第7章氡析出与氡传播课件.ppt
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1、绪论第1章矿 内 空 气第2章矿井空气流动基本理论第3章矿井通风系统和通风动力第4章铀矿山辐射危害与安全第5章辐射防护标准与矿井防氡指标第6章氡来源及性质,第7章氡析出与氡传播第8章排氡通风与控氡技术第9章铀矿井排氡通风设计第10章氡测量和其他辐射测量方法第11章矿井通风系统测定与评价,第7章氡析出与氡传播,岩石中含有镭,在衰变过程中不断形成氡,这些氡的原子在变成镭A之前不停地运动,在岩体内由一处传播到另一处。而氡穿过岩石的表面进入空气,不过是氡在岩体内传播过程的一个结果。能够析出放射性气体的介质称为射气介质。氡的析出指氡穿过岩体表面进入大气的现象和过程。氡在射气介质中的传播使氡按一定规律分布
2、于射气介质中,氡的这种分布与介质为氡提供的运移通道,促成氡迁移的动力和空气中氡浓度密切相关。,氡在射气介质中的运动和迁移总是沿着一定的通道进行的。从这个角度来看,射气介质可以分为两大类,一类是无孔隙的射气介质;另一类是有孔隙的射气介质。,无孔隙的射气介质是完全均匀的介质,像晶体、液体、玻璃等。氡在这种介质中以溶质的形式存在,与介质完全均匀地混合在一起,这时氡原子的运动直接受介质分子的影响。例如空气中的氡与水相接触时,氡首先穿过水面溶解到水里,然后再在水中传播。溶解即是传播的一种形式。与氡在空气中的传播相比,氡在无孔隙介质中的运动是相当困难的,氡几乎不能穿过玻璃就是一个证明。,7.1氡的运移通道
3、,有孔隙的射气介质实际上是由无孔隙的介质颗粒组成的不均匀介质。颗粒之间存在着大小不等,形状各异的间隙,如果间隙中无充填物,就构成了孔隙和裂隙。岩石、土壤、混凝土都是有孔隙的射气介质,存在着或多或少的大小孔隙。氡在这些介质中的传播,实际上是在有孔隙和微裂隙组成的毛细管网中的传播,能够自由运移的那一部分氡存在于介质的孔隙和裂隙中,进入孔隙和裂隙中的氡在镭-226衰变产生的氡的总量中所占的比例便是射气系数。如果介质的孔隙和裂隙中充满了空气,则氡在其中的传播实际上是在空气中传播。这些连通的孔隙和裂隙即为氡在岩体内传播的通道。,氡的传播与介质的孔隙密切相关,R.Thomp-kins曾对新墨西哥砂岩和埃利
4、奥特湖砾岩的氡析出率和孔隙度作了比较并指出,岩石的孔隙度是影响氡在岩石中传播的重要因素。这两种岩石的孔隙度、含铀量和氡析出率列于表7.1。从表7.1看出,两种岩石的铀含量相差不多,而氡析出率相差两个数量级,且孔隙度大的岩石其氡析出率也大,这就在一定程度上反映了通道在氡迁移中的重要作用。,但是,这并不意味着氡只能在通道中传播,事实上某些无孔隙的介质中也能传播,如水是无孔隙介质,但氡在水中也能传播,只不过传播速度比空气慢。氡在空气中的扩散速度为0.4610-3 cm/s,氡在水中的扩散速度为4.1510-6 cm/s。,7.2氡在岩体传播的动力,通道是岩石为氡的传播提供的条件,没有这个条件,氡的传
5、播很困难。但是仅仅有通道还不能造成氡的传播。当既有了通道又有动力时,才能造成氡的传播。,促成氡在介质中迁移传播的动力可分为两种:一种是主动力因素,即氡原子本身的热运动造成的扩散迁移传播,可称为主动力因素;另一种是氡被流动着的流体(气体或液体)挟带造成的渗流传播,可称为被动动力因素。氡在介质中的传播是促使氡传播的动力与介质为这种传播所提供的条件两者的结合。由费克第一扩散定律可知,氡的扩散迁移通量J1为:,J1=-DgradCBq/(scm2)(7.1),式中,gradC为沿ox方向的氡浓度梯度,Bq/cm4;D为氡在介质中扩散系数,cm2/s;为岩石的孔隙度,无量纲。,氡的扩散使氡由高浓度向低浓
