半导体三极管和场效应管.ppt
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1、第二章 半 导 体 三极管,2.1 双极型半导体三极管 2.2单极型半导体三极管 2.3 半导体三极管电路的基本分析方法2.4 半导体三极管的测试与应用,2.1 双极型半导体三极管,图 2-1 几种半导体三极管的外形,2.1.1 晶体三极管的工作原理,图 2 2 晶体三极管的结构示意图和符号,一、结构及符号,无论是NPN型或是PNP型的三极管,它们均包含三个区:发射区、基区和集电区,并相应地引出三个电极:发射极(e)、基极(b)和集电极(c)。同时,在三个区的两两交界处,形成两个PN结,分别称为发射结和集电结。常用的半导体材料有硅和锗,因此共有四种三极管类型。它们对应的型号分别为:3A(锗PN
2、P)、3B(锗NPN)、3C(硅PNP)、3D(硅NPN)四种系列。,二、三极管的三种连接方式,图 2-3 三极管的三种连接方式,三、三极管的放大作用,1.载流子的传输过程发射。(2)扩散和复合。(3)收集。,图 2 4 三极管中载流子的传输过程,2.电流分配,图 2-5 三极管电流分配,集电极电流由两部分组成:和,前者是由发射区发射的电子被集电极收集后形成的,后者是由集电区和基区的少数载流子漂移运动形成的,称为反向饱和电流。于是有(2-1),发射极电流也由两部分组成:和。为发射区发射的电子所形成的电流,是由基区向发射区扩散的空穴所形成的电流。因为发射区是重掺杂,所以忽略不计,即。又分成两部分
3、,主要部分是,极少部分是。是电子在基区与空穴复合时所形成的电流,基区空穴是由电源提供的,故它是基极电流的一部分。,基极电流是与之差:,(2-2),(2-3),发射区注入的电子绝大多数能够到达集电极,形成集电极电流,即要求。通常用共基极直流电流放大系数衡量上述关系,用来表示,其定义为,(2-4),一般三极管的值为0.970.99。将(2-4)式代入(2-1)式,可得,(2-5),通常CBO,可将忽略,由上式可得出,(2-6),三极管的三个极的电流满足节点电流定律,即,将此式代入(2-5)式得,(2-7),经过整理后得,令,称为共发射极直流电流放大系数。当ICICBO时,又可写成,(2-8),(2
4、-9),则,其中ICEO称为穿透电流,即,表2-1 三极管电流关系的一组典型数据,相应地,将集电极电流与发射极电流的变化量之比,定义为共基极交流电流放大系数,即,故,显然与,与其意义是不同的,但是在多数情况下,。例如,从表2-1 知,在mA附近,设由mA变为mA,可求得,2.1.2三极管的特性曲线,图 2 6 三极管共发射极特性曲线测试电路,1.输入特性,当不变时,输入回路中的电流与电压之间的关系曲线称为输入特性,即,图 2-7 三极管的输入特性,2.输出特性 当不变时,输出回路中的电流与电压之间的关系曲线称为输出特性,即,图 2-8 三极管的输出特性,(1)截止区。一般将的区域称为截止区,在
5、图中为的一条曲线的以下部分。此时也近似为零。由于各极电流都基本上等于零,因而此时三极管没有放大作用。其实时,并不等于零,而是等于穿透电流ICEO。一般硅三极管的穿透电流小于A,在特性曲线上无法表示出来。锗三极管的穿透电流约几十至几百微安。当发射结反向偏置时,发射区不再向基区注入电子,则三极管处于截止状态。所以,在截止区,三极管的两个结均处于反向偏置状态。对三极管,BC。,(2)放大区。此时发射结正向运用,集电结反向运用。在曲线上是比较平坦的部分,表示当一定时,的值基本上不随CE而变化。在这个区域内,当基极电流发生微小的变化量时,相应的集电极电流将产生较大的变化量,此时二者的关系为 该式体现了三
