微小位移技术课件.ppt

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1、姓名：王雪,重庆科技学院电子信息学院精密机械与仪器课程,微位移技术,微位移技术,一：概述,二：压电、电致伸缩器件,三：电磁控制的微动工作台,四：柔性铰接,五：精密工作台的设计及特性分析,六：其他类型微位移工作台,微位移技术发展很快。用金刚石车刀直接车削大型天文望远镜的抛物面反射镜时，要求加工出几何精度高于1/10光波波长的表面，即几何形状误差小于0.05 m。计算机外围设备中大容量磁鼓和磁盘的制造，为保证磁头与磁盘在工作过程中维持1 m内的浮动气隙，就必须严格控制磁盘或磁鼓在高速回转下的跳动。特别是到20世纪70年代后期，微电子技术向大规模集成电路（LSI）和超大规模集成电路（VLSI）方向发

2、展，随着集成度的提高，线条越来越微细化。256K动态RAM线宽已缩小到1.25 m左右。目前已小于0.1 m，对与之相应的工艺设备（如图形发生器、分步重复照相机、光刻机、电子束、和X射线曝光机及其检测设备等）提出了更高的要求，要求这些设备的定位精度为线宽的1/31/5,即亚微米甚至纳米级的精度。,概述,概述,微位移机构的分类及应用,微位移机构（或称微动工作台）由微位器和导轨 两部分组成，根据导轨形式和驱动形式分成五类：柔性支撑、压电或电致伸缩微位器驱动；滚动导轨，压电陶瓷或电致伸缩微位移器驱动；滑动导轨，机械式驱动；平行弹性导轨，机械式或电磁、压电、电致伸缩微位移器驱动；气浮导轨，伺服电机或直

3、线电机驱动。微位移器根据形成微位移的机理可分成两大类：机械式和机电式.,微位移机构的分类及应用,微位移机构系统的基本构造：,微位移机构的分类及应用,微位移系统的应用：微位移系统在精密仪器中主要用于提高整机的精度，根据目前的应用范围，大致可分为四个方面:1.精度补偿精密工作台是高精度精密仪器的核心，当前精密工作台的运动速度，一般在20mm/s50mm/s，最高的可达)100mm/s以上，而精度则要求达到1m以下，由于高速度带来的惯性很大，一般运动精度比较低，为解决高速度和高精度的矛盾，通常采用粗精相结合的两个工作台来实现。,微位移机构的分类及应用,如图5-3(a)所示粗工作台完成高速度大行程而高

4、精度由微动工作台来实现，通过微动工作台对粗动工作台运动中带来的误差进行精度补偿，以达到预定的精度。,微位移机构的分类及应用,2.微进给 主要用于精密机械加工中的微进给机构以及精密仪器中的对准微动机构，如图5-3(b)所示金刚石车刀车削镜而磁盘，车刀的进给量为5m就是利用微位移机构实现的。,微位移机构的分类及应用,3.微调 精密仪器中的微调是经常遇到的间题，如图5-3(c)所示，左图表示磁头与磁盘之间的浮动间隙的调整，右图为照相物镜与被照乾版之间焦距的调整。,微位移机构的分类及应用,4.微执行机构主要用于生物工程、医疗、微型机电系统、微型机器人等，用十夹持微小物体。如图5-3(d)所示，微型器件

5、装配系统的微夹持器。,几种常用的微动工作台,1.柔性支承压电或电致伸缩微位移器驱动柔性支承微动机构是近年来发展起来的一种新型的微位移机构。它的特点是结构紧凑、体积很小，可以做到无机械摩擦、无间隙，其有较高的位移分辨率，可达1nm。使用压电或电致伸缩器件驱动，不仅控制简单(只需控制外加电压)，而且可以很容易实现亚微米甚至是毫微米级的精度，同时不产生噪声和发热，可适丁各种介质环境工作，是梢密机械中理想的微位移机构。书P143,几种常用的微动工作台,2.滚动导轨压电器件驱动采用滚动导轨作为精密仪器中的精密工作台是一种常见的导轨形式，它具有行程大，运动灵活、结构简单、工艺性好、易实现较高的定位精度的优

