《玻璃的镀膜》PPT课件.ppt
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1、第三章 玻璃的镀膜,太阳光及光能的性质,紫外光:占太阳辐射能的 4%可见光:46%短波红外光:33%长波红外光:17%短波红外光和长波红外光统称红外光,1、如何减弱透射入室内及交通运输内的阳光强度,使射入的光线柔和而又舒适?2、如何降低太阳辐射能的透射率以降低空调能耗?3、如何减少室内热能从窗户散失,以降低采暖能耗?,问题,本章要求,掌握化学气相沉积法的基本原理,了解其生产工艺设备和优点。掌握溶胶-凝胶法的基本原理及对浸镀溶液的要求,了解浸镀法制品的品种及性能。掌握蒸发法的基本原理,掌握对电阻加热源的要求,掌握薄膜形成的过程。了解蒸发法所用的蒸发材料,了解提高膜的附着强度的措施及该法生产中常见
2、的质量问题及解决方法。掌握磁控溅射法的基本原理及溅射法制备薄膜的特点,掌握阳光控制玻璃Sn-Cr/CrN-Sn膜系各层的作用。掌握喷涂法和制镜的原理,了解化学镀银镜的生产工艺流程。,本章内容,3.1 化学气相沉积法 基质材料表面可以采用一种易挥发的、稳定的化合物在低于基质材料熔点的温度下在其表面成层。该化合物然后经历某些化学反应形成稳定的、附着力强的镀层。本教材定义:气凝胶法化学气相沉积法(Chemical Vapor Deposition),简称CVD法,它是利用气相物质通过化学反应在基体表面上形成固态薄膜的一种成膜技术。,举例,四溴化钛是挥发性的,将气态TiBr4与氢气混合,混合气体加热到
3、1300,让其通过基质表面。加热陶瓷基质材料如氧化硅或氧化铝:TiBr4(g)+H2(g)Ti(s)+4HBr(g)氢气存在下SiCl4在1100-1200时的分解形成硅薄膜:SiCl4(g)+H2(g)Si(s)+4HCl(g)H2和CO2存在下于600-900热解SiCl4:SiCl4(g)+H2(g)+CO2 SiO2(s)+4HCl(g)+2CO(g)硅烷SiH4与氨NH3在900-1100反应制得:3SiH4(g)+4NH3(g)Si3N4(s)+12H2(g),化学气相沉积法(CVD)的原理,膜型:硅膜。反应的活化(加热、高频电场、电子轰击或基体表面的催化作用)通过热的玻璃基片实现
4、的,沉积反应处于微正压状态。,CVD法的生产工艺设备,应用于电器元件表面复合材料的生产。生产在浮法线上进行,在锡槽的长度方向上选择符合生产工艺要求的温度区,插入一个镀膜反应器。生产过程:某些物质制成的气体,按一定的配比与载气气体预先混合,将混合气体送入镀膜反应器器壁之下,此气体在该温度下于接近玻璃表面处产生化学反应,反应产物凝结在玻璃表面而形成固体薄膜;镀膜反应器用耐高温材料制成,并用冷却水管进行冷却,能在该温度下长期使用;反应副产物从排气系统排出。,影响CVD法镀膜玻璃质量的因素(反应速率),沉积反应的总速率是由玻璃基片上的表面反应速率和反应气体向玻璃表面的扩散速率决定的。1、气体物质的浓度
5、、流量:与物质原子向基片表面迁移并结合进入玻璃内层的数量有关;稀小迁移几率少膜薄2、玻璃表面与反应器底面的间距:大膜薄,影响CVD法镀膜玻璃质量的因素(反应速率),3、安装镀膜反应器处的玻璃温度:高温沉积速率对温度不敏感;低温沉积速率下降膜薄4、反应副产物及未反应物的排出速度:过大不能形成稳定的气流,膜厚不均,甚至不能成膜;过小分解成颗粒状物质,沉积到膜上。5、玻璃拉引速度:不变加大气体物质的流量,膜厚;增大气体物质的流量不变,膜薄,CVD法的优点及前景,优点:1、生产装备简单、投资少、装机功率小、运营费用低、能耗低、产量大、经济效益高。2、一线二用,调节生产灵活。3、产品可以钢化及热弯,膜层
