NiBPTFE镀层工艺和性能研究.doc
《NiBPTFE镀层工艺和性能研究.doc》由会员分享,可在线阅读,更多相关《NiBPTFE镀层工艺和性能研究.doc(46页珍藏版)》请在三一办公上搜索。
1、1 绪论1.1引言轮胎模具是轮胎硫化过程中所使用的重要工艺装备,它的优劣直接影响着轮胎外在质量,甚至使用寿命及安全性能。目前比较常用的汽车轮胎模具为载重胎和乘用胎子午线轮胎活络模具。由于轮胎模具使用及存放不合理, 铸钢材料的轮胎模具易与周围介质发生化学及电化学作用,而破坏其表面, 使轮胎模具表面腐蚀。其结果易造成轮胎外观麻面,不平等缺陷,使轮胎质量下降。目前乘用胎模具的花纹圈部分采用低压精密铸造技术生产,其材料为铝镁合金,这种料表面硬度相对较低,抗腐蚀性、耐磨性差,因此增加乘用胎模具花纹圈表面强度对提高模具整体质量意义重大。本课题研究的是化学镀Ni-B-PTFE合金镀层的工艺与性能,通过在乘用
2、胎模具表面进行化学镀处理,从而有效提高工件表面质量和表面硬度、耐磨性、耐蚀性,提高模具使用寿命。1.2化学镀1.2.1化学镀的概述工业现代化的发展,对各种设备零部件表面性能的要求越来越高,特别是在高速度、高温、高压、重载、腐蚀介质等条件下工作的零件,其材料的破坏通常是从表面开始的。表面的局部损坏,又往往会造成整个零件的失效,最终导致设备的停产。因而,提高材料表面性能,能有效延长其使用寿命、节约资源、减少污染、提高生产力。表面处理技术能够以多种方法制备出优于本体材料性能的表面功能镀层,以一般为几微米到几毫米的厚度,使零件具有比本体材料更高的耐磨、耐蚀、耐高温等性能。化学镀(electroless
3、 plating)是通过溶液中适当的还原剂使金属离子在金属表面的自催化作用下还原进行的金属沉积过程,也叫无电解电镀、自催化镀。化学镀过程实质是化学氧化还原反应,有电子转移、无外电源的化学沉积过程。化学镀技术由于工艺简单、成本低廉、镀层均匀、与基体结合力好等优点,在表面处理技术中占有很重要的位置。1.2.2化学镀的特点化学镀具有以下特点:(1)化学镀镀层分散力好,无明显的边缘效应,镀层厚度均匀,因而适合形状复杂工件表面施镀。另外化学镀层易于控制,表面光洁平整,一般不需镀后加工,使得化学镀适宜超差加工件的修复及选择性施镀。(2)在通过敏化、活化等前处理后,化学镀可以在塑料、玻璃、陶瓷等非金属表面上
4、进行,化学镀工艺适用的范围广。(3)化学镀工艺设备简单,不需要电源、输电系统及辅助电极,操作时只需要把工件正确悬挂在镀液中即可。(4)化学镀层结合力非常好,有着光亮或半光亮的外观,晶体细,致密,孔隙率低,某些化学镀层还具有特殊的物理化学性能。因而,化学镀在表面处理方面具有非常广泛的应用。1.2.3化学镀的类型早期人们依照镀液中还原剂的不同将化学镀镍分为三类,随着化学镀镍术的不断发展,现在通常根据镀层的不同组成,将化学镀镍分为五类,如下所示。(1)化学镀Ni-P合金。镀液以镍盐为主盐,H2PO2-为还原剂,是目前研究的最为充分,应用最为广泛的化学镀。(2)化学镀Ni-B合金。镀液以镍盐为主盐,硼
