料進行下線作業,不再另行通知,若對此有任何疑問,請在上傳日當天17:00前聯絡製程工程師,所有製程資料一律線上申請製程資料維持一年一簽所有製程依安全性等級區分為A、B、C三類(1)申請人資格(2)申請所需相關文件(3)核可後管理 將依製程安全性等級區分。所有製程申請者均需繳交製程資料保密同意書在職證明聲明被授權人員清冊或無複製製程資料聲明銷毀製程資料聲明所有申請人應於每年三月及十月自造製程資料管理報表提供CIC存查。否則停止其相關服務 無製程使用權者不能申請晶片製作 申請人有義務配合中心不定時派員至申請人存放製程資料處進行了解與關切使用的情形及其管理CIC送CI Le
19、tter(列有申請人姓名、服務單位及地址)至TSMC核准,始能啟動下載權限,所需時間約三週。固定於每月月初送上個月的申請名單。,95年度製程資料申請說明,95年度製程安全性等級說明,95年度製程資料申請相關文件/管理列表,註一:”被授權人員清冊”與”無複製製程資料聲明”請擇一繳交。如申請者如無授權製程資料給其他人員使用,僅需繳交”無複製製程資料聲明”。註二:”製程資料控管說明會”定期舉辦,舉辦時間請注意CIC網頁公告,或與簡珮君小姐 03-5773693 ext.205詢問。,95年度製程資料申請流程,上網勾選欲申請製程,並下載相關文件,依申請製程,備妥相關需繳交文件,CIC審核,具資格之申請
20、者,授權廠商審核(CI-letter),開啟製程資料下載權限,Yes,Yes,No,No,Yes,If need,加入會員申請者在申請晶片製作之前,教授/學生均須完成加入會員與製程資料申請及授權。加入會員網址:/系統登入(教授若欲更改基本資料,亦需由此登入方能修改),製程資料申請 申請網址:login.jsp業務承辦人:簡珮君小姐,Tel:03-5773693*205,Email:frankie。,前瞻性晶片製作申請,1.ftp 技術資料包括佈局檔、佈局驗證結果檔(DRC、LVS或Apollo驗證結果檔)與 Tapeout Review Form。佈局檔案上傳完後請上傳”OK”檔,以檢查上傳佈
21、局檔是否無誤,並至晶片上傳檢查系統網頁:“http:/www2.cic.org.tw/%7Eshuttle/chipworks/”以確認申請是否成功(若網頁上無其上傳資訊者,視同無申請)。註:使用Cell-Based Flow者,另附Fault Coverage log 檔。2.ftp 計畫書電子檔包括(1)前瞻性晶片製作申請表(95年度)(2)設計內容:1專題名稱 2最近三次下線紀錄3相關研究發展現況 4研究動機 5架構簡介 6設計流程 7模擬結果8預計規格列表 9測試考量10參考文獻(3)佈局驗證結果錯誤說明(無誤者仍需註明:驗證無誤)(4)佈局平面圖(5)打線圖(選擇不包裝的申請者,免送
22、。)(6)智慧財產權切結書(95年度)註:以上(1)至(6)項合成一個電子檔。3.限時掛號郵寄(以郵戳為憑)或親送申請資料包括(1)前瞻性晶片製作申請表(95年度)(2)智慧財產權切結書(95年度)註:以上(1)、(2)需要蓋系所章與指導教授簽名。,教育性晶片製作申請,1.ftp 技術資料。包括佈局檔、佈局驗證結果檔(DRC、LVS或Apollo驗證結果檔)與 Tapeout Review Form。佈局檔案上傳完後請上傳”OK”檔,以檢查上傳佈局檔是否無誤,並至晶片上傳檢查系統網頁:“http:/www2.cic.org.tw/%7Eshuttle/chipworks/”以確認申請是否成功(
23、若網頁上無其上傳資訊者,視同無申請)。2.ftp 計畫書電子檔。包括(1)教育性晶片製作申請表(95年度)1/2(2)教育性晶片製作申請表(95年度)2/2(3)設計內容:1原理及架構說明2設計流程3電路詳圖4模擬結果 5預計規格列表6測試考量。(4)佈局驗證結果錯誤說明(無誤者仍需註明:驗證無誤)(5)佈局平面圖(6)打線圖(選擇不包裝的申請者,免送。)(7)智慧財產權切結書(95年度)註:以上(1)至(7)項合成一個電子檔。3.限時掛號郵寄(以郵戳為憑)或親送申請資料。包括(1)教育性晶片製作申請表(95年度)1/2(2)教育性晶片製作申請表(95年度)2/2(3)成績計分點名單(4)智慧
24、財產權切結書(95年度)註:以上(1)、(2)、(3)、(4)需要蓋系所章與指導教授簽名。,修課學生名單範例,*底線標示部份即必要檢查項目,測試元件晶片製作申請1/2,1.ftp 技術資料 包括佈局檔、佈局驗證結果檔(DRC、LVS或Apollo驗證結果檔)與 Tapeout Review Form。佈局檔案上傳完後請上傳”OK”檔,以檢查上傳佈局檔是否無誤,並至晶片上傳檢查系統網頁:“http:/www2.cic.org.tw/%7Eshuttle/chipworks/”以確認申請是否成功(若網頁上無其上傳資訊者,視同無申請)。2.ftp 計畫書電子檔 包括(1)測試元件晶片製作申請表(95
25、年度)(2)設計內容:1專題名稱 2最近三次下線紀錄3相關研究發展現況 4研究動機及未來研應用範圍 5元件結構及其等效模型簡介 6設計流程 7模擬結果(或未來量測項目)8預計規格列表(或預計元件趨勢)9測試考量 10參考文獻。(3)佈局驗證結果錯誤說明(無誤者仍需註明:驗證無誤)(4)佈局平面圖(5)智慧財產權切結書(95年度)註:以上(1)至(5)項合成一個電子檔。3.限時掛號郵寄(以郵戳為憑)或親送申請資料 包括(1)測試元件晶片製作申請表(95年度)(2)智慧財產權切結書(95年度)註:以上(1)、(2)需要蓋系所章與指導教授簽名。,測試元件晶片製作申請-2/2,4.測試元件晶片製作之審
- 配套讲稿:
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- 特殊限制:
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- 服务 注意事项 说明
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