硅光子行业分析ppt课件.pptx
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1、,硅光子行业分析,2017年4月,1,2,3,4,5,6,7,芯片层面的光进铜退是必然趋势,在固网传输领域,全球已经历了光纤替代铜线电传输数据的浪潮,解决了长途传输过程中的网络建设问题。云计算、大数据时代的到来,全球企业快速将业务重心转移到云平台架构,数据中心流量快速提升。光通信已经发展了近40年,从 八十年代左右开始,相继完成了WAN、MAN、LAN、System、Board 领域的渗透。,光传输发展路径,传统光通信模块主要是由III-V族半导体芯片、高速电路硅芯片、被动光学组件及光纤封装而成。随着晶体管加工尺寸不断减小,电互连面临诸多局限,业界发现摩尔定律不再适用,传统铜电路已接近瓶颈,5
2、0Gbps已接近传输极限。,铜线在高速传输信号(10G)时出现困难,铜线的传输极限未来将无法满足数据中心通信和云计算产业的发展需求,需要更快的传输速度,数据中心内部及芯片层面的光进铜退成为必然。,技术背景,随着晶体管加工尺寸不断减小,电互连面临着信号延迟大、传输带宽小、功耗大、信号串扰大、成本高等局限,芯片集成度提高的速度减慢甚至趋于停滞。IT从业者开始为半导体芯片寻找继任者,出现了光子计算、量子计算、超导计算等概念。由于光信号在传输过程中很少衰减且可获得极大的带宽,最重要的是在硅芯片上集成光学数据通道的工艺难度相对较低,所以科研人员认为用光通路取代电路在硅芯片间传输数据是一种有效的解决方案。
3、由此硅光子技术应运而生。,硅光子技术的发展经历了技术探索、技术突破、集成应用三个阶段:,1969年美国贝尔实验室的S.E.Miller首次提出集成光学概念。1972年S.Somekh和A.Yarive提出了在同一半导体衬底上同时集成光器件和电器件的设想。然而当时为了制备功能多样的光器件,仍需采用不同特性的材料作为衬底,这大大限制了集成光器件的发展。,进入21世纪,互联网的兴起对宽带速度的要求越来越高,数据中心CPU芯片的协同运算能力受到芯片互联带宽的严重制约。以Intel为首的企业与学术机构就开始重点发展硅芯片光学信号传输技术。,2008年以后,以Luxtera、Intel、和IBM为代表的公
4、司不断推出商用级硅光子集成产品。在2012年之后,Kotura公司、美国Alcatel-Lucent、Acacia公司、日本的Fujikura公司相继都有相关报道,不断推动硅光子集成技术的发展。,技术概述,硅光子技术,硅光子技术是基于硅和硅基衬底材料,利用现有 CMOS 工艺进行光器件开发和集成的新一代技术。概括地说,即采用激光束代替电子信号传输数据,将光学器件与电子元件整合至一个独立的微芯片中,在硅片上用光取代传统铜线作为信息传导介质,以提升芯片与芯片间的连接速度,可使处理器内核间的数据传输速率比目前提升100倍以上,取得比传统铜导线更优异的数据传输性能与极低的能耗。,基本原理,硅光子架构主
5、要由光源、调制器、光纤/波导、探测器等几部分组成。使用该技术的芯片中,电流从计算核心流出,到转换模块通过调制,将电信号转换为光信号,通过电路板上铺设的光波导,到另一块芯片后再转换为电信号。相对电传输,采用高速光纤的光传输架构,可以通过单一链路25Gb/s的标准达到100Gb/s的传输速度,甚至更快。而传输介质采用硅作为集成光器件衬底,可以利用已有的集成电路工艺制作光器件,有助于降低成本及实现光电集成。,光发送集成芯片,光接收集成芯片,光收发集成芯片,技术优势,功耗更低、可靠性更高相比传统的光学技术,它结合了硅技术的低成本、更高的集成度和互联密度以及更多的嵌入式功能,同时功耗更低、可靠性更高。早
