培训系列之3:干式真空泵原理与技术基础.ppt
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1、干式真空泵原理与技术基础,主讲人:巴德纯,真空技术,一.真空技术概况(巴德纯)二.真空工程理论基础(孙丽娜)三.干式真空泵原理与技术基础(巴德纯)四.真空系统组成与设计基础(岳向吉)五.真空获得设备原理与技术基础(张以忱)六.真空测量技术基础(刘玉岱)七.真空镀膜技术基础(张以忱)八.质谱原理与真空检漏(刘玉岱)九.真空冶金技术基础(王晓冬)十.真空与低温技术及设备(徐成海),东北大学第九期,培训系列之,1.真空获得设备的概况目前真空系统中存在的问题现代工业对真空获得的要求国外干式真空泵的发展状况干式真空泵的性能与特点2.干式真空泵的现状往复式干泵爪型干泵涡旋干泵多级罗茨式干泵螺杆式干泵涡轮式
2、干泵分子泵高真空直排大气干泵3.干式泵今后的发展真空行业的产品更新换代势在必行老产品的性能经过不断改善后仍能占据一定的市场份额,1 真空获得设备概况,干式真空泵发展与挑战,1.1 问题的提出,多年来工业上应用的高真空系统,常以油扩散泵为主泵、油封机械泵为前级泵组成通用型高真空系统,即所谓湿式真空系统。对这种系统的真空泵,明确指出它不适于抽除含O2过高的、有爆炸性的、有腐蚀性的、对泵油起化学反应的以及会有颗粒尘埃的气体。为什么对被抽气体有这些限制呢?就是因为泵内有油造成的。,1.2 现代工业对真空获得的要求,半导体技术的迅速发展,过去工艺都以“微米”做单位,微米(m)是纳米(nm)的1000倍。
3、我们常以工艺线宽来代表更先进的半导体技术,如0.25微米、0.18微米、0.13微米,0.13微米以下的更先进工艺则进入了纳米领域。随着IC(集成电路)制造工艺的飞速发展,90nm乃至65nm的技术节点,已经在半导体工厂实现。45nm和32nm的技术节点已成为近两年人们谈论的焦点。这对制备工艺的真空条件清洁度要求更高。,随着晶圆尺寸的逐渐增大,建一座半导体工厂的投资巨大,动辄几亿美金到几十亿美金。2007年3月26日,Intel总裁 Paul S.Otellini宣布投资25亿美元在大连建12英寸晶圆生产线。2006年全球晶圆代工业又创新高,营收达到了214亿美元。半导体设备销售额达到404.
4、74亿美元。,半导体工业发展刺激干泵的发展,半导体工业需要清洁的环境,半导体工厂布局,生产车间中的真空获得设备,生产设备需要清洁真空,1.3国外干式真空泵的发展状况,国外干泵市场的不断增长,其主要驱动来自于半导体行业、化学工业、薄膜产业的迅速发展。1984年日本半导体工业发展迅速,急需大量的干泵,开始研制出了一种适于半导体工业应用的干式真空泵。它是将罗茨转子多级串联组成的多级干式泵。德国、英国、法国和美国等真空企业也相继出现了各具特点的这种干式真空泵,有的还用电脑控制,满足了半导体和化学工业发展的需要。,在日本,半导体行业已全部用干式真空泵代替油封式机械泵,欧美半导体行业45%以上用干式真空泵
5、代替了油封式机械泵,大大提高了产品的性能和质量。为了满足不同应用领域和不同工况的要求,国外有多级罗茨真空泵、多级爪式真空泵、螺杆式真空泵、涡旋式真空泵、往复式活塞真空泵以及涡轮式无油真空泵等。极限压力从1010-2Pa,抽速从20500 m3/h。,据统计,目前国产干泵的应用还不足1%,国内半导体工业用的干泵全部从国外进口,其价格十分昂贵,所以,我国应大力研究开发干泵,使干泵成为我国真空工业新的经济增长点。,1.4干式真空泵的性能与特点,2.干式真空泵的现状,各种干式真空泵介绍与应用,干式泵在各类真空泵的市场份额中占23,年增长率13.5。干式泵的主要应用领域有半导体、化工、薄膜、仪器、医药、
6、食品等。干式泵在几个主要应用领域中所占的比例还不大,约占15左右,例如:半导体:13.7(日本100用干泵,欧美45用干泵)化工:15(代替其它泵)镀膜:15(代替其它泵)仪器:12(代替其它泵),2.1 往复式干泵,美国Varian公司生产有DVP系列3级无油真空泵。VRC的双级干式真空泵,极限压力2.679.33 101Pa(双缸并联抽速280 L/min;极限压力9.33101;双缸串联抽速140 L/min极限压力2.67Pa),抽速曲线举例,功率曲线举例,可用于抽除:He,H2,Ar和N2所有气体,它可作涡轮分子泵、低温泵的粗抽泵和前级泵用。这种泵类似于汽车发动机的机构原理。最高压缩