6、极管的电流放大作用。对于三极管,工作在放大区时.V,而。,(3)饱和区。曲线靠近纵轴附近,各条输出特性曲线的上升部分属于饱和区。在这个区域,不同值的各条特性曲线几乎重叠在一起,即当较小时,管子的集电极电流基本上不随基极电流而变化,这种现象称为饱和。此时三极管失去了放大作用,或关系不成立。一般认为CENE,即CB时,三极管处于临界饱和状态,当CEBE时称为过饱和。三极管饱和时的管压降用CES表示。在深度饱和时,小功率管管压降通常小于.V。三极管工作在饱和区时,发射结和集电结都处于正向偏置状态。对NPN三极管,。,2.1.3 三极管的主要参数,(1)共发射极交流电流放大系数。体现共射极接法之下的电
7、流放大作用。,(2)共发射极直流电流放大系数。由式(2-10)得,(3)共基极交流电流放大系数。体现共基极接法下的电流放大作用。,(4)共基极直流电流放大系数。在忽略反向饱和电流时,2.极间反向电流,图 2-9 三极管极间反向电流的测量,3极限参数,(1)集电极最大允许电流。,图 2-10 与IC关系曲线,(2)集电极最大允许功率损耗。当三极管工作时,管子两端电压为,集电极电流为,因此集电极损耗的功率为,图 2-11 三极管的安全工作区,4.反向击穿电压 CBO发射极开路时,集电极-基极间的反向击穿电压。CEO基极开路时,集电极-发射极间的反向击穿电压。CER基射极间接有电阻时,集电极-发射极
8、间的反向 击穿电压。CES基射极间短路时,集电极-发射极间的反向击穿电压。EBO集电极开路时,发射极-基极间的反向击穿电压,此 电压一般较小,仅有几伏左右。上述电压一般存在如下关系:,2.2 单极型半导体三极管,场效应管(简称FET)是利用输入电压产生的电场效应来控制输出电流的,所以又称之为电压控制型器件。它工作时只有一种载流子(多数载流子)参与导电,故也叫单极型半导体三极管。因它具有很高的输入电阻,能满足高内阻信号源对放大电路的要求,所以是较理想的前置输入级器件。它还具有热稳定性好、功耗低、噪声低、制造工艺简单、便于集成等优点,因而得到了广泛的应用。根据结构不同,场效应管可以分为结型场效应管
9、(JFET)和绝缘栅型场效应管(IGFET)或称MOS型场效应管两大类。根据场效应管制造工艺和材料的不同,又可分为N型沟道场效应管和P型沟道场效应管。,2.2.1 MOS场效应管,这种场效应管是由金属(Metal),氧化物(Oxide)和半导体(Semiconductor)组成的,故称MOS管。MOS管可分为N沟道和P沟道两种。按照工作方式不同可以分为增强型和耗尽型两类。,一、增强型沟道绝缘栅场效应管 1、结构和符号 图2-12是N沟道增强型MOS管的示意图。MOS管以一块掺杂浓度较低的P型硅片做衬底,在衬底上通过扩散工艺形成两个高掺杂的N型区,并引出两个极作为源极S和漏极D;在P型硅表面制作
10、一层很薄的二氧化硅(SiO2)绝缘层,在二氧化硅表面再喷上一层金属铝,引出栅极G。这种场效应管栅极、源极、漏极之间都是绝缘的,所以称之为绝缘栅场效应管。,图2-12 MOS管的结构及其图形符号,绝缘栅场效应管的图形符号如图2-12(b)、(c)所示,箭头方向表示沟道类型,箭头指向管内表示为N沟道MOS管(图(b),否则为P沟道MOS管(图(c)。,2)工作原理 图2-13是N沟道增强型MOS管的工作原理示意图,图2-13(b)是相应的电路图。工作时栅源之间加正向电源电压UGS,漏源之间加正向电源电压UDS,并且源极与衬底连接,衬底是电路中最低的电位点。当UGS=0时,漏极与源极之间没有原始的导
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