材料测试技术基础 材料现代研究方法 第十三章 电子能谱分析法课件.ppt
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1、第十三章 电子能谱分析法,一 概述,表面分析技术(Surface Analysis)是对材料外层(the Outer-Most Layers of Materials(100)的研究的技术。包括:1 电子谱学(Electron Spectroscopies)X-射线光电子能谱 XPS:X-ray Photoelectron Spectroscopy 俄歇能谱 AES:Auger Electron Spectroscopy 电子能量损失谱 EELS:Electron Energy Loss Spectroscopy,2 离子谱学 Ion Spectroscopies 二次离子质谱SIMS:Sec
2、ondary Ion Mass Spectrometry 溅射中性质谱SNMS:Sputtered Neutral Mass Spectrometry 离子扫描能谱ISS:Ion Scattering Spectroscopy,二 XPS的概念,XPS也叫ESCA(Electron Spectroscopy for Chemical Analysis),是研究表面成分的重要手段。原理是光电效应(photoelectric effect)。1960s 由University of Uppsala,Sweden 的Kai Siegbahn等发展。EMPA中X射线穿透大,造成分析区太深。而由于电子穿
3、透小,深层所产生的电子不出现干扰,所以可对表面几个原子层进行分析。(吸附、催化、镀膜、离子交换等领域),X-ray Beam,X-ray penetration depth 1mm.Electrons can be excited in this entire volume.,X-ray excitation area 1x1 cm2.Electrons are emitted from this entire area,Electrons are extracted only from a narrow solid angle.,1 mm2,10 nm,Conduction Band,Val
4、ence Band,L2,L3,L1,K,FermiLevel,Free Electron Level,光:Incident X-ray,发射出的光电子Ejected Photoelectron,1s,2s,2p,三 光电效应(Photoelectric Process),1电磁波使内层电子激发,并逸出表面成为光电子,测量被激发的电子能量就得到XPS,不同元素种类、不同元素价态、不同电子层(1s,2s,2p等)所产生的XPS不同。2被激发的电子能量可用下式表示:KE=hv-BE-spec式中 hv=入射光子(X射线或UV)能量 h=Planck constant(6.62 x 10-34 J
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