6、及其颜色均不变化,本法只适宜于生产阳光控制膜玻璃。前景,3.2 溶胶凝胶法,一、凝胶浸镀法的原理及膜型 二、凝胶浸镀法的生产工艺流程 三、浸镀溶液 四、产品品种和性能 五、凝胶浸镀法的优缺点,各种溶胶凝胶镀膜方法,浸渍提拉法,旋涂法,喷涂法,泻流涂覆法,层流涂覆法,一、凝胶浸镀法的原理及膜型,1、原理:III、V和VI族合成烃氧基化合物,无机盐类镀膜物质,溶于溶剂醇盐溶液放入玻璃基片一段时间醇盐液水解加热缩聚氧化物膜2、无机盐:氯化物、硝酸盐、乙酸盐等。3、溶剂:乙醇、丙酮及水 4、膜型氧化物(还可以是金属胶体膜层):非晶相(SiO2)或多晶相(TiO2)5、溶胶的密度不大(不大于1gcm3)
7、,最终氧化物的密度却较大(23gcm3),溶胶硬膜收缩不均或开裂,然而3m4 m高质量膜证明浸镀膜的收缩主要在厚度方向而不是在平面方向。,一、凝胶浸镀法的原理及膜型,6、以镀Al2O3为例,说明整个化学反应过程:,R烷基,一、凝胶浸镀法的原理及膜型,7、浸镀过程中,薄膜内部同时产生两种力:一种是平行于玻璃基片表面的内聚力,另一种是垂直于玻璃基片表面的粘附力。随着膜厚的增加,内聚力有大于粘附力的趋势,于是薄膜产生很大的张力,这对膜的质量是不利的。某种元素的烃氧基化合物溶液充分水解生成的硅酸盐或钛酸盐,是共价键结合,所以粘合性能良好。,二、凝胶浸镀法的生产工艺流程,玻璃基片人工检验洗涤干燥装片浸镀
8、提升输送烘干加热冷却卸片检验包装入库。提升的最佳速度:1020cm/min升温的速度:710/min;加热至400500;保温0.5h,三、浸镀溶液,1、浸镀溶液应满足下述要求:(1)起始化合物可溶于有机极性溶剂,在少量水的参与下易水解,所得溶液在溶剂挥发后难于结晶,易留下凝胶状非晶态物质。(2)溶液对玻璃基片的润湿性良好,以便使膜牢固地粘合于玻璃表面上,必要时在溶液中加入润湿剂。(3)溶液须有足够的稳定性,存放时间略长一些。溶液呈胶态状,须使用稳定剂,使之稳定。(4)水解所生成的各种氧化物薄膜必须能在较低温度下进行充分脱水。,三、浸镀溶液,配制浸镀溶液的材料是元素周期表中IIIVI族元素,如
9、Al、In、Sn、Ti、Zr、Ta、Cr、Sb等氧化物或几种氧化物的混合液。工业上常用的浸镀溶液:某些烃氧基化合物(或称正酸乙酯);溶剂一般使用乙醇或丙酮(与玻璃表面不润湿、介电常数小及挥发温度高的溶剂不能采用)。溶质(成膜物质)、溶剂及催化剂的配比也很重要:(1)保证相应的酸或氢氧化物溶液部分或完全水解成胶体;(2)使玻璃基片表面层迅速水解成透明膜。(3)最佳配比还能确保膜层能牢固地粘在玻璃表面。溶液的粘度:(1.52)10-3Pas。,三、浸镀溶液,镀膜溶液有一个成熟过程,即溶质与溶剂完全相互作用甚至部分水解,然后才能使用。加少量的HCl 的作用:促成生成中间化合物,起胶溶剂作用,使溶液长
10、时间稳定;调节PH=56。需水量的计算(根据水解反应式):溶剂乙醇的浓度由需水量决定。镀膜溶液的需水量还要考虑环境湿度。,四、产品品种和性能,用浸镀法制成的膜层大多用作光学零件的干涉层,折射率范围是1.455(SiO2)2.25(TiO2)。1、阳光控制玻璃(热反射玻璃):定义:凡是具有反射太阳能作用的镀膜玻璃都可以称为阳光控制玻璃,准确定义为对波长范围3501800nm太阳光具有一定控制作用的镀膜玻璃称为阳光控制玻璃。功能:热反射玻璃第一个功能是节能,其次才是映像装饰功能(单向透视)。,1、阳光控制玻璃(热反射玻璃):,浸镀膜TiO2,在浸镀液中加入Pd的胶态粒子,最大优点:可见光谱中的透射
