太阳能晶硅电池选择性发射极激光掺杂关键技术研究可行性.doc
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1、太阳能晶硅电池选择性发射极激光掺杂关键技术研究的可行性报告一、 立项的背景和意义1、提高转换效率、降低制造成本一直是国内外晶体硅太阳能电池研究与开发的首要目标。世界常规能源供应短缺危机日益严重,仅以石油为例,至2009年底全球已证实的储量可供开采时间仅为45.7年。同时,化石能源的大量开发利用已成为造成自然环境污染和人类生存环境恶化的主要原因之一。在日本核事故之后,美、德、英、俄等国纷纷关闭本国老旧核电站,调整核电发展政策。寻找新兴能源、发展社会经济已成为世界热点问题。在各种新能源中,太阳能光伏发电具有无污染、可持续、总量大、分布广、利用形式多样等优点,已成为世界各国普遍关注和重点发展的新兴产
2、业。在我国能源中长期发展战略和规划中明确提出,到 2020 年可再生能源在能源构成的比例中要 达到 10左右。专家预测,在以后的50 年里,可再生能源在整个能源构成中会占到 50,其中太阳能将会占到 14%以上。晶硅电池具有转换效率高、性能稳定、生产工艺成熟,成本合理等特点,是所有太阳能电池种类中的最重要成员,一直占据了光伏市场85%以上的份额,预计在今后较长时间内依然占主导地位。目前,在大规模的产业应用中,常规(标准丝网印刷)单晶硅电池的效率为1718.4,多晶硅电池的效率为15.517,这一电池转换效率与理论转换效率相差很远。此外,由于受欧债危机和美国双反政策的影响,以及产能过剩引发行业的
3、无序竞争,导致太阳能电池片和电池组件的急剧下降,企业利润空间严重压缩。提高转换效率、降低制造成本一直是国内外晶体硅太阳能电池研究与开发的紧迫任务。2、激光技术在晶硅太阳能电池技术中的应用前景广阔在寻找新技术的探索中,激光技术很早就进入科研人员的视线,自上世纪六十年代激光器诞生之后,由于其自身具有单色性好、相干性好,方向性好和亮度高等特点,激光的应用层出不穷,成为新科技革命象征性的工具,极大地推动了科学研究和工业制造技术的发展。在材料加工领域,激光具有独特的精确快速加工能力,在半导体、冶金、机械、化工、制药等行业已经大规模应用,越来越受到重视。特别是激光在半导体制造领域的应用已经相当广泛,技术也
4、比较成熟,包括激光辅助沉积、激光退火、激光光刻、激光辅助掺杂等技术都对太阳电池领域的应用有着很好的借鉴作用。目前,太阳电池的生产基本工艺依次如下:初始硅片的清洗与制绒;高温扩散形成PN结;等离子刻蚀作边缘隔离并清洗去磷辟玻璃;等离子化学气相沉积(PECVD)制备SiNx减反膜;丝网印刷电极和背场并烘干;最后是烧结。在上述太阳能晶硅电池的制作工艺中,除了清洗和作减反膜,激光几乎都可以发挥作用,甚至可对同一电池进行多次工艺。在晶体硅的高效电池工艺巾,由于电池结构较复杂,往往多次用到激光来实现不同的加工工艺,如ISFH的RISE-EWT电池,集激光贯孔、激光刻蚀和激光烧蚀于一体,将激光的作用发挥得淋
5、漓尽致。总之,激光工艺在晶体硅太阳电池的制造过程中将会被广泛应用,是因为具有如下优点:可以对工艺表面进行选择性的区域处理,工艺过程不需要掩膜的制备和使用;工艺过程中,激光与材料作用后所产生的热扩散效应非常小,未受激光处理的区域没有高温附加的晶格缺陷和杂质缺陷产生;激光处理的区域线宽最小可以达到20um,这对于人阳电池的精细微处理非常重要;工艺过程环保,不需要对环境有害的气体,也没有有害气体放出;便于被整合到现有的太阳电池生产线中,工业上容易实现产业化,设备节省空间等。3、选择性发射极激光掺杂技术代表了未来高效晶硅太阳能电池技术产业化发展的一个重要方向。太阳能晶硅电池选择性发射极激光掺杂技术就是