6、在上世纪70年代就提出了集成光学的概念,即在同一芯片中同时集成光器件和电器件,但由于技术上的各种限制,更由于网络发展远未达到传输瓶颈,硅光技术更多地停留在学术研究层面。,在数据传输能力上,光信号拥有电信号不可比拟的高带宽传统的铜电路已经接近物理瓶颈,继续提高带宽变得越来越困难。同时云计算产业却对芯片间数据交换能力提出了更高的要求:数据中心、超级计算机通常会安装数以千计的高性能处理器,可这些芯片的协同运算能力却受到芯片互联带宽的严重制约。例如一颗Xeon CPU从与自己直接连接的内存中读取数据的带宽高达每秒40G字节,但如果是从另一颗Xeon芯片控制的内存中读入资料,带宽就会下降一半甚至三分之二
7、。,突破芯片互联瓶颈单颗芯片的性能越强、互联的芯片数量越多,较低的互联带宽就越容易成为性能提升的障碍。我国研制的天河2超级计算机,已经连续五次获得世界计算机Top500的第一名,它的柜与柜所有的连接就都是通过光进行通信。铜电路不仅带宽提升困难,功耗和发热也不可小视,由此还会带来数据中心温度控制的附加成本。同时相对于电磁波易干扰易窃听的问题,光信号在安全性上得到了巨大提升。因此业界对硅光技术寄予了厚望。,1,2,3,4,5,6,7,硅光子产品层次,硅光子器件与产品可分为三个层次:硅光器件、硅光芯片、硅光模块。硅光器件:是各个环节的功能单元,主要包括光源、调制器、探测器、波导等。硅光芯片:将若干基
8、本器件进行单片集成,以实现高性能、低功耗、低成本等特性。包括光发送集成芯片、光接收集成芯片、光收发集成芯片、相同功能器件阵列化集成芯片(探测器阵列芯片、调制器阵列芯片等)等。硅光模块:是最终系统级的产品形式,即将光源、硅光子器件/芯片、外部驱动电路(激光器驱动、调制器 IC 和探测器读出放大 IC 等)集成到一个模块,包括光发送模块、光接收模块和光收发一体模块等。,硅光组件概述,硅光器件:光源,硅光通信系统中,光源是光信息载体,为便于高速稳定地传输大量信息,要求光源具有响应时间小(典型值小于1ns)、单色性好(光谱带宽小于或等于2nm)等特点,而且要求其可以相应尺寸的波导实现较好耦合。实际使用
9、的所有半导体激光器都是多层异质结器件。,现状,主要挑战,在硅光通信系统中,硅基激光器的集成是一大难点,因为硅是间接带隙半导体,发光效率低,难以制备硅基发光器件。同时,由于硅的间接能带隙,如何提供高效的电子泵浦光源还是目前的主要挑战。,技术进展,引入高效电子泵浦光源的一个方法是采用III-V族发光材料与硅光电路混合集成。目前有三种途径实现,一是使用III-V族芯片在硅上粗对准键合,随后进行硅圆级加工;二是在硅或SOI上直接外延生长层III-VI族层;三是前两个方法的结合:在硅上生产长III-V族增益层,然后将其键合到SOI晶圆,以达到有效的波导耦合和光子集成电路制造。目前,硅光子中大多数光源使用
10、III-V硅晶圆键合(异质集成)或对接耦合(混合方案)。硅与III-VI族材料的集成能利用两类材料的优势,硅能提供低传播损耗,而III-VI族材料能带来高增益值、通过改变合金组成对能带隙进行调整。根据需求的不同,光源分为连接器光源和电信光源。,连接器光源,电信光源,未来连接器技术的三个关键指标是带宽密度、能效和延迟。电气互联将无法跟上能力要求,未来十年光学连接器将成为片上通信的首选设计。在以上三个指标达到要求后将会朝光互联过渡。,窄线宽(narrow linewidth)激光在现代通信中变得越来越重要。传统III-V激光线宽在兆赫范围,而达到最优性能需要时线宽达到亚千赫的程度(sub-kHz)
11、,各年