6、度处迁移,即促成氡的扩散传播的动力因素是氡在介质中的分布存在浓度梯度,如果氡的浓度分布十分均匀,不存在浓度梯度,即gradC=0,扩散传播的通量自然也为零,即J1=0,氡的扩散传播也就停止了。,促使氡在介质中传播的另一被动原因是含氡流体的流动夹带着氡由一处移往另一处。含氡流体的流动所造成的氡的迁移通量J2为:,J2=C vBq/(scm2)(7.2),式中,C为流体中的氡浓度,Bq/cm3;v为流体的渗流速度,cm/s。,如果所讨论的射气介质本身就是流体,式(7.2)中的v就是射气介质本身的流动速度。如果所讨论的射气介质是多孔介质,v便是流体的渗流速度。在多孔介质中所以会出现渗流完全是由于存在
7、有压力梯度的缘故。压力梯度使得流体由高压力处流向低压力处。当压力梯度不大,流体渗流速度也不很快的时候,渗流速度与压力梯度之间的关系服从达西定律:,v=-gradpcm/s(7.3),式中,gradp为沿ox方向的压力梯度,dyn/cm3;k为介质的渗透率,cm2;为流体的黏滞系数,dyns/cm2;p为液体内的压力,dyn/cm2。,如果渗流速度相当大,则其应按哲才公式计算:,v=-kc(7.4),式中,kc为介质紊流渗透系数,cm/s。,如果射气介质的孔隙中充满了水,那么式(7.2)中的C便代表水中的氡浓度,式(7.3),(7.4)中的便代表水的黏滞系数。如果介质孔隙中只有空气,则式(7.2
8、)中的C便是氡的孔隙浓度,式(7.3)中的便是气体的黏滞系数。,孔隙浓度是介质的孔隙中氡的浓度,无孔隙介质中的氡浓度是体积浓度。如果把体积浓度的概念也应用于有孔隙介质,那么,体积浓度与孔隙浓度之间应有如下换算关系:,CT=CK(7.5),式中,CT为氡的体积浓度,Bq/cm3;CK为氡的孔隙浓度,Bq/cm3;为介质的孔隙度。,如果在某一介质内同时存在两种氡的传播动力因素,则岩体表面的氡析出率为:,J=J1+J2=-DgradC+CvBq/(scm2)(7.6),如果没有空气渗流,那么v=0,这时岩体表面的氡析出率就是纯扩散条件下的氡析出率:,J=J1Bq/(scm2)(7.7),如果空气渗流
9、速度很大,氡的扩散析出所起的作用可以忽略不计,这时岩体表面的氡析出率为:,J=J2Bq/(scm2)(7.8),7.3均匀多孔介质中氡的传播方程,所谓均匀多孔介质,指的是孔隙分布十分均匀的介质,即孔隙的大小、形状、性质、分布都是十分均匀的。这是把无孔隙介质与有孔隙介质综合在一起而假设出来的理想介质,严格说来并不存在这种介质。但是,当我们所研究的射气介质体积相当大,孔隙与颗粒都很小,分布又比较均匀时,这种介质就接近均匀多孔介质了。事实上,研究地下空间氡析出时所遇到的射气介质,其体积都是很大的,都可看作是均匀多孔介质。,=DC-Cv-vC-C+a(7.9),式中,为拉普算符;为哈米尔顿算符;C=d
10、iv-gradC;C=gradC;C为介质中氡的孔隙浓度,Bq/cm3;为介质的孔隙度;为氡的衰变常数,1/s;a为介质产生可移动氡的能力,Bq/(scm3);D为氡在射气介质中的扩散系数,cm2/s;v为渗透速度,cm/s;t为时间,s。,氡在均匀多孔介质中传播的一般方程为:,1.稳定条件下氡的传播方程,所谓稳定状态,指的是射气介质中氡的浓度分布不随时间而变化,即=0。因此,稳定状态下氡的传播方程为:,DC-vC-(+v)C+a=0(7.10),符号意义同前。,渗流速度为常数时,氡的传播达到稳态。,当介质中的渗流速度为常数时,必有divv=0,这时,氡的稳态传播方程为:,DC-vC-C+a=