5、氢化物、胺基硼烷为还原剂,镀层的硬度一般比1类镀层的硬度高,但还原剂在水溶液中易于分解,稳定性差,须在碱性环境下施镀,还原剂价格昂贵,这些因素限制了此类化学镀的发展。(3)化学镀纯镍。镀液以镍盐为主盐,肼及其衍生物为还原剂,碱性条件下,还原剂的还原能力增强,可使沉积速度达到127m/h,其最大的优点是镀层中镍的纯度高,镀液中无氧化产物的积累,但镀液稳定性差,毒性大,操作难以控制。(4)化学镀多元合金。该镀种在(1)、(2)、(3)的基础上,镀液中加入其它金属离子通过共沉积获得多元合金。多元合金一般具有某些特殊的性能,因而应用前途广阔,目前有些已经取得飞速的发展。(5)化学复合镀镍。在化学镀镍的
6、基础上,加入具有特殊性能的惰性微粒,在搅拌的条件下共沉积。目前加入的微粒主要是以下两类:加入超硬颗粒,可提高镀层耐磨性能;加入减磨颗粒能够改善减磨性能。1.2.4化学镀镀液的组成化学镀的镀液一般有主盐,还原剂,络合剂,缓冲剂,稳定剂,加速剂及其他添加剂组成。(1)主盐化学镀镍溶液中的主盐就是镍盐,一般采用氯化镍或硫酸镍,有时也采用氨基磺酸镍、醋酸镍等无机盐。早期酸性镀镍液中多采用氯化镍,但氯化镍会增加镀层的应力,现大多采用硫酸镍。(2)还原剂化学镀镍的反应过程是一个自催化的氧化还原过程,镀液中可应用的还原剂有次亚磷酸钠、硼氢化钠、烷基胺硼烷及肼等。在这些还原剂中以次亚磷酸钠与硼氢化钠用的最多。
7、(3)络合剂化学镀镍溶液中的络合剂除了能控制可供反应的游离镍离子的浓度外,还能抑制镍盐的沉淀,提高镀液的稳定性,延长镀液的使用寿命。有的络合剂还能起到缓冲剂和促进剂的作用,提高镀液的沉积速度。化学镀镍的络合剂一般含有羟基、羧基、氨基等。(4)缓冲剂缓冲剂能有效的稳定镀液的pH值,使镀液的pH值维持在正常范围内。一般能够用作pH值缓冲剂的为强碱弱酸盐,如醋酸钠、硼砂、焦磷酸钾等。(5)稳定剂化学镀镍液是一个热力学不稳定体系,常常在镀件表面以外的地方发生还原反应,当镀液中产生一些有催化效应的活性微粒-催化核心时,镀液容易产生激烈的自催化反应,即自分解反应而产生大量镍磷黑色粉末,导致镀液寿命终止,造
8、成经济损失。所有稳定剂都具有一定的催化毒性作用,并且会因过量使用而阻止沉积反应,同时也会影响镀层的韧性和颜色,导致镀层变脆而降低其防腐蚀性能。(6)加速剂(7)其他添加剂1.3 化学镀Ni-B合金镀层的研究现状化学镀Ni-B合金是利用还原剂硼氢化物或胺基硼烷,使镀液中镍盐里的镍离子还原成金属镍,并沉积到催化表面上,同时,还原剂分解所产生的硼原子会溶入镍内,形成了含硼的过饱和固溶体。由于铁、钴、铝等金属及其合金都有催化作用。因此,对它们都可直接沉积Ni-B合金。沉积一旦开始,由于镍自催化作用,这种还原反应就可以自发地在镀件各处均匀地、连续不断地进行下去,获得具有一定厚度的Ni-B合金镀层。化学镀
9、镍中硼含量可以在0.1%10%的范围内变动1。1.4 化学镀Ni-B合金镀层的机理表1-1以硼氢化物为还原剂的化学镀镍溶液Table 1-1 borohydride as a reducing agent,electroless nickel plating solution镀液成分(g/L)及工艺条件镀液1镀液2氯化镍3030氢氧化钠4640乙二胺5260硼氢化钠0.50.6/硼氢化钾/0.750.8稳定剂适量适量pH值1414温度()8592化学镀Ni-B合金因其还原剂与操作条件的不同,其镀层的硼含量也不同。以硼氢化物为还原剂得到的镀层含38B,以二甲胺基硼烷为还原剂得到的镀层含0.15B
