无桥PFC电路说明.docx
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1、氮化镓(GaN)技术由于其出色的开关特性和不断提升的品质,近期逐渐得到了电力转换应用的青睐。具有低寄生 电容和零反向恢复的安全GaN可实现更高的开关频率和效率,从而为全新应用和拓扑选项打开了大门。连续传导 模式(CCM)图腾柱PFC就是一个得益于GaN优点的拓扑.与通常使用的双升压无桥PFC拓扑相比,CCM图腾 柱无桥PFC能够使半导体开关和升压电感器的数量减半,同时又能将峰值效率推升到95 %以上。本文分析了 AC 交叉区域内出现电流尖峰的根本原因,并给出了相应的解决方案。一个750W图腾柱PFC原型机被构造成具有集成 栅极驱动器的安全GaN,并且展示出性能方面的提升。关键字-GaN ; P
2、FC ;图腾柱;数字控制I.简介当按下智能手机上的一个按钮时,这个手机会触发一个巨大的通信网络,并且连接到数千英里之外的数据中心。承 载通信数据时的功耗是不可见的,而又大大超过了人们的想象。世界信息通信技术(ICT )生态系统的总体功耗正 在接近全球发电量的10% 1。单单一个数据中心,比如说位于北卡罗来纳州的脸谱公司的数据中心,耗电量即 达到40MW。另外还有两个位于美国内华达州和中国重庆的200MW数据中心正在建设当中。随着数据存储和通信网络的快速增长,持续运行电力系统的效率变得越来越重要。现在比以前任何时候都需要对效率进行空前的改 进与提升.几乎所有ICT生态系统的能耗都转换自AC。AC
3、输入首先被整流,然后被升压至一个预稳压电平。下游的DC/DC 转换器将电压转换为一个隔离式48V或24V电压,作为电信无线系统的电源,以及存储器和处理器的内核电压。 随着MOSFET 技术的兴起和发展,电力转换效率在过去三十年间得到大幅提升。自2007年生效以来,Energy Star(能源之星)80 PLUS效率评价技术规范2将针对AC/DC整流器的效率等级从黄金级增加到更高的白金 级,并且不断提高到钛金级.然而,由于MOSFET的性能限制,以及与钛金级效率要求有关的重大设计挑战,效率的改进与提升正在变慢。为了达到96 %的钛金级峰值效率,对于高压线路来说,功率因数校正(PFC)电路效率的预
4、算 效率应该达到98。5%及以上,对于低压电路,这个值应该不低于96.4%。发展前景最好的拓扑是无桥PFC电路, 它没有全波AC整流器桥,并因此降低了相关的传导损耗。3对于不同无桥PFC的性能评价进行了很好的总 结。这个性能评价的前提是,所使用的有源开关器件为MOSFET或IGBT。大多数钛金级AC/DC整流器设计使用图6中所示的拓扑 贸,由两个电路升压组成。每个升压电路在满功率下额定运行,不过只在一半AC线路周期 内运行,而在另外周期内处于空闲状态。这样的话,PFC转换器以材料和功率密度为代价实现了一个比较高的效 率值4 .通常情况下,由于MOSFET体二极管的缓慢反向恢复,一个图腾柱PFC
5、无法在连续传导模式(CCM )下高效运行。然而,它能够在电压开关为零(ZVS )的变换模式下实现出色的效率值。数篇论文中已经提到, PFC效率可以达到98.5%-99%。对于高功率应用来说,多个图腾柱升压电路可以交错在一起以提高功率水平,并 且减少输入电流纹波。然而,这个方法的缺点就是控制复杂,并且驱动器和零电流检测电路的成本较高。此外因 此而增加的功率组件数量会产生一个低功率密度设计。因此,这个简单的图腾柱电路需要高效运行在CCM下,以 实现高功率区域,并且在轻负载时切换至具有ZVS的TM.通过使用这个方法,可以同时实现高效率和高功率密度. 作为一款新兴半导体开关,氮化镓(GaN) FET正
6、在逐渐走向成熟,并且使此类应用成为可能。Transphorm公司已 经在APEC 2013上展示了 一款峰值效率达到99 %的基于GaN的图腾柱CCM PFC 9 。10-12还介绍了 GaN 器件出色的开关特性,以及应用优势。为了更好地理解GaN特性,并且进一步解决应用中存在的顾虑,特别是开关 频率和交叉电流尖峰问题,这篇文章讨论了: II GaN技术概述、III图腾柱CCM PFC 控制、IV.实验和V。 结论。II. GaN技术概述GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)首次问世是在2004年。HEMT结构表现出非同寻常的高电子迁移率,这个值 所表示的是一个AlGaN和GaN异构表面附近的二