11、部分以及反射部分,都给人以柔和的视觉。浸镀膜的抗环境作用和抗划伤能力都很强,可以单片使用。Pd胶态粒子:膜中所含的胶态金属钯是先以Pd2+离子进入溶液中,继而将其还原成金属Pd微粒,具有调节吸收阳光的作用,紫外线因而被大大削弱。其数量要加以控制,因为过分吸收会造成玻璃温度过高,导致遮阳效率降低。理想的阳光控制玻璃:透过率为60,反射率为35。,How Does Window Film Work?,Glass with film,Glass without film,SOLAR CONTROL FILM,SOUTH KOREA,SINGAPORE,SOLAR CONTROL FILM,四、产品品
12、种和性能,2、彩色膜玻璃(1)Fe2O3膜:Fe(OC2H5)3的乙醇溶液。铁酸乙酯每升含Fe2O320g。烘膜温度380450,茶红色。(2)CoO膜:Co(CH3COO)2的乙醇水溶液。醋酸钴每升含CoO15g。450,加热30min,灰茶色。(3)Cr2O3膜:Cr(CH3COO)3H2O的乙醇溶液,醋酸铬每升含Cr2O320g。烘干膜温度400(以380为宜)。此种膜不容易粘牢在基片上,灰绿色。(4)Fe2O3-Cr2O3和Fe2O3-Cr2O3-CoO混合膜:(5)混合膜:硝酸铁、四水醋酸锰、硅酸乙酯、乙醇、正丁醇、醋酸硝酸溶液;350下烘烤15min,茶色。上述六种原料的比例为9:
13、7:18:75:5:4.5。,四、产品品种和性能,3、汽车后视镜:浸镀三次,形成三层膜,其膜系为TiO2-SiO2-TiO2。欧洲用得很多,其特色是对比度好,可降低反射眩光,司机对反射光不感到刺眼。,四、产品品种和性能,4、减反射玻璃(增透玻璃反反射玻璃):浸镀减反射膜,此种膜在一定波长范围内,其表面的反射率小,而透射率增加,透射率增加于光学表面上的一层或多层介质膜或金属上,单层膜折射率(n1)的理想值是所加表面两边折射率(n0,n2)乘积的平方根,即:,4、减反射玻璃(增透玻璃/反反射玻璃),平板玻璃的折射率nG1.511.52,浸镀单层膜是不够的,因最低折射率致密膜材料SiO2的折射率为1
14、.45。产生零反射:底层取n底=1.79,将SiO2与高折射率氧化物TiO2(ZrO2、CeO2)混合即可获得该折射率的浸镀液;中间层n中=2.2,镀TiO2膜;顶层取n顶=1.45,镀SiO2膜。两面浸镀三层减反射膜(增透膜)玻璃的积分反射率在1以下,一般平板玻璃的反射率为7。,4、减反射玻璃(增透玻璃),应用:仪表、刻盘及字画的盖玻璃,还能起到保护的作用;高级橱窗、博物馆、艺术馆、陈列馆等,应用于TiO2薄膜自洁净玻璃生产的溶胶凝胶镀膜生产线,四、产品品种和性能,5、凝胶浸镀法镀膜玻璃的主要性能(1)遮阳系数用浸镀法生产的3mm厚镀反射膜的阳光控制玻璃的遮阳系数为0.260.56。(2)热
15、传导率 镀反射膜的阳光控制玻璃单片的K值一般为4.25.2W/(m2K)。相同厚度未镀膜的单片普通玻璃的K值为5.8 W/(m2K)。,五、凝胶浸镀法的优缺点,1、优点:(1)设备简单,造价低,不需要昂贵的真空系统,投资少;(2)两面同时浸镀,强化镀膜效果或减少所需层数;(3)化学键结合,膜层附着强,牢固性好;(4)容易实现镀多层膜已获得所需的膜层;(5)玻璃的内壁(玻璃管的内壁)镀膜也十分容易;(6)烘膜温度低(380500),不会变形。2、缺点:浸镀液很难保持其浓度长期稳定不变。尺寸很小或棱角多的制品不宜用浸镀法镀膜。,3.3蒸发法,一、真空蒸镀法 的原理二、三、真空蒸发镀膜玻璃的品种,生