10、。常用的硼氢化物为硼氢化钠或硼氢化钾。表1-1是以硼氢化物为还原剂的化学镀Ni-B合金的镀液组成。因为镍自身具有良好的催化活性,故化学镀镍是一个自催化过程,可将化学镀镍反应表示如下: (1.1) (1.2) 在化学镀镍反应的同时,还会发生硼氢化物水解的副反应: (1.3) 这个副反应消耗了贵重的还原剂,因此,通常采用碱性镀液来抑制该反应的发生。硼氢化物的分子量不大,但能用于还原的当量却很高。次亚磷酸盐的分子量比硼氢化物大得多,用它作为化学镀镍的还原剂时,只能给出2个还原当量。一般情况下,硼氢化物的还原当量比次亚磷酸盐高,个硼氢化物分子相当于4个次亚磷酸盐分子,以硼氢化物为还原剂进行化学镀镍比较
11、经济2。1.5化学镀中各因素对化学镀Ni-B合金镀层的影响1.5.1主盐对化学镀Ni-B的影响以硼氢化钠为还原剂化学镀镍的电化学研究文献3提出在传统的化学镀镍磷工艺中,为减少Cl-和SO2等离子对镁合金基体的蚀,大多采用碱式碳酸镍作为主盐碱式碳酸镍价格昂贵,且水溶性不好,一般需要用氢氟酸溶解。针对上述碱式碳酸镍的两大缺陷,该研究中化学镀镍硼工艺采用乙酸镍取代碱式碳酸镍,并不再使用重金属离子,获得的镀层均匀致密,但尚存在沉积速率较慢以及镀液易分解等问题。该文献基于混合电位理论,用电化学方法对镀液性能进行研究,从而对化学镀镍硼的工艺过程进行现象解释和理论指导。主盐乙酸镍浓度的影响:图1-1乙酸镍浓
12、度对阴极还原过程的影响Fig. 1-1 Nickel acetate concentration on the cathodic process工艺实验结果表明,在一定范围内(小于42.0gL-1)增加乙酸镍的浓度,沉积速率上升,但浓度过高会造成镍的沉积颗粒变大,镀层变得粗糙,甚至导致镀液自发分解。在维持络合剂乙二胺含量不变的情况下,增加乙酸镍含量,镀液中自由镍离子越多,扩散通量越大,到达电极表面的镍离子数目增多,缩小了浓差极化。1.5.2还原剂对化学镀Ni-B的影响图1-4-2为不同硼氢化钠浓度的阳极极化曲线。BH4-氧化反应的阳极峰电流密度随硼氢化钠含量的增加显著增大,硼氢化钠浓度大于1.
13、2gL-1时,线C和D均出现波动,说明BH4-的水解反应严重。水解反应造成大量氢气泡堆积在电极表面,制了镍的氧化反应。 图1-2硼氢化钠浓度对阳极氧化过程的影响 Fig.1-2 sodium borohydride concentration on the anodic oxidationprocess硼氢化物离子的直接氧化反应为: (1.4)是一个8电子的转移过程4,5。文献6采用循环伏安法,发现在氢的氧化反应的电位区间范围内,在对应于BH4-离子水解反应的几个重叠的电流峰,并提出水解等副反应造成BH4-离子在NaOH溶液中的氧化变为46电子的转移过程,实际的反应方程式为: 的数值取决于催化
14、剂种类及副反应情况等因素。水解反应还原剂的利用率下降,因此对水解反应的抑制显得尤为重要,也是提高镀液稳定的关键因素。1.5.3 络合剂对化学镀Ni-B的影响络合剂乙二胺的影响:络合剂的浓度大小不仅会对系统的热力学性质有重要影响,且也会影响动力学性质。Ambat等7在Ni-P化学镀过程中发现,络合剂柠檬酸/Ni2+比例的增加会导致化学镀沉积速率减慢,例过高或过低都会造成无法施镀。(a)阴极还原 (b)阳极氧化 图1-3对阴极还原(a)和阳极氧化(b)过程的影响Fig.1-3 (a) the process of anodic oxidation and (b) cathodic reductio
