有机合成中的常用保护基.ppt
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1、1,有机合成中的常用保护基,2,参考书目,保护基化学,武钦佩、李善茂编著,化学工业出版社,2007有机合成中的保护基,原著Greene T.W.,Wuts P.G.M.;华东理工出版社,2004有机合成中的保护基,格林著;范如霖译,上海科学技术文献出版社,1985,3,复杂分子的合成策略,把目标分子切割为若干合成片断及其连接策略手性中心的选择合成策略官能团保护策略,4,选择保护基的基本原则,保护基容易得到、价格便宜保护和脱保护的反应条件温和,操作方便,不会引起其他反应,且产物易于分离纯化官能团被保护后具有一定的稳定性,在脱除保护之前的反应条件下能稳定存在核磁波谱简单,不产生新的手性中心综合考虑
2、官能团被保护后的反应条件,选择适当的保护基,5,常用的保护基团,硅烷类TMS、TES、TBDMS、TBDPS,DIPS、DPS、TIPDS保护羟基、羧基、氨基(不常用)F-脱保护缩醛类保护羟基、羰基酯类保护羟基、羧基的常用方法酰胺类保护氨基,6,常用的脱保护基方法,酸脱除保护 质子酸、Lewis酸碱脱除保护 酯类水解氢化脱除保护 苄基保护基,Pd-C氧化脱除保护DDQ、CAN、I2还原脱保护,7,保护基的组合使用原则,酸、碱和氢解脱除的保护基组合使用硅烷保护基与其它保护基组合使用,8,一、羟基的保护,最常见,亲核性较高,易氧化在较温和条件下,易发生多种官能团转化研究最多,保护方法最多(150多
3、种),9,1.硅烷醚类保护法,酸性条件下的稳定性:TMSArOHCOOHNHCONHSHCH不同位置上相同保护基的稳定性:1o 2o 3oSi-O键能:112kcal/mol,Si-F键能:142kcal/mol,10,三甲基硅氧醚(TMS-OR),形成保护TMS-Cl、TMS-OTf、HMDS(Me3Si)2NH胺催化:吡啶、三乙胺、二异丙基乙基胺、咪唑、DBU常用溶剂:THF、DCM、MeCN、DMF、Py遇水不稳定,暂时性保护基,11,脱除保护水、饱和NaHCO3溶液、K2CO3的甲醇溶液HOAc、酸性树脂FeCl3、BF3.Et 2ODDQ位阻越大,水解速度越慢;带吸电子基团,水解加快
4、,12,三乙基硅氧醚(TES-OR),形成保护TES-Cl、TES-OTf,13,脱除保护对Swern、Dess-Martin、DDQ氧化,格氏试剂稳定2%HF-MeCN、H2O-HOAc-THF(3:5:11)、10%Pd-C,14,叔丁基二甲基硅氧醚(TBDMS-OR),15,16,叔丁基二苯基硅氧醚(TBDPS-OR),17,脱除TBDMS的质子酸和碱都可以脱除TBDPS,但反应时间较长。,18,2.烷基醚保护法,甲醚、苄醚、三苯甲基醚、叔丁基醚甲氧基甲醚(MOM)、苄氧基甲醚(BOM)甲硫基甲醚(MTM)四氢呋喃醚(THP),19,甲基醚(MeOR),甲基化试剂:MeI、Me2SO4、
5、MeOTf、CH2N2强碱:MeI/KOH、NaOH、NaH,Me2SO4/KOH、NaOH对强碱、亲核试剂、有机金属试剂、氧化剂、氢化物还原剂、催化清华等稳定常用BCl3或BBr3/CH2Cl2,TMSI/CHCl3、CH2Cl2或MeCN脱除也可以BF3/RSH,AlBr3或AlCl3/EtSH等试剂脱除,20,形成保护,21,脱除保护,22,苄基醚(BnOR),23,24,对甲氧苄基醚(PMB-OR),3,4-二甲氧苄基(DMB)与PMB类似,25,26,三苯甲基醚(Tr-OR),三苯甲基(Tr)、对甲氧基三苯甲基(MMT)、二甲氧基三苯甲基(DMT)保护糖、核苷、核酸等伯羟基,27,2
6、8,3.烷氧基甲基醚保护法,甲氧基甲基醚(MOM)、2-甲氧基乙氧基甲基醚(MEM)、苄氧基甲基醚(BOM)、对甲氧基苄氧基甲基醚(PMBOM)以强碱如NaH、有空间位阻的弱碱性胺如iPr2NEt为催化剂,29,甲氧基甲基醚(MOM),30,31,四氢吡喃(THP-OR),酸催化:p-TsOH、CSA、甲基苯磺酸吡啶盐、三甲基碘化硅、三氟化硼、三氯氧磷等在水解酯的碱性条件下稳定,32,33,4.酯类保护法,羧酸酯:乙酸酯(Ac)、二氯乙酸酯(CAc)、苯甲酸酯(Bz)、叔丁基甲酸酯(Pv)碳酸酯:叔丁氧基甲酸酯(Boc)、苄氧基甲酸酯(Cbz)、9-芴甲氧基甲酸酯(Fmoc),34,乙酸酯,3
7、5,氯乙酸酯,氯原子具有较高的电负性在碱性条件下比乙酸酯易水解乙酰基保护基团的水解活性:氯乙酰酯的水解速度是乙酰酯的760倍;二氯乙酰酯的水解速度是乙酰酯的16000倍;三氯乙酰酯的水解速度是乙酰酯的1000000倍。,36,碳酸酯类,Boc,37,Cbz,38,二、酚羟基的保护,酚羟基易氧化酚羟基(pKa=10)的酸性强于烷基醇(pKa=15)酚醚、酚酯比烷基醚、烷基醇酯易水解,39,1.酚醚类保护法,甲基酚醚,40,脱保护:质子酸、Lewis酸,41,苄基酚醚,42,43,MOM醚,44,2.硅烷醚保护法,保护和去保护的方法与醇相似。酸性条件下,烷氧基硅烷醚先被水解。碱性条件下,酚羟基硅烷
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