第03章 场效应管及其放大电路课件.ppt
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1、电子电路基础Electronic Circuit Foundation,北京邮电大学 信息与通信工程学院 孙文生,http:/,教学资源,课件下载微博http:/,主群 3643 7175(500人),分群 5611 2577,误闯地球,电子电路基础Electronic and Circuit Foundation,第三章 场效应管及其放大电路,讨论群:3643 7175,第三章 场效应管及其放大电路,场效应晶体管的特点通过改变电场强度控制半导体导电能力的有源器件;栅源电压vGS 控制漏源电流iD。,仅有一种载流子参与导电;根据参与导电的载流子不 同,有电子作为载流子的 N沟道器件和空穴作为载
2、 流子的P沟道器件。热稳定性好,抗干扰能力强。输入阻抗高,易集成,第三章 场效应管及其放大电路,场效应管的分类绝缘栅型场效应管(Insulated Gate Field Effect Transister,IGFET)也称金属氧化物半导体三极管MOSFET,简称MOS管(Metal Oxide Semiconductor FET)结型场效应管(Junction type Field Effect Transister,JFET),3.1.1 增强型MOS场效应管,N沟道增强型MOS管的结构,D(Drain)为漏极,相当cG(Gate)为栅极,相当bS(Source)为源极,相当e,N沟道增强型
3、MOSFET的结构示意图和符号,3.1.1 增强型MOS场效应管,增强型电阻负载共源放大电路,N沟道增强型MOS管的基本工作原理,3.1.1 增强型MOS场效应管,栅源电压vGS的影响加入栅源电压vGS 导电沟道的形成,开启电压 VGS(th):开始形成导电沟道的vGSvGS 对导电沟道有控制作用.,3.1.1 增强型MOS场效应管,漏源电压vDS对导电沟道的影响,楔型沟道 预夹断状态 夹断状态,vGD VGS(th)vDS(vGS-VGS(th),vGD=VGS(th)vDS=(vGS-VGS(th),vGD(vGS-VGS(th),3.1.1 增强型MOS场效应管,N沟道增强型MOS管特性
4、曲线输出特性曲线 iD=f(vDS)vGS=常数转移特性曲线 iD=f(vGS)vDS=常数,3.1.1 增强型MOS场效应管,输出特性曲线 iD=f(vDS)vGS=常数,截止区:,截止区,当vGS接近VGS(th)时,iD约在A级,且iD与vGS成指数关系,这种现象称为亚域区效应。,3.1.1 增强型MOS场效应管,输出特性曲线 iD=f(vDS)vGS=常数,截止区,可变电阻区:,3.1.1 增强型MOS场效应管,输出特性曲线 iD=f(vDS)vGS=常数,饱和区:,截止区,vDS在一定范围内变化,导电沟道上的电压基本不变,iD也基本不变,输出特性曲线为直线。,但随着vDS的增大,沟道
5、长度减小,沟道电阻也随之减小,iD也会随vDS增大而略有增大,称这种现象为沟道长度调制效应。,3.1.1 增强型MOS场效应管,沟道长度调制效应 漏源电压vDS对沟道长度的调制作用,沟道长度调制因子,典型值:0.0010.03 V-1,3.1.1 增强型MOS场效应管,漏极和源极之间的微变等效电阻rds,3.1.1 增强型MOS场效应管,输出特性曲线 iD=f(vDS)vGS=常数,击穿区:多种击穿共存,截止区,在饱和区,vDS过大会使管内漏、源区间的耗尽区出现击穿。vDS过大时,会导致漏区与衬底间的PN结出现反向击穿。对沟道长度较短的MOS管,vDS过大会使漏源区之间全部转为耗尽区,发生贯通
6、击穿。栅极下存在SiO2绝缘层,vGS过大会使绝缘层击穿。,3.1.1 增强型MOS场效应管,截止区:,可变电阻区:,饱和区:,截止区,应用举例,例:某MOS管的kp=40A/V2,W/L=20,VGS(th)=1V,VA=50V,vGS=3V.(1)试问vDS为何值时出现预夹断,并求此时的漏极电流iD.(2)求vDS=5V时的漏极电流.,3.1.1 增强型MOS场效应管,N沟道增强型MOS管的转移特性曲线,iD=f(vGS)vDS=常数,由输出特性曲线求转移特性曲线,3.1.1 增强型MOS场效应管,转移特性曲线iD=f(vGS)vDS=常数,跨导gm:衡量栅源电压对漏极电流 的控制作用。,
7、VGS(th),3.1.1 增强型MOS场效应管,转移特性曲线iD=f(vGS)vDS=常数,VGS(th),场效应管在饱和区输出电流与输入电压呈二次函数关系(均指瞬时值、全值)。双极型晶体管在放大区输出电流与输入电压呈指数关系。对交流而言,在Q点附近均是线性关系,用Q点的切线代替曲线,近似为线性。,3.1.1 增强型MOS场效应管,MOS场效应管衬底调制效应,背栅跨导gmb:衡量背栅源电压对漏极 电流的控制作用。,跨导比:衡量gmb的大小。,应用举例,例:N沟道MOS管放大电路如图,其中RD=1.5K,VDD=5V,开启电压 Vth=1.5V,本征导电因子kp=50A/V2,沟道宽长比W/L