15、n图(a)中,在电极溶液界面双电层充电后,离子还原反应的起波电位和峰电位都随络合剂乙二胺含量的增加而负移,峰电流也有所减小,说明乙二胺对镍离子的还原有一定的抑制作用。强碱性的镀液环境中,二胺与镍离子发生络合反应,镍离子不至生成氢氧化镍造成镀液的快速分解;时络合反应也造成电极表面附近的镍离子含量下降,络离子络合级数的提高也会增加其放电的活化能,原反应速率减慢。可能由于乙二胺的竞争吸附作用和对电解液pH值的影响,致析氢反应减缓,流密度下降,文献8研究了乙二胺在化学沉积Ni-B合金中的机理,现乙二胺可以改善镀液的稳定性,含量的增加会使还原剂的氧化电流和合金的还原电流减小;外光谱显示乙二胺在镍基体表面
16、发生化学吸附,而抑制了还原剂的氧化,低了Ni-B的化学沉积速率。(b)中,着电解液中乙二胺含量的增加,-0.8V左右的BH4-的氧化峰电流密度减小,时镍的溶出峰电流密度也减小。者反应受到抑制,能都是由于乙二胺上的氨基原子通过其孤对电子与电极表面镍原子的3d空轨道形成配位键,发生化学吸附,从而减小放电表面积造成的。1.5.4 缓冲剂对化学镀Ni-B的影响缓冲剂能有效的稳定镀液的PH值,影响着化学镀的镀速。一般能够用作pH缓冲剂的为强碱弱酸盐,如醋酸钠、硼砂、焦磷酸钾等。在镀液中加入缓冲剂能有效地提高镀速,但是随着缓冲剂的不但加入会是镀速降低,所以缓冲剂应该控制在一定范围内,不能破坏溶液的平衡。1
17、.5.5 稳定剂对化学镀Ni-B的影响稳定剂KI对化学镀Ni-Fe-P-B合金性能的影响9利用化学镀方法沉积铁合金系镀层,具有诱人的软磁性能,应用于计算机以及磁头材料等领域。近期研究较多的镀层主要有:Fe-P、Fe-Ni-P、Fe-Mo-B、Fe-W-B、Fe-Sn-B、Fe-Mo-W-B和Fe-Ni-P-等体系10,11,并取得了可喜的成果。但也存在不少问题,化学镀液本身处于热力学不稳定状态,常要加入稳定剂,阻止H2P02-分解。目前常用稳定剂12:(1)重金属离子,如Pb2+等;(2)无机含氧酸根离子,如IO3-等;(3)有机酸,如柠檬酸等;(4)含硫有机化合物,如硫脲等。稳定剂KI的报道
18、较多,由于它允许添加范围宽,效果也较好,但对Ni-Fe-P-B镀层合金性能影响报道较少。稳定剂添加量直接影响镀液镀速、镀层腐蚀电流密度、耐蚀性、孔隙率和硬度等性能。通过贵稳定剂KI对化学镀Ni-Fe-P-B合金性能研究得知:稳定剂对化学镀Ni-Fe-P-B镀液有正反两方面的作用。一方面是稳定镀液、提高镀速,改善镀层耐蚀性;另一方面,过量的稳定剂会使镀液中毒,使沉积反应不能进行。综合各种性能,用KI作稳定剂的最佳浓度为8mgL-1。KI能提高镀液稳定性,使Ni-Fe-P-B镀层的耐腐蚀性能较好,是由于13吸附的阴离子I-与H2PO2-发生作用,导致H2P02-中P-H键强度增加;吸附的I-改变了
19、双电层结构,增加了表面吸附程度而影响了氧化还原反应动力学过程。此外,I-与镀液中的中性微粒形成稳定吸附,降低微粒的表面能,抑制以微粒为核心的还原反应发生,阻止H2PO2-分解14。1.6 化学镀Ni-B合金镀层的功能特性与应用的研究现状化学镀Ni-B合金是一种非常重要的功能性镀层,它在硬度、耐磨性、电接触、可焊性、耐腐蚀性、脱模性、键合性、耐化学品性和耐高温性等方面都十分理想。因此,在硅片、陶瓷、金属、玻璃、烧结氧化铝和塑料等电子工业领域以及要求耐高温、耐磨损、耐腐蚀、耐冲击的机械工业领域都有十分广阔的应用前景。尽管西方国家早在1954年已着手对化学镀Ni-B合金进行研究,但较Ni-P合金进展