16、产工艺,1、蒸发源,2、蒸发材料,3、薄膜形成过程,4、镀膜条件对膜层的影响,5、提高膜的附着强度的措施,6、生产中常见的质量问题及解决办法,一、真空蒸镀法 的原理,真空蒸镀法是利用真空状态下分子运动特性的一种工业镀膜方法。物质所在空间的压力等于它在这一温度下的饱和蒸气压时,此物质就会大量蒸发出蒸气分子。在真空室内,物质达到饱和蒸气压的温度将大大降低举例:金属铝在大气压(0.1MPa)下需要加热到 2467才能大量蒸发。但如果在真空度为10-4Pa的空间里,仅需要加热到768,铝就可以蒸发。,一、真空蒸镀法的原理,真空蒸镀法就是利用各种金属在真空中,气体分子的平均自由程加大导致蒸发速度加快的特
17、性进行镀膜工艺的方法。具体实施的方法是:将待镀膜的洁净的玻璃基片置入真空室中,同时将所镀的金属(一般用金属丝)放入真空室中的钨丝圈内。将真空室抽至高真空(一般为510-21.310-3Pa),此时向钨丝圈通电,它产生的高温足以使所放入的金属丝在此真空度下完全蒸发。金属蒸气质点沉积在玻璃表面上,形成一层具有一定粘结强度的金属膜。,一、真空蒸镀法的原理,玻璃基片在真空室的放置方法有两种:一种是每两片玻璃为一组,叠着放置,相靠的一面没有金属膜,向外的一面则镀上一层金属膜。另一种是两片玻璃相对垂直放置,中间排列若干组钨丝圈及金属丝,相向的一面镀上金属膜。若蒸发的金属是铝而膜层又较厚时,所制得的产品为铝
18、镜。若蒸发的金属为热反射膜膜料,而膜层的厚度又较薄时,则所制得的产品为热反射膜玻璃。,二、真空蒸镀法的生产工艺,工艺流程:G基片人工检验切裁洗涤干燥装片(蒸发源十膜材)镀膜(抽真空)出片检验包装入库 铝膜:底漆面漆镜片。所涂的底漆、面漆,其商品名为镜背漆。热反射镀膜玻璃不需涂漆。用真空蒸镀法生产镀膜玻璃目前是间歇式生产。,高真空镀铝镜镀膜机,蒸发式真空镀膜机,二、真空蒸镀法的生产工艺,1、蒸发源(1)定义:真空设备中对蒸发材料进行加热的零件(2)种类:电阻加热源、电子束加热源,电阻加热源,直接,间接,综合型,单股丝状螺旋形,多股丝状螺旋形,凹形舟,方形舟,圆锥形单股丝,坩埚和加热体,加热体装在
19、坩埚外面,加热体一部分装在坩埚外面,一部分插入粉状蒸发材料中,几种典型结构,真空蒸发法镀膜设施示意图,二、真空蒸镀法的生产工艺,(3)对电阻加热源的几点要求:A、蒸发源加热体的材料必须有足够低的蒸气压;B、蒸发源材料熔点必须高于蒸发材料的熔点;C、应具有稳定的化学性能;D、必须能装载要蒸发的蒸发材料。,蒸发铝:钨、钼、钽(间歇)和石墨(连续)钨:在加热到蒸发温度时,会因结晶而变脆。钨和水蒸气起反应,会形成挥发性氧化物WO3石墨电极:在高温下铝会渗入石墨中,使坩埚膨胀而破裂,因而使用寿命较短,一般为12h。新型的蒸发源氮化硼合成导电陶瓷蒸发源,常用蒸发源的形状及应用实例,2、蒸发材料,(1)具备
20、的条件A、采用丝状蒸发源时,要与蒸发源材料湿润;B、蒸发温度必须低于蒸发源所能承受的最高温度,杂质含量低;C、具有良好的化学稳定性和真空热稳定性;D、与基片的结合牢固;E、在真空中放气少,且不存在挥发物质;F、对蒸发源及设备不产生腐蚀;G、使用方便、易于获得。,Do you know?,地壳中含量最高的金属元素人体中含量最高的金属元素目前世界年产量最高的金属元素导电、导热性最好的金属元素熔点最高的金属元素熔点最低的金属元素,铝,钙,铁,银,钨,汞,(2)常用的金属蒸发材料介绍,A、铝:Tm660,Te1100,化学性能活泼,高温时与陶瓷材料发生化学反应,与难熔金属形成低熔点合金。蒸发源:钨丝或