6、点。我国1445所使用滚珠导轨作为微动工作台的支承和导向元件，压电器件驱动实现了对自动分步重复光刻机(DSW)的微定位控制图5-7)。微动台的最大行程9.5m，定位精度为0.04m。,几种常用的微动工作台,3.平行弹性导轨机械式位移缩小机构驱动（1)弹性缩小机构：这种微动机构利用两个弹簧的刚度比进行位移缩小，如图5-8所示。,几种常用的微动工作台,3.平行弹性导轨机械式位移缩小机构驱动（1)弹性缩小机构：这种微动机构利用两个弹簧的刚度比进行位移缩小，如图5-8所示。这种缩小机构的缺点是当微动台承受外力或移动导轨部分存在摩擦力时，它将直接成为定位误差的因素，而且对于步进状态的输人位移容易产生过渡

7、性的振荡，所以在不适于动态响应的条件下，可用于光学零件的精密调整机构等。,几种常用的微动工作台,几种常用的微动工作台,3.平行弹性导轨机械式位移缩小机构驱动(2)杠杆式位移缩小机构 杠杆式位移缩小机构也是微动机构中常用的一种形式。(3)楔形位移缩小机构图5-10(a)所示是利用具有微小角度的斜楔机构的位移缩小机构也已在实际中应用。特点是易获得大的缩小比，同时又能获得较大的移动范围。,几种常用的微动工作台,3.平行弹性导轨机械式位移缩小机构驱动,几种常用的微动工作台,4.平行弹性导轨电磁或电致伸缩微位移器驱动为克服丝杠螺母机构的摩擦和间隙，可采用电磁驱动的弹簧导轨微动工作台。其原理如图5-11所

8、示，微动工作台用平行片簧导向，在工作台端部固定着强磁体，如坡莫合金制成的小片，与坡莫合金小片相隔适当的间隙装有电磁铁，通过电磁铁的吸力与上述平行片簧导轨的反力平衡，进行微位移动工作台的定位。,几种常用的微动工作台,几种常用的微动工作台,5气浮导软：在近代精密导向技术中，行程与分辨率是一对主要矛盾。弹性导轨是为解决高分辨率(亚微米甚至是毫微米级)而采用的，但行程较小。为解决大行程和中等分辨率(亚微米级)的矛盾，在实际中广泛使用了气浮导轨。滚动导轨虽然也有可能达到亚微米级的精度，但一般而言，滚动导轨不如气浮导轨精度高且保持性和抗干扰性比较差。气浮导轨具有误差均化作用，因而可用比较低的制造梢度来获得

9、较高的导向精度，而目气浮导轨还可使工作台得到无摩擦和无振动的平滑移动，因此在精密机械和仪器获得广泛的应用。,几种常用的微动工作台,图5-15是日本富士通公司的一种精密自动掩模对准上作台，其独特之处是楔形缩小机构与驱动机构同时兼作x，y方向的直线导轨。楔块部分由空气轴承构成，通过滚珠丝杠推动位移输人块，在2mm的移动范围内，得到0.03m的分辨率。,几种常用的微动工作台,6.滑动导轨压电器件驱动 图5-18是安徽机械科学研究所研制的、利用压电陶瓷实现刀具自动补偿的微位移机构及其原理示意图，在压电陶瓷上加电压之后，向左伸长，推动方形楔块和圆柱楔块，克服压板弹簧的弹力将固定镗刀的刀套顶起，实现镗刀的

10、径向补偿。,几种常用的微动工作台,5.2压电、电致伸缩器件,压电、电致伸缩器件是近年来发展起来的新刑微位移器件。它其有结构紧凑、体积小、分辨率高、控制简羊等优点，同时它没有发热问题，故对精密工作台无因热量而引起的误差。用这种器件制成的微动工作台，容易实现精度为0.1 m的超精密定位，是理想的微位移器件，在精密机械中得到了广泛的应用。,5.2压电、电致伸缩器件,5.2.1压电与电致伸缩效应机电藕合效应电介质在电场的作用下，有两种效应压电效应和电致伸缩效应，统称机电耦合效应。电介质在电场的作用下，由于感应极化作用而引起应变，应变与电场方向无关，应变的大小与电场的平方成正比，这个现象称为电致伸缩效应

11、。而压电效应是指电介质在机械应力作用下产生电极化，电极化的大小与应力成正比，电极化的方向随应力的方向而改变。在微位移器件中我们应用的是逆压电效应，即电介质在外界电场作用下，产生,5.2压电、电致伸缩器件,应变，应变的大小与电场大小成正比，应变的方向与电场的方向有关，即电场反向时应变也改变方向；电介质在外加电场作用下应变与电场的关系为S=dE十M（5-4）式中:dE逆压电效应。其中，d为压电系数,m/V；E为电场，V/m；M电致伸缩效应。其中M为电致伸缩系数，/；S应变。,5.2压电、电致伸缩器件,应变，应变的大小与电场大小成正比，应变的方向与电场的方向有关，即电场反向时应变也改变方向；电介质在