7、比可达到105。用空气冷却。活塞及气缸壁上涂以减磨涂料,降低功率消耗。,2.2 爪型干泵,德国莱宝公司生产一种四级全是爪型转子的多级干式泵。这种泵的 抽速100 m3/h(28 L/s);极限压强810-1 Pa 噪音68 dB(A);马达3 kw;转速3000 rpm;泵重180 Kg。这种泵设有控制单元。为了提高抽速和极限真空,泵入口可串联一级罗茨泵。,英国爱德华公司生产一种利用罗茨转子与爪型转子组合的一种干式泵。它利用了在低压下罗茨泵抽气比较有效,在较高压强下爪式泵抽气比较有效的特点,将这两种泵各自的优势匹配起来组成的干式泵,其结果性能比较优良。,罗茨+爪式型真空泵与纯爪式真空泵抽气速率
8、的比较,罗茨+爪式型真空泵与罗茨真空泵压缩比的比较,英国和德国产的这两种泵性能有些不同。英国泵在20 Pa时有最大抽速,而德国泵在300 Pa时才有最大抽速。这种泵价格虽贵,但附件齐全。我国北京、上海一些工厂也生产过四级爪型泵。也有单级和双级的产品。,这种爪型泵泵温较高适于半导体工艺。德国的四级泵第24级都有单独掺气口各设气体流量计,分别按需控制各级的流量,节约惰性气体。,2.3 涡旋干泵,它可以代替油封机械泵实现无油清洁真空。一般多用在分析仪器、PVD系统、检漏仪系统、涡轮分子泵和离子泵的预抽泵或前级泵。,这种泵采用双腔式的,动作非常平稳,结构简单,振动、噪音很低。吸气、压缩和排气能连续均匀
9、地进行,驱动力矩变化小,维修也方便,泵体、转子多为铝合金制造,其表面涂以耐蚀性材料。,但这种泵作成大型泵较少,一般抽速在410 L/s左右。,涡旋泵抽气过程,日本生产的泵用双腔并联的单头的涡旋体抽气,而美国Varian生产的泵为双腔串联式三头涡旋体,一个腔用于抽气,另一个腔用于压缩。,这种泵可从大气抽到1.33Pa,能自动进行气镇和轴承的气体净化。,美国Varian生产这种泵是由涡旋压缩机引入真空泵的,目前出现不少专利产品。日本岩田公司生产有ISP,VSL,DVSL系列产品,抽速48 L/s,转速1460 rpm,噪音5660 dB(A)。,Varian 无油涡旋真空泵 SC 系列抽气特性,如
10、能很好解决转子的涡旋型线的加工精度和端面的密封等关键技术问题,这种小型干式泵还是有应用前景的。,我国已有这方面的专利。国内已将这种干泵试制成功,但尚未有产品见于市场。,涡旋泵应用举例,扫描电子显微镜,2.4多级罗茨式干泵,这种泵中、大型居多,化学工业,半导体工业应用较多,它可以在恶劣的条件下进行抽空作业。,由于罗茨泵转子的压缩比较低,所以这种干式泵必须要多级串联(一般56级),才能将0.11Pa的气体压缩到大气压排除泵外。在高压段压缩气体时,产生的热量比较多,故多采用气体冷却方式散热,故称这种泵为气冷式多级罗茨泵。,为了阻止返流的冷却气体返回到泵的入口,故多用三叶的或大头型双叶的罗茨泵转子。这
11、种气冷泵的排气有经泵体水套冷却的,也有经过外设管道经冷却器冷却的。,这种泵可长时间运行,振动小,噪音7893dB(A),稍高于滑阀泵的指标。但运动件耐磨损,寿命长,可抽除有腐蚀性和有毒性的气体。在半导体工艺过程中,要排除腐蚀性气体,铝合金的泵体可进行阳极氧化处理以增强泵的耐蚀性。,日本生产一种PDR-090B型的多级罗茨式干泵,不设气体冷却器,将泵体由铸铁改成导热率高的铝合金制造,压缩热由泵体整体表面散出。这种泵的被抽气体不会被凝华,而呈气态通过泵腔排出,避免了出现凝华物堵塞间隙的问题,而泵可以正常工作。,美国Stokes公司生产的化工用罗茨泵是一种较大型的干泵,抽速由36 L/s到360 L
