《真空镀膜技术》课件.ppt
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1、真空鍍膜技術,蒸鍍(Evaporation)&濺鍍(Sputter),塑膠外觀金屬化製程簡介,Film Deposition,薄膜沈積(Thin Film Deposition),在機械工業、電子工業或半導體工業領域,為了對所使用的材料賦與某種特性在材料表面上以各種方法形成被膜(一層薄膜),而加以使用,假如此被膜經由原子層的過程所形成時,一般將此等薄膜沈積稱為蒸鍍(蒸著)處理。採用蒸鍍處理時,以原子或分子的層次控制蒸鍍粒子使其形成被膜,因此可以得到以熱平衡狀態無法得到的具有特殊構造及功能的被膜。,薄膜沈積的兩種常見的製程,物理氣相沈積-PVD(Physical Vapor Deposition
2、)化學氣相沈積CVD(Chemical Vapor Deposition),薄膜沈積機制的說明圖,物理氣相沈積-PVD(Physical Vapor Deposition),PVD顧名思義是以物理機制來進行薄膜堆積而不涉及化學反應的製程技術,所謂物理機制是物質的相變化現象蒸鍍(Evaporation)濺鍍(Sputtering),真空電鍍簡介,被鍍物與塑膠不產生化學反應環保製程;無化學物污染可鍍多重金屬生產速度快可對各種素材加工屬低溫製程,最常見的PVD製程,蒸鍍與濺鍍常見類型,蒸鍍(Evaporation),蒸鍍(Evaporation)原理,蒸鍍(Evaporation)原理,蒸鍍(Eva
3、poration)原理,蒸鍍(Evaporation)原理,蒸鍍(Evaporation)原理,鎢絲鎢舟鉬舟,蒸鍍(Evaporation)原理,濺鍍(Sputter),PLASMA,物質的第四態,什麼是電漿,藉由外加的電場能量來促使氣體內的電子獲得能量並加速撞擊不帶電中性粒子,由於不帶電中性粒子受加速電子的撞擊後會產生離子與另一帶能量的加速電子,這些被釋出的電子,在經由電場加速與其他中性粒子碰撞。如此反覆不斷,進而使氣體產生崩潰效應(gas breakdown),形成電漿狀態。,電漿性質,1.整體來說,電漿的內部是呈電中性的狀態,也就是帶負電粒子的密度與帶正電粒子的密度是相同的。2.因為電漿
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