12、外加电场作用下应变与电场的关系为S=dE十M（5-4）式中:dE逆压电效应。其中，d为压电系数,m/V；E为电场，V/m；M电致伸缩效应。其中M为电致伸缩系数，/；S应变。,5.2压电、电致伸缩器件,逆压电效应仅在无对称中心晶体中才有，而电致伸缩效应则所有的电介质晶体都有，不过一般来说都是很微弱的。压电单晶如石英、罗息盐等的压电系数比电致伸缩系数大几个数量级，结果在低于1MV/m的电场作用下只有第1项，即逆压电效应。,5.2压电、电致伸缩器件：材料,1.压电晶体 压电晶体常用的材料是锆钛酸铅和钛酸钡。由钦酸铅和铅酸铅组成的多晶固溶体，全名称为错钦酸铅压电陶瓷，代号PZT(P铅；Z锆；T钛)，其

13、特点是:敏度高；机电耦合系数大，故机电换能效率高；机械品质因数高，几百到几千；材料性能稳定；居里温度很高；,5.2压电、电致伸缩器件：材料,2.电致伸缩材料电致伸缩材料最早是PMN锡镁酸铅系。1977年美国L.E.Cross教授研究出具有大电致伸缩效应的弛像铁电体组分0.9PMN-0.1PT，它的居里点在0附近。1981年又开发了三元系固溶体0.45PMN-0.36PT-0.19BZN双弛豫铁电体，它具有良好的温度稳定性及大电致伸缩效应。它的介电常数、横向应变特性曲线如图5-20。PMN是由PbO,MgO,Ti，BaC,ZrO等按比例烧结而成。1981年我国1426所研制La：PZT,5.2压

14、电、电致伸缩器件,1.压电徽位移器件用压电陶瓷作微位移器件目前已得到广泛的应用，如激光稳频、精密工作台的补偿、精密机械加工中的微进给以及微调等。用于精密微位移器件的压电陶瓷，应满足下列要求：1）电灵敏度高，即单位电压变形大.2）行程大，电压变形曲线线性好；3）体积小，稳定性好，不老化，重复性好,5.2压电、电致伸缩器件,1.压电徽位移器件用压电陶瓷作微位移器件目前已得到广泛的应用，如激光稳频、精密工作台的补偿、精密机械加工中的微进给以及微调等。用于精密微位移器件的压电陶瓷，应满足下列要求：1）电灵敏度高，即单位电压变形大.2）行程大，电压变形曲线线性好；3）体积小，稳定性好，不老化，重复性好。

15、压电陶瓷的主要缺点是变形量小，即压电微位移器件在施加较高电压时，行程仍很小，所以在设计微位移器时，应尽量提高压电陶瓷的变形量，,5.2压电、电致伸缩器件,2.电致伸缩器件电致伸缩器件最早是1977年由Cross等人研制的，把PZ或PMN材料制成25.4mm，厚2mm的圆片10片叠加起来，如图5-26（a），外加2.9KV电压可得到13m的位移，其分辨率为1nm。电致伸缩驰豫型铁电体比普通的压电陶瓷更优越：1）电致伸缩应变大；2）位置重复性（再现性）好；不需要极化；3）不老化；4）热膨胀系数很低。,5.3电磁控制的微动工作台,电磁控制的微动工作台首先由日本研制成功。1955年NIHIZAWA等人

16、开始研究至1975年研制出定位精度为0.2um的微动工作台，并成功地应用于电子束曝光机中，成为微位移技术中的一个新方法。,5.3电磁控制的微动工作台_工作原理,电磁驰动的原理如图5-28所示，把微动工作台1用4根链或金属丝4悬挂起来；工作台两端分别用弹簧3固定，另外两端放置两块电磁铁。通过改变电磁铁线圈的电流来控制电磁铁对工作台的吸引力，克服弹簧的作用力，达到控制工作台微位移的目的。设工作台的位移量为d，当电磁铁的吸引力为F时，此时工作台保持平衡。F应等于弹簧的拉力F与工作台由初始位置位移d所产生的吊簧拉力F之和，即,5.3电磁控制的微动工作台_工作原理,5.3电磁控制的微动工作台_工作原理,