7、维电子气(2DEG)。正因如此,GaN HEMT也被称为异构FET(HFET ),或者简单地称为FET。基本GaN晶体管结构如图1中所示13 .源电极和漏电极穿透AlGaN层的顶 部,并且接触到下面的2DEG.这就在源极和漏极之间形成一个低阻抗路径,而也就自然而然地形成了一个D模式器 件。通过将负电压施加到栅极上,2DEG的电子被耗尽,晶体管被关闭.苗.一口湖由W拄F精荷(SiC )基板顶部培养一层薄薄的氮化铝(AlN)绝缘层。然后,高阻性GaN和一个氮化铝镓与GaN的异构体被先 后放置在AlN上。源电极与2DEG接触,而漏电极与GaN接触.对于栅极的进一步处理在栅极下形成一个耗尽层。 图2中
8、给出了这个基本结构。要接通FET,必须在栅极上施加一个正电压.B . GaN,SiC和Si的物理属性比较一个半导体材料的物理属性决定了终端器件的最终性能.表1中显示的是影响器件性能的主要属性。PropertiesGaNSiSiC氏(eV)3.41.11i.2Ebr (MV而)33QJ3.$Vs&loLn 妁2.51.02.0M,(cm2 Vs)990-20001500650Eg是带隙能量。EG1。4的半导体通常被称为宽带隙材料。Eg更大的材料将需要更多的能量来将电子从其键位上 断开,以穿越带隙.它具有更低的泄露电流和更高的温度稳定性.ebr是临界区域击穿电压,这个电压会直接影响到电 离和雪崩击
9、穿电压电平。VS是饱和速率。峰值电子漂移速率决定了开关频率限值。是电子迁移率,它与接通电阻 成反比。接通电阻与这个参数之间的关系为19:与一个Si器件相比,如图3的品质因数中所示,碳化硅的接通电阻减少了大约500倍,而对于一个指定尺寸的半导 体来说,GaN的这些值甚至更高。Breakdown Voltage (V)图3硅、碳化硅和氮化镓理论接通电阻与阻断电压能力之间的关系16 。过去三十年间,硅(Si)在功率应用中占主导地位。但是,随着其性能接近了理论限值,性能方面的提升也变得十 分有限。作为2个新兴半导体材料,SiC和GaN看起来似乎是针对未来高性能应用的极有发展前途的候选材料。C .在FE
10、T模式和二极管模式中运行的GaN器件D mode和E-mode GaN FET 的输出特性如图4中所示13。很明显,D mode器件使用起来不太方便,其原因 在于,将一个功率级连接至DC输入之前,必须在功率器件上施加一个负偏置电压。相反地,E mode GaN FET, 正如MOSFET,通常情况下是关闭的,并且对于应用来说更加友好.然而,常开型GaN器件更加易于生产,并且性能要好很多20.对于一个指定区域或导通电阻,D-mode GaN FET的栅极电荷和输出电容比E-mode GaN FET 的少一半。而这在开关电力转换器应用中具有重大优势.对于高压GaN器件来说,大多数供应商正在使用图5
11、中所示 的,具有共源共栅LV NMOSFET 结构的D-mode GaN。LV NMOS 是一种具有低R dson和快速反向恢复体二极 管的20V-30V硅材料N沟道MOSFET 。当把一个正电压施加到GaN共源共栅FET的漏极与源极之间时,内部 MOSFET 的Vd在FET关闭时开始上升,进而在GaN器件的栅极和源极上形成一个负电压,从而使GaN器件关 闭。通常情况下,MOSFET的Vds将保持几伏特的电压,这个电压足够使GaN器件保持在关闭状态.当施加栅极电压时,MOSFET被接通,这使得MOSFET的栅极与源极短接,随后,GaN器件被接通.在FET模式下,一个GaN共源共栅FET与具有扩
12、展GaN电压额定值和附加GaN电阻的集成MOSFET的工作方式十分相似。然而,GaN器件决定了输出电容值,而这个值远远小于与之相对应的MOSFET的Coss。GaN器件本身没有体二极管,但是,当反向电流被施加到GaN共源共栅FET上时,MOSFET的体二极管首先导电,而这样实际上就把体二极管的Vf施加到GaN器件的栅极上,随后GaN器件被接通.这样的话,低压FET的体二极管运行为共源共栅开关“体二极 管”。由于LV MOSFET 的正向压降和Qrr比高压MOSFET要低,所以这样做还是有其实际意义的.出色的体二极管运行方式是GaN共源共栅FET的其中一个主要特性和优势。由于对GaN共源共栅FE
13、T驱动的要求与对于传统MOSFET 的要求是一样的,在应用采用方面,MOSFET 的直接简易替换也是GaN共源共栅FET的另外一个优 势。共源共栅方法的缺点在于,集成MOSFET 必须在每个开关周期内切换.GaN共源共栅FET继承了 MOSFET 开关的某些特点,其中包括大栅极电荷与反向恢复。这些特点限制了GaN器件的性能。Norma lly-onGaNNormally-offLV NMOSD .安全 GaN FET为了克服共源共栅结构的缺点,我们在这里介绍一个全新的安全GaN FET结构(如图6中所示).这个安全GaN FET集成了一个常开型GaN器件、一个LV MOSFET 、一个启动电路



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