6、在金属栅线(电极)与硅片接触部位利用激光将电池片表面磷源进行重掺杂,结合前道工序在电极之间位置轻掺杂发射结和后道工序的精密丝印工艺形成栅极。选择性发射极结构可降低扩散层复合,提高光线的短波响应,减少前金属电极与硅的接触电阻,使得短路电流、开路电压和填充因子都得到较好的改善,从而提高转换效率。选择性发射极激光掺杂技术不需要杂质扩散的掩膜,栅极之间的区域不产生高温晶格缺陷和杂质缺陷,工艺安全而环保,方便现有生产线的升级。目前,澳大利亚的新南威尔士大学、德国的斯图加特大学、夫琅和费太阳能系统研究所等研究机构都在抓紧进行选择性发射极激光掺杂技术的关键技术攻关和产业化推广工作。国内光伏企业中,尚德“冥王
7、星”,晶龙“赛秀”,晶澳“枫叶”,保利协鑫“鑫单晶”,英利“熊猫”,天威新能源“神鸟”,中电光伏“SE”等电池计划中,大部分是考虑使用激光掺杂技术的。选择性发射极激光掺杂技术代表了未来高效晶硅太阳能电池技术产业化发展的方向。4、激光技术在晶硅太阳能电池技术中的应用将大大推进激光在半导体、微电子行业的应用,有利于温州激光产业集群在激光新型应用领域中占据主导地位。太阳能光伏行业是近几年爆炸式发展的战略新兴产业,激光技术在太阳能光伏行业的应用还是处于起步阶段,在激光器光源、配套的单元器件技术、激光加工工艺等方面需要进一步的研究。激光加工技术的独特优势将使其成为高效晶硅太阳能电池技术的主要技术手段,市
8、场前景非常巨大。在起步阶段支持这一技术的发展,有利于温州激光产业集群在激光新型应用领域中占据主导地位,并大大推进激光在半导体、微电子行业的应用。二、国内外研究现状和发展趋势制约晶体硅太阳电池光电转换效率进一步提高的主要技术障碍有:(1)均匀反射发射区的掺杂浓度过高时,发射区的复合比较严重,掺杂浓度过低时,正面金属电极的接触电阻比较大;(2)金属栅线的宽度较宽,栅线的高/宽比不理想。这样电极的遮光面积较大,而且金属电极上的串联电阻也较大;(3)电池表面光反射损失等。针对这些障碍,近些年来,研究开发了许多新技术、新工艺,主要有:选择性发射极技术;表面钝化技术;双层减反射膜及绒面技术;背点接触电极技
9、术;新型N型电池等,以及这些技术的组合应用。选择性发射极技术是晶体硅太阳能光伏电池生产商提高电池效率、降低每瓦成本的重要手段。选择性发射极技术就是在金属栅线(电极)与硅片接触部位进行重掺杂,在电极之间位置进行轻掺杂。这一的结构可降低扩散层复合,由此可提高光线的短波响应,同时减少前金属电极与硅的接触电阻,使得短路电流、开路电压和填充因子都得到较好的改善,从而提高转换效率。选择性发射极技术的方法有:(1)激光刻槽埋栅法;(2)重掺杂回刻法;(3)丝网印刷掺杂法;(4)激光转印掺杂法;(5)激光直接掺杂法等等。相对其他掺杂方法,激光直接掺杂法,工艺流程简单、可控,可实现区域性掺杂,重掺杂,激活率高,