17、电磁铁的吸引力为式中:B电磁场磁通密度，Wb/；导磁率,H/m；S磁极截面面积，。弹簧的拉力为,5.3电磁控制的微动工作台_工作原理,式中:k弹簧常数,kg/m；d工作台移动距离，m；g常数(g=9.8N/kg)。设由于工作台移动而形成悬挂丝的偏角为B,工作台向上移动为Ah,那么，h=L(1-cos)式中，L为挂丝长度，当L足够长时，h/L=1-cos。由于很小，故h/L0，故弹簧拉力与挂丝的拉力相比较，可以忽略不计，所以公式(5-9)变成,5.3电磁控制的微动工作台_工作原理,由上式可见工作台移动的距离,d与磁通密度的平方成正比，通过改变流过电磁铁线圈中的电流可以改变磁通密度，以达到控制位移

18、的目的。,5.3电磁控制的微动工作台_工作原理,通过线圈的电流与磁通密度的关系为式中：N绕在电磁铁上的线圈圈数；l磁路长度，m；磁性材料的导磁率,H/m；空气隙的导磁率,H/m；d空气隙长度，m；I电流强度，A。将式(5-12)代人式(5-11),5.3电磁控制的微动工作台_工作原理,得当磁性材料的导磁率比气隙导磁率大得多时，即ld,则：公式(5-13)变为(5-14)由上式可见，工作台移动的距离与电流和线圈圈数平方成正比。,5.3电磁控制的微动工作台_工作原理,5.3.3设计中需考虑的几个问题1.精度、稳定速度和气隙的关系：当不考虑磁饱和特性时，随精度和定位范围的确定，则合适的稳定速度和气隙

19、长度也确定了。电流变化速度I/A和气隙d变化量之间的关系如图5-30。|d|司在1um1Omm之间，精度K为0.1um10um。为提高精度，应采取较高的电流变化精度。,5.3电磁控制的微动工作台_工作原理,5.4柔性铰链,20世纪60年代前后，由于宇航和航空等技术发展的需要，对实现小范围内偏转的支承，不仅提出了高分辨率的要求而且对其尺寸和体积提出了微型化的要求。人们在经过对各类型的弹性支承的实验探索后，才逐步开发出体积小无机械摩擦、无间隙的柔性铰链。随后，柔性铰链立即被广泛地用十陀螺仪、加速度计、精密天平、导弹控制喷嘴形波导管天线等仪器仪表中，并获得了前所未有的高精度和稳定性。,5.4柔性铰链

20、,如日本工业技术院计量研究所，利用柔性铰链原理研制的角度微调装置，在3分的角度范围内，达到了1000万分之一度的稳定分辨率。近年来，柔性铰链又在精密微位移工作台中得到了实用，开创了工作台进人毫微米级的新时代。柔性铰链用于绕轴作复杂运动的有限角位移，它的特点是:无机械摩擦、无间隙、运动灵敏度高。柔性铰链有很多种结构，最普通的形式是绕一个轴弹性弯曲，这种弹性变形是可逆的。,5.4柔性铰链的类型,1.单轴柔性铰链 截面形状有圆形和矩形的两种，如图5-32所示。2.双轴柔性铰链：双轴柔性铰链是由两个互成90度的单轴柔性铰链组成的(图5-33(a)，对于大部分应用，这种设计的缺点是两个轴没有交叉，具有交

21、叉轴的最简单的双轴柔性铰链是把颈部做成圆杆状(图5-33(b)，这种设计简单且加工容易，但它的截面面积比较小，因此纵向强度比图5-33(a)弱得多。需要垂直交叉和沿纵向轴高强度的双轴柔性铰链，可采用图5-33(c)的结构。,5.4柔性铰链的类型,5.5精密微动工作台的设计及其特性分析,实现微位移机构的方案比较多，用途也很广泛，根据不同的要求，采取不同的方案。应以满足使用要求而又经济合理为准则。但作为精度补偿用的微动工作台，因它的精度要求比较高，一般都在亚微米级以上，所以设计时除满足使用要求外，还应具有良好的静态特性和动态特性。,5.5.1设计要求,1）微动工作台的支承或导轨副应无机械摩擦和无间

22、隙，使其具有较高的位移分辨率，以保证高的定位精度和重复精度，同时还应满足工作行程；2）微动工作台应具有较高的几何精度，即颠摆、滚摆和摇摆误差要小，还应具有较高的精度稳定性；3）微动工作台应具有较高的固有频率，以确保微动台有良好的动态特性和抗干扰能力，即最好采用直接驱动的方式，无传动环节；4）微动系统要便于控制，而且响应速度快。,5.5.2设计中需考虑的几个问题,1.导轨形式的选择对分辨率的影响在微位移范围内，为使工作台具有较高的位移分辨率，希望驱动力或输人位移的微小变化，就能使工作台有所响应，因此导轨副间的摩擦力及其变化特性，对工作台的微位移运动特性有着重要的影响。,5.5.2设计中需考虑的几