8、=10,沟道 长度调制因子=0.001/V。试求:(1)若微变跨导gm=1mS,直流徧置电压源VGSQ应为多少?(2)为使管工作在饱和区,求电压源vi的动态范围。,解:(1)由于数值较小,在vDS的变化范围内均有(vDS)1,故可忽略沟道长度调制效应。,应用举例,解:(2),又 vGS=VGSQ+viVth,故,vimin=Vth-VGSQ=-2V,所以,vimax=vGSmax-VGSQ=4.05-3.5=0.55V,3.1.1 增强型MOS场效应管,P沟道增强型MOS管,P 沟道MOS场效应管的工作原理与 N 沟道MOS管完全相同,但导电的载流子不同,电压极性不同,如同双极型三极管有NPN
9、 型和 PNP 型一样。,增强型MOS场效应管,绝缘栅场效应管,N沟道增强型,P沟道增强型,3.1.2 耗尽型MOS场效应管,N 沟道耗尽型MOS管,是在栅极下的SiO2绝缘层中掺入了大量的金属正离子。当VGS=0 时,这些正离子已经感应出反型层,在漏源之间形成导电沟道,只要有漏源电压,就有漏极电流存在。,若在栅源之间加正电压,导电沟道将变厚,沟道电阻减小。,若在栅源之间加负电压,导电沟道将变窄,沟道电阻增大。,3.1.2 耗尽型MOS场效应管,工作原理初始导电沟道已经存在VGS 对导电沟道有控制作用.当VGS=VGS(off)时,导电沟道完全被夹断,称为截止电压。,通常VGS0,3.1.2
10、耗尽型MOS场效应管,工作原理 VGS=常数漏源电压vDS对沟道的影响,3.1.2 耗尽型MOS场效应管,输出特性曲线 iD=f(vDS)vGS=const,截止区:,可变电阻区:,饱和区:,3.1.2 耗尽型MOS场效应管,转移特性曲线iD=f(vGS)vDS=const,P点是 vGS=0 时的预夹断点,该点的漏极电流称为漏极饱和电流IDSS,也称零栅压漏极电流。,IDSS(1+vDS),3.1.2 耗尽型MOS场效应管,转移特性曲线iD=f(vGS)vDS=const,在饱和区内,当vGS=0时,令,耗尽型MOS场效应管,绝缘栅场效应管,N沟道耗尽型,P 沟道耗尽型,3.2 结型场效应管
11、(JFET),结型场效应管(Junction Field Effect Transistor,JFET)是在一块半导体的两端引出源极(S)和漏极(D),在两侧用半导体工艺扩散出另一类型的高掺杂半导体,引出电极作为栅极(G)。若导电沟道为N型,则称为N沟道结型场效应管;若沟道类型为P型,称为P沟道结型场效应管。,3.2.1 结型场效应管的基本工作原理,栅源电压vGS对导电沟道的控制作用,N沟道结型场效应管中vGS的影响,栅源电压vGS 0,vGS 对导电沟道有控制作用夹断电压 VGS(off):导电沟道被耗尽层夹断时的vGS,0vGS VGS(off),vGS=VGS(off),3.2.1 结型
12、场效应管的基本工作原理,漏源电压vDS对沟道的影响,N沟道结型场效应管中vDS的影响,楔型沟道 预夹断状态 夹断状态,vGD VGS(off)vDS vGS-VGS(off),vGD=VGS(off)vDS=vGS-VGS(off),vGD vGS-VGS(off),3.2.2 结型场效应管的特性曲线,JFET的输出特性曲线、转移特性曲线与耗尽型MOSFET的特性曲线基本相同,但MOS管的栅压可正、可负,而结型场效应管的栅压只能是正值(P沟道)或负值(N沟道)。,3.2.2 结型场效应管的特性曲线,可变电阻区:,饱和区:,结型场效应管的特性曲线,结型场效应管,N沟道耗尽型,P沟道耗尽型,耗尽型
13、场效应管,截止区:,可变电阻区:,饱和区:,3.3 VDMOS和IGBT,VDMOS型场效应管,VMOS管中的原胞单元,VDMOS场效应管(Vertical Double-diffused MOSFET)由多个原胞单元并联构成。,3.3 VDMOS和IGBT,IGBT管,IGBT管中的原胞单元,IGBT场效应管与VDMOS管类似,也是(由多个原胞单元并联构成。,3.4 场效应管放大电路,3.4.1 场效应管的模型,MOS场效应管瞬态模型,N沟道增强型MOS管,模型是用标准元件构建的一种电路结构,其端口电压、电流关系与器件的外特性等效。,MOS管的瞬态模型(未考虑电容),3.4.1 场效应管的模
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- 第03章 场效应管及其放大电路课件 03 场效应 及其 放大 电路 课件

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