11、0(7.11),3.空间坐标为一维时氡的稳态传播方程,一维条件是氡传播的最简单情况,也是最常用的条件。在直角坐标系中,方程为:,2.氡的稳态传播方程,D-v-C+a=0(7.12),在圆柱坐标系中方程为:,D-C+a=0(7.13),式中,r为圆柱坐标,cm;其余符号意义同前。,7.4.1半无限大射气介质中氡的传播方程,只有一个暴露表面的半无限岩体,大地表面的氡析出问题就是氡在半无限大介质中传播的典型结果。巷道壁的氡析出基本上也近似半无限大的问题,半无限大介质是一侧有限另一侧无限延展的均匀多孔介质。,研究介质中氡浓度的分布是研究介质表面氡析出的基础。氡析出的情况与氡浓度的分布紧密相关,氡浓度分
12、布的变化必然导致氡析出的变化。,7.4半无限大射气介质中氡的传播与氡的析出,假定半无限大介质为均匀多孔介质,且介质的孔隙度、含铀品位、铀镭平衡系数、射气系数、渗透率、氡在该介质中的扩散系数等皆为常数,故此介质产生可移动氡的能力也为一常数。,半无限大射气介质中氡传播问题是一维问题。因为在稳定状态下,介质中氡的浓度分布仅仅是距介质表面深度的函数,而在同一深度上各点的氡浓度是相等的。半无限大射气介质中氡的浓度分布计算坐标如图7.1所示。,图7.1半无限大射气介质的计算坐标,垂直于介质表面沿深度选取计算坐标,并令表面的内法线方向为正,那么,介质中氡的孔隙浓度稳定分布方程为:,D-v-C+a=0(7.1
13、4),边界条件:x=0处C=C0,xC 有界,式中,C0为介质外空间的氡浓度,Bq/cm3。,方程(7.14)的解为:,C=-expBq/cm3(7.15),当x时,C趋近于,此即为介质内部的氡浓度的稳定极限值。,半无限大射气介质中氡的分布如图7.2。,图7.2不同C0值所对应的介质内氡浓度分布,7.4.2半无限大射气介质表面的氡析出,由式(7.6)可知介质的氡析出率:,J=J1+J2,一维条件下,J=-D+Cv(7.16),把式(7.15)代入式(7.16)得:,J=-C0v(7.17),现讨论C0对氡析出的影响。,式(7.17)可改写成:,J=(-v)-(+v)C0(7.18),因为+v0
14、,所以,无论渗流速度v在什么方向都有v0。这就意味着,对一定的射气介质,当渗流速度为一定值时,介质表面以外空间中氡浓度的上升必然导致介质表面的氡析出率下降。,当C0=J=0,当C00,当C0J0,纯扩散条件下介质表面的氡析出率,当式(7.18)中v=0,C0=0时,有:,J0=a=2.5910-4KpSeUBq/scm2(7.19),式中,为介质容重,g/cm3;Kp为介质铀镭平衡系数,无量纲;Se为介质射气系数,无量纲;U为介质铀含量,%。,J0即为介质表面的固有氡析出率,它表征介质内部因素对氡析出的影响,因此,半无限大射气介质表面固有的氡析出率与介质的含铀品位、铀镭平衡系数和射气系数的乘积
15、成正比。,7.4.3半无限大介质表面覆有均匀覆盖层时的氡析出,由于覆盖材料不同,覆盖层可分为有孔隙覆盖层和无孔隙覆盖层。,1.有孔隙覆盖层对氡析出的影响,假设被覆盖的是半无限大均匀多孔介质,在介质表面上有一层由均匀介质(如混凝土)组成的覆盖层。当按图7.3选取计算坐标时,射气介质和覆盖层中氡浓度分布可用下列方程描述。,在半无限大射气介质中,xx0有方程:,图7.3覆盖层计算坐标,D1-v-1C1+a1=0(7.20),在覆盖层中0 xx0,D2-v-2C2=0(7.21),边界条件:xC1=a1/1,x=0C2=C0,x=x0C2=C1,D1=D2,式中,C1为射气介质中氡的孔隙浓度,Bq/c