23、个问题,滑动导轨和滚动导轨的最小位移分辨能力主要受静、动摩擦力之差F和传动系统刚度K的影响，减小动、静摩擦力之差和提高传动环节的刚度是提高工作台位移分辨率的主要措施。但是由于滚动导轨的结构比较复杂、制造困难、抗震性差、对脏物非常敏感，因此不适于作微动工作台。由于弹性导轨仅利用受力后的弹性变形来实现微位移，故仅存在弹性材料内部分子之间的内摩擦，而且没有间隙，因此可以达到极高的分辨力。,2.微动工作台的驰动,弹性微动工作台的位移精度完全取决于输人位移的精度，因此如何产生微小位移是微位移技术中的重要问题。由第1节中可知，形成微位移的方法有两种:过机械方法缩小输入位移；用各种物理原理直接产生微小位移。

24、,2.微动工作台的驰动,如前所述，机械式缩小方法，如弹性缩小机构、杠杆、楔块、丝杠等，都是通过缩小输人位移来提高位置分辨率，已在实际中得到了应用，并达到了亚微米级的定位精度。但它们共同的缺点是:结构复杂、体积大，故有各自的局限性。,2.微动工作台的驰动,直接产生微小位移的机构，按物理原理，主要有:电热式、电磁式、压电和电致伸缩式及磁致伸缩式等。1）电热式和磁致伸缩式两种微动装置伴随有发热现象，故此难以做到高精度。2）利用电磁吸力与平行弹Ni导轨的反力平衡，而实现亚微米级的微动装置也获得广泛的应用，它的特点是行程范围大、分辨率较高,精度较高;其缺点是，将工作台保持一定位置时，电磁铁线圈中始终要通

25、过一定的电流，结果由于发热而彰响精度，此外这种结构的位移阶跃响应也同样有振荡的瞬态响应，存在着灵敏度高时难于稳定的问题。,2.掀动工作台的驰动,3）利用机电藕合效应，可以实现很高的位移分辨力(可达5nm/V2.2mm/V)，而机电藕合效应进行的速度快来不及与外界交换热量，可以近似地认为是绝热过程，因此不存在发热问题。利用机电祸合效应制成的微位移器的最大优点是，只需要控制外加电压，就容易实现0.01微米级的超精密定位，它的缺点是行程小，压电类微位移器拧制电压高。,3.微动工作台的测量与控制,实现高精度的精密定位，一定要选择与之相适应的高分辨率的位置测量装置。在选择测量装置时除具有高分辨率的性能外

26、，还应考虑测量范围、重复精度、可靠度及稳定性等。尽管目前测长方法很多，但精度到亚微米级的测量方法是实现动态测量主要有两种方法：激光测长和光栅测长。激光测长是比较理想的方法，因为激光测长无需使用光栅测长时的高倍频就能获得较小的当量。光栅因受光衍射现象的影响一般情况下，测量精度达到0.1微米是比较困难的。,5.6其他类型的微位移机构,5.6.1电热式微位移机构电热式微位移机构包括电热伸缩捧和电热伸缩筒两种结构形式，都是利用物体的热膨胀来实现徽位移的，其热变形的原理如图5-46所示口传动杆1的一端固定在支架上，另一端固定在沿导轨作徽位移的零部件3上，当线圈通电被加热时，使传动杆受热伸长。伸长量与温度材料的线膨胀系数有关。,5.6其他类型的微位移机构,5.6.2机械式微位移机构机械式微位移机构是一种古老式机构，在精密机械与仪器中应用广泛，结构形式比较多，主要有螺旋机构、杠杆机构、楔块凸轮机构、弹性机构以及它们之间的组合机构由于机械式微位移机构中存在机械间隙、摩擦磨损以及爬行等，所以运动灵敏度、精度很难达到高精度，故只适于中等精度。一般有1.蛆旋式微位移机构、2.机械组合式微位移机构。,5.6其他类型的微位移机构,作业：5-2滑动导轨和滚动导轨在微位移范围内运动特性是否相似，为什么?影响滑动导轨和滚动导轨微动能力的主要因素是什么，能否实现亚微米或更高的分率?,