10、对光电转换效率提升的效果十分明显,是未来选择性发射极制造方法的最重要选择。目前,根据掺杂源的供给方式,激光掺杂形成选择性发射极的主要技术有:气态源的激光掺杂;液态源的激光掺杂;固态源的激光掺杂;其中固态源的供给方式,直接利用发射极扩散后表面磷硅玻璃PSG,蒸发镀掺杂磷源,溅射镀掺杂磷源,旋涂掺杂磷源以及丝网印刷掺杂磷源等方式。目前晶体硅太阳电池转换效率的世界纪录保持者是新南威尔士大学马丁格林实验组1999年研制的发射极钝化及背面局部扩散(Passivated Emitter,Rear Locally diffused,PERL)小尺寸规格的晶体硅太阳电池,该电池的转换效率达到24.7,2009
11、年经过光谱修正后,该电池的效率被重新确定为25,此后新南威尔士大学并提出了激光刻槽埋栅技术并在西班牙BP SOLAR公司实现了产业化4,17,并进行提出了单面激光掺杂和双面激光掺杂的技术方法,双面激光掺杂太阳能电池将在背面采用高掺杂点接触电极和高效钝化层设计,通过提高开路电压,P型Cz单晶硅和P型多晶硅双面激光掺杂的效率将有望达到21%和19%,2010年,新南威尔士大学报导的单面激光掺杂选择性发射极的电池效率达到18.7%。2008年,德国夫琅禾费太阳能系统研究所的D. Kray等研究组报导了采用湿法化学激光掺杂法,制备的选择性发射极电池效率超过20%。2008年德国斯图加特大学T. Rde
12、r研究组报道了直接在磷硅玻璃上进行激光掺杂,获得了0.4%绝对转换效率的提高,2009 年,报道了激光掺杂全面积发射极晶体硅太阳电池的世界记录,效率达到18.9%。2011年,德国Hamelin太阳能研究所(ISFH)的Sebastian Gatz研究组,报导了通过优化的表面钝化电解质膜,丝网印大面积的单晶硅电池的转换效率达到19.4%。西班牙BP Solar公司的M.C.Morilla研究组研究了方阻与激光功率的关系以及掺杂后的表面形貌,法国B. Paviet-Salomon研究组分析和实验研究了激光功率、方阻以及饱和电流密度之间的关系。此外,美国的相干公司、德国的ROFIN、TRUMP公司
13、都与光伏企业进行了一些初步的激光掺杂实验。北京电工所的王文静研究组理论计算和实验研究了晶硅太阳能电池用532nm倍频Nd:YAG激光掺杂的方阻,分析了激光能量与方阻的关系,中山大学的沈辉、梁宗存研究组等进行了激光掺杂工艺以及激光烧结背电极的研究。中科院宁波材料技术与工程研究所万青研究组提出了一种交叉自对准工艺,采用激光掺杂技术和普通丝网印刷设备研制了高效率的晶体硅太阳能电池,最佳电池光电转化效率由激光掺杂前的14.4提高到激光掺杂后的17.7%。此外,上海交通大学、西安交通大学、云南师范大学,天津大学等众多研究机构都进行了太阳电池选择性发射极及相关工艺的研究。华工激光、大族激光等激光企业也协助
14、一些太阳能光伏企业进行了一些初步的实验研究。 三、研究开发内容和技术关键1、主要技术内容本项目立足于现有的丝网印刷晶硅太阳能电池生产与研发技术,通过与武汉华中科技大学激光加工国家工程研究中心合作,进行选择性发射极激光掺杂关键技术攻关, 重点攻克激光掺杂设备的光束整形技术、高效脉冲调制技术、工装夹具与自动化控制、多工位高速生产技术,激光掺杂对硅片的损害机理与控制、选择性掺杂浓度设计、栅线分布优化设计、激光掺杂优化工艺、精密丝印工艺等多个关键技术,开发出具有自主知识产权的选择性发射极激光掺杂技术与工艺,提高晶硅太阳能电池的生产效率,解决制约我国高效晶硅太阳能电池生产关键技术与工艺的国产化问题,对于
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