16、m3;C2为覆盖层中氡的孔隙浓度,Bq/cm3;1为射气介质的孔隙度;2为覆盖层的孔隙度;D1为氡在射气介质中的扩散系数,cm2/s;D2为氡在覆盖层中的扩散系数,cm2/s;为氡的衰变常数,1/s;v为射气介质和覆盖层中的渗流速度,cm/s;x0为覆盖层的厚度,cm;a1不射气介质产生可移动氡的能力,Bq/(scm3)。,C1=B1exp(-b1x)+a1/(1)Bq/cm3x0 x(7.22),解方程(7.21)得覆盖层中稳定状态下的氡浓度分布:,C2=A2exp(b2x)+B2exp(-b2x)Bq/cm30 xx0(7.23),式(7.22),(7.23)中:,b1=1/cm,解方程(
17、7.20)即得覆盖后稳定状态下射气介质中的氡浓度分布:,b2=1/cm,B1=exp(b1x0)Bq/cm3,A2=Bq/cm3,B2=Bq/cm3,当C0=0时,上列各式变为:,B1=exp(b1x0)Bq/cm3,A2=Bq/cm3,B2=Bq/cm3,当C00时,覆盖层表面上的氡析出率为:,J=D2b2(A2-B2)-VC0Bq/(scm2)(7.24),当C0=0时,覆盖层表面上的氡析出率为:,J=2A2D2b2=Bq/(scm2)(7.25),2.无孔隙覆盖层对氡析出的影响,无孔隙覆盖层与有孔隙覆盖层的不同之处在于覆盖后射气介质内的气体渗流速度为零。,假定无空隙覆盖材料与被覆盖材料的
18、射气介质不发生任何反应,即射气介质表面不发生变化。覆盖材料在射气介质的表面上形成厚度均匀、黏结牢固且与被覆盖介质界线清楚的覆盖层,仍按图7.3选取计算坐标,那么,稳定状态下氡的浓度分布为在射气介质中:,D1-1C1+a=0 xx0(7.26),在覆盖层中:,D2-C2=00 xx0(7.27),边界条件:xC1=a/1,x=0C2=C0,x=x0C2=C1,和 D1=D2,式中,为氡在无孔隙介质中的溶解度系数;其余符号意义同前。,解上述方程,即得射气介质和覆盖层中的氡浓度分布:,C1=B1exp(-b1x)+a/1Bq/cm3(7.28),C2=A2exp(b2x)+B2exp(-b2x)Bq
19、/cm3(7.29),式中b1=(1/D1)1/21/cm,b2=(/D2)1/21/cm,B1=D2b2exp(b1x0)Bq/cm3,A2=Bq/m3,B2=Bq/cm3,无孔隙覆盖层表面的氡析出率:,J=D2b2(A2-B2)(Bq/(scm2)(7.30),当C0=0时,J=Bq/(scm2)(7.31),覆盖前的氡析出率:,J=D1b10a/(1)Bq/(scm2)(7.32),其中b10=(+4D11)1/2-v0)/2D1,式中,v0为覆盖前射气介质内的渗流速度,cm/s。,覆盖层的防氡效率定义为:,=(1-J/J),则覆盖层的防氡效率:,=100%(7.33),7.4.4无限延
20、展有限厚射气介质中氡浓度分布,假定有一个有均匀多孔介质组成的无限延展有限厚的射气体,其厚为x0,当按图7.4所示,沿着射气的厚度取计算坐标时,射气体内氡的孔隙浓度分布可用如下方程描述。,D-v-C+a=0(7.34),边界条件:x=0处C=C10,x=x0处C=C20,图7.4无限延展有限厚介质的计算坐标,式中,x0为射气体厚度,cm;C10为x=0处表面外的氡浓度,Bq/cm3;C20为x=x0处表面外的氡浓度,Bq/cm3;其余符号意义同前。,方程(7.34)的解为:,C=Aexp(b1x)+Bexp(-b2x)+a/Bq/cm3(7.35),式中b1=(v2+4D)1/2+v)/2D1/