21、钼丝的电阻加热式B、铬:Tm1900,但在1397,蒸气压可达到1Pa,附着力强,蒸发源:凹形舟、方形舟、圆锥形单股丝;蒸发源材料:钨C、铜:Tm1080,1Pa,Te1257,导电率高,可焊性好,但易氧化,附着力小,蒸发源采用电阻加热式:钨螺旋丝或钨、钼、钽蒸发舟。,(2)常用的金属蒸发材料介绍,D、镍:Tm1452,1Pa,Te1527,常与铬形成镍铬合金,增强附着力较差的金属。蒸发源:氧化铍和氧化铝坩埚;一般采用较粗的钨丝做成的螺旋形电阻加热源。E、钯:Tm1550,1Pa,Te1462,保护层,附着力小,用钛或铬作底层。蒸发源:钨丝状螺旋形电阻加热源。F、金:Tm1063,1Pa,Te
22、1397,保护膜层的顶层,附着力不强,用钛或铬作底层。蒸发源:钨或钼的丝状螺旋形或圆锥形电阻加热式。,(2)常用的金属蒸发材料介绍,G、钛:Tm1667,1Pa,Te1737,附着剂,吸气剂。蒸发源:钨丝状螺旋形或圆锥形电阻加热式。H、锌:Tm420,1Pa,Te408,常用蒸发银蒸气来预先敏化基片的表面。银膜的平均膜厚0.1nm就可获得满意的结果,银原子充当锌原子的成核中心,使锌膜的生长、薄膜结构和膜的性能较好。蒸发源:舟形坩埚,常用蒸发材料、用途及蒸发源,薄膜形成过程示意图,3、薄膜形成过程,3、薄膜形成过程,(1)成核小岛阶段:核的直径约2nm,核间距离为30nm 左右。两个各自独立存在
23、的原子吸附的原子越来越多接触处逐渐变大原子连成小岛。(2)聚结阶段:原来的小岛各自为中心进行扩大连接而形成大岛。(3)大岛与大岛的边沿不规则地相连,形成网状薄膜、沟道、通路、孔眼阶段(4)成膜阶段:此薄膜在微观上其厚度并不是均匀一致的,而是凹凸不平的。,3、薄膜形成过程,4、镀膜条件对膜层的影响,(1)真空室压力对膜层的影响高真空,减少残余气体的分子数、增大残余气体分子的平均自由程,碰撞机会减少 当真空度低时,会出现下述两种情况:a吸附残余气体分子,与蒸发材料的蒸气分子产生化合作用,影响膜的质量。b碰撞几率增加,消耗动能,吸附能降低。膜层松散无力,严重时出现粉末状的附着,易脱落。(2)膜层沉积
24、速率的选择适当提高蒸发源的温度、增大蒸发面积。(3)蒸发源、蒸发材料的表面必须清洁,5、提高膜的附着强度的措施,膜层附着强度:膜层附着在基片表面上的牢固程度 影响膜层附着强度 因素:,膜应力,热应力:蒸发材料与基片的热膨胀系数不同,内应力,沉积内应力:放热,聚结、收缩,附加内应力:膜产生氧化作用,剪应力,潮湿气体、油污、尘埃,吸附水分子层或油分子层,形成没有膜层的砂眼(针孔),5、提高膜的附着强度的措施,1)提高基片温度:排除、转化、增加(铝镜50)2)选择合适的工作压力:10-2Pa3)采用较小的蒸发角度:604)选择适当的膜厚:40100nm5)对基片有一定的要求:A、平整度高,光学变形小
25、;B、化学稳定性好;C、热稳定性及抗热冲击性能好;D、具有一定的机械强度;E、热膨胀系数应与薄膜膨胀系数接近,防止薄膜产生应力而剥落。6)基片镀膜前需认真处理:清洗、干燥和贮存7)成膜前用电子或离子对基片轰击、加热:50100,6、生产中常见质量问题及解决办法,膜层附着力小,原因,a、真空度低,b、玻璃表面不干净,c、蒸发源钨丝氧化及蒸发材料铝丝受污染,d、扩散泵返油,解决办法:真空度 10-2Pa,含铝量99.9;(烧碱液泡洗,自来水冲洗,干燥)。停2030s,方可充气。,镜片有针孔,原因:尘埃多,玻璃表面粘附颗粒状杂物,清洗不彻底,或清洗后存放时再次粘附颗粒状杂物。,解决办法:严格清洗玻璃
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