20、相对缓慢,工业应用也不是十分广泛。从80年代中期开始对该合金镀层的结构域形成规律、电磁学性能、焊接性能、力学性能、耐磨性、腐蚀性及应用情况等进行了研究,取得了一些初步成果。1.6.1 化学镀Ni-B合金功能的研究现状1接触电阻化学镀Ni-B合金的接触电阻为0.126,电镀银层的接触电阻为0.116,两者很接近。在电位器旋转片上用Ni-B代替镀银层,可完全满足电位器的生产要求。即在额定负载下经一万次摩擦后总电阻值变化变化小于-0.35%(标准为小于10%);在额定功率负载下,在40连续负载96h,恢复1h后总电阻值变化-3.03%(标准为-15%);在40C相对湿度95%下放置96h后,表面清晰
21、,无锈迹,绝缘电阻8.4105Mn(标准50M)接触电阻变化0.38(标准为10)。这些结果说明,化学镀Ni-B合金的耐磨、抗蚀、电负荷、电接触、绝缘电阻等性能均能很好满足电位器的各项技术要求,它还具有噪声小、手感好、耐磨和接触电阻稳定的优点,其经济效益也比镀银层高得多,因此是一种优良的代银镀层和电接触材料15。2可焊性为了进行对比,将试样浸蚀、去油、清洗处理后,再分别镀上Ni-P、Ni-B合金镀层和镀金层,并测定可焊性。测定结果表明,Ni-B合金层的外观、附着面积以及润湿时间,都与镀金层的几乎完全一样,即可焊性相同。而Ni-P合金层的稍差一些,说明这种合金镀层不如Ni-B镀层好16。3键合性
22、能化学镀镍硼合金的键合性非常优异,键合是指用热压或超声压焊的方法使半导体电极和封装引线同金、银、铝的细丝连接起来的方法。实验结果表明,线连接强度因化学镀Ni-B合金层的厚度不同而不同,一般情况下,随镀层厚度增加,连接强度是增加的。在这类铝丝的超声压焊中,要求最低的连接强度不得低于2.5g,因此,铝丝与化学镀Ni-B合金层的超声压焊强度是符合要求的17。环境对超声压焊线连接强度是有影响的。将接合后的线暴露在不同环境下所得的实验结果表明,虽然延长烘干时间会使连接强度下降,但仍超过最低要求的2.5g。4扩散势垒效应铜和电镀纯镍能非常容易地扩散进金的镀层,它们在金的表面形成的氧化物会导致其焊接性能下降
23、,接触电阻增加,这对电子元器件来说是十分不利的。化学镀Ni-B合金镀层的扩散势垒效果良好,它不但能有效地阻碍铜及纯镍的扩散,还可以保留其良好的焊接性,同时,暴露在多种环境下仍具有优良的电学性能,由于化学镀Ni-B合金的晶粒细小,镀层是层状沉积,孔隙度小,使铜沿化学镀Ni-B合金层的晶界扩散难以进行,所以化学镀Ni-B合金有较好的扩散势垒效应。据报导,在Ni-B镀层上镀0.127m的金属接点与在纯镍上镀1.7m。5电阻率镀态Ni-B镀层的电阻率为620/cmcm-2比Ni-P镀层的电阻率(60100/cmcm-2)低得多,适于作高导电镀层。另外,Ni-B合金镀层经400热处理后,电阻率还可进一步
- 配套讲稿:
如PPT文件的首页显示word图标,表示该PPT已包含配套word讲稿。双击word图标可打开word文档。
- 特殊限制:
部分文档作品中含有的国旗、国徽等图片,仅作为作品整体效果示例展示,禁止商用。设计者仅对作品中独创性部分享有著作权。
- 关 键 词:
- NiBPTFE 镀层 工艺 性能 研究
链接地址:https://www.31ppt.com/p-2941870.html