21、cm,b2=(v2+4D)1/2-v)/2D1/cm,A=Bq/cm3,B=Bq/cm3,当V=0,C10=C20=0时,b1=b2=(/D)1/2,A=,B=,C=Bq/cm3(7.36),其氡析出率,无限延展有限厚介质两侧表面的氡析出率分别用J1和J2表示,且令:,J1=Jx=0J2=,则:J1=D-vC10(7.37),J2=-D+vC20(7.38),把式(7.36)代入式(7.37),(7.38),则:,J1=(Ab1-Bb2)D-vC10Bq/(scm2)(7.39),J2=(-Ab1exp(b1x0)+Bb2exp(-b2x0)+vC0Bq/(scm2)(7.40),当V=0,C
22、10=C20=0时,J1=J2=J-Bq/(scm2)(7.41),式中,J为表示半无限大介质表面的氡析出率,Bq/(scm2)。,氡的析出形式除上述半无限大射气介质表面的氡析出覆盖射气介质的氡析出;无限延展有限厚射气介质表面的氡析出,此外还有球形射气介质表面的氡析出;圆柱形通风空间存在时无限大射气介质的表面氡析出;无限长均匀圆柱表面的氡析出;破碎介质表面的氡析出等。,在各类射气介质中的各种形式的氡分布和氡析出是否正确,我们用实验证明了它们的正确性。如有限延展无限厚射气介质中氡的分布,经实验验证,表7.2为其理论计算与实验结果对比,其误差在015%范围内。,7.5射气介质中的气体渗流对氡析出的
23、影响,7.5.1渗流的基本概念,图7.5射气介质中的渗透,1.空气在介质孔隙中的渗流,空气在射气介质孔隙中的运动情况非常复杂。射气介质的孔隙、形状、大小、连通性等各不相同。它们是一些形状复杂、大小不一、弯弯曲曲的通道。如图7.5所示。,由于在不同的孔隙中或同一孔隙的不同部位,空气的运动状态各不相同,所以,研究射气介质个别孔隙中空气的运动特征不仅很困难,而且实用价值也很小。因而人们不去研究个别气体质点的运动规律,而是去研究介质孔隙内空气的平均运动,即研究具有平均性质的渗透规律。,这种方法的实质是用和真实气流属同一流体的,充满整个介质孔隙的假想气流来代替仅仅在介质孔隙内运动的气流,通过这一假想气流
24、的研究来达到了解真实气流平均渗透规律的目的,这种假想气流同时还应具有下列性质:它通过任一断面的流量应与真实气体通过同一断面的流量相等;它在某断面上的压力或压力梯度应等于真实气流的压力或压力梯度;它在任一介质体积中所受的阻力应等于真实气流所受的阻力。满足上述条件的这种假想气流称为空气渗流。空气渗流所占有的空间区域称为渗流区(渗流场)。因此,渗流就可以当作连续流来研究。,2.气体渗流速度,渗流在垂直于渗流方向的射气介质断面上的平均流速称为渗流速度。即:,v=Q/Scm/s(7.42),式中,v为渗流速度,cm/s;Q为渗流量,cm3/s;S为垂直于气体渗流方向的介质的面积(它包括介质孔隙面积,也包
25、括介质颗粒占据的面积),cm2。,在渗流场中作一根理想的空间几何线,使这根线上每一个空气质点在某一瞬间的渗流速度矢量跟这根几何线相切,我们就把这根几何线称为流线。,为了进一步了解流线的概念,我们必须把流线和表示气体质点运动轨迹的迹线区别开来。,迹线是表示某一气体质点在不同时间内连续运动所得到的轨迹,而流线则是表示在同一时间内不同气体质点连线,此时各气体质点的速度矢量都和这根连线相切。在稳定状态下,经过某一共同点的流线和迹线互相重合。,3.流线,7.5.2射气介质中渗流的分类,射气介质中的气体渗流大致可分为两种。一种是稳定的气体渗流,判别是否稳定的气体渗流的标志是:气体压力对于时间的偏导数、渗流
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