12、/s,在入口处还可串以罗茨增压泵,抽气能力可达24000 L/s。这种化工型的干泵在10105 Pa范围内工作。可用于真空蒸馏、食品工业、制药工业和化工工业等。还可用于抽除30余种化工产品。,法国Alcaltel公司生产的多级罗茨泵可直排大气。-氮气吹洗工艺;-平均维护期为2-4年。-高抽速,极低真空度,符合包括300mm晶圆制备技术等新一代生产的要求。-配手持遥控的先进自动操控功能(包括温度,N2流量等)。,-泵内温度顺增的设计可消除冷凝点。-完整内层,降低了污染物的积聚。-阿尔卡特提供特别的内层大通道可令泵启动后有排置尘粒的功效。-费用低廉,精简的后备管理而达高真空之效,适用于各类半导体生
13、产工序如清洁工艺过程、蚀刻、CVD及FPD等。,2.5 螺杆式干泵,这种泵有螺杆式、螺旋式和复合式三种结构型式。,a 吸气过程即将开始 b 吸气过程中 c 吸气过程结束,螺杆泵的吸气过程 所参照的一对齿用箭头标出。在图中,阳转子按逆时针方向旋转,图中的转子端面是吸气端面。,a 压缩开始 b 压缩过程中 c 压缩结束排气开始,螺杆泵的压缩过程 图中的转子端面是排气端面。在这里,阳转子沿顺时针方向旋转,阴转子沿逆时针方向旋转。,a 排气过程中 b 排气过程结束,螺杆泵的排气过程 齿间容积与排气孔口连通后,即开始排气过程。随着齿间容积的不断缩小,具有排气压力的气体逐渐通过排气孔口被排出,美国Stok
14、es公司生产SDS系列螺杆式干泵。它可作为低中真空泵应用,粗抽时抽气量较大。它可在粘性流状态下工作。,其极限压力可达到0.11 Pa。为了增大压缩比,减少泄漏量,要求转子加工精度较高。,螺杆泵工作温度较高,可在恶劣的抽气条件下工作。它可用于真空蒸馏、蒸发、干燥、冷冻干燥、溶剂还原、消毒、半导体工业、塑料工业真空涂层、真空铸造、真空冶金、真空热处理、化学试剂的生产用,是一种目前用途较多的泵体。,2.6 涡轮式干泵,它是一种动量传输式干式泵。日本三菱公司生产有DT系列产品,日立公司生产有复合式的干泵,均可从大气压开始工作,极限压力10-410-2 Pa。转速36000 rpm,抽速20 L/s,重
15、140 kg,6 kw。最近几年在JVST上报导台湾研制一种涡轮式增压泵,出口压力可达到4000 Pa,用磁悬浮轴承,可以获得清洁的真空。,2.7 分子泵,分子泵自1912年诞生以来,至今已快近一个世纪了。它在初期进展较缓慢,在1970年以前,分子泵的应用还仅限于核物理、电真空、表面科学等领域。但近20年来由于半导体产业的兴起和薄膜工业的发展,分子泵才被人们所重视,并得到了兴旺和发达,现代的分子泵已发展到实用和普及的阶段。,2.7.1 分子泵的特点,涡轮分子泵是靠高速转动的转子携带气体分子获得超高真空的一种真空泵 其极限压力可达109 Pa抽速系列从5040000L/s振动小转速可高达8000
16、0转/min结构精密,分子泵、涡轮分子泵、磁悬浮轴承和气体静压轴承式涡轮分子泵、复合式分子泵、低温型涡轮分子泵、新型牵引分子泵、陶瓷涡轮分子泵,抽反应生成物的涡轮分子泵和极高真空涡轮分子泵,2.7.2 分子泵分类,涡轮分子泵牵引分子泵 盘型分子泵 螺旋矩形牵引分子泵复合分子泵,2.7.3 涡轮分子泵,涡轮分子泵的基本结构有两种,一种是卧式的,另一种是立式的。现在出现一种宽域型的涡轮分子泵,有标准型和化学型两种。标准型泵可用于10-7200Pa的压力范围,流量之大可与低真空范围的机械增压泵相媲美。采用气体清洗措施来保护轴承,还设有防灰尘和玻璃碎片侵入的措施。化学型泵可适于对腐蚀性气体的连续稳定地
17、排气,因转子上涂以耐腐蚀性涂层,轴承采用气体清洗措施。排出腐蚀性气体时,应采取气体清洗措施。磁力轴承用N2来清洗,以防腐蚀性气体侵入。,可获得清洁的高真空和超高真空环境。应用领域:它广泛应用于表面分析、加速器技术、等离子体技术、电真空器件的制造及真空技术的各个领域。,美国VARIAN公司的涡轮分子泵,2.7.4牵引分子泵(1)螺旋矩形牵引分子泵,(2)盘型牵引分子泵,2.7.5 复合式分子泵,1980年以前,涡轮分子泵多用于科研部门,当半导体产业出现后,要求分子泵能连续地大量排气和获得清洁的真空,经常需要涡轮分子泵在1Pa以上工作。但涡轮分子泵恰好在这个压力范围内抽速下降很多。为了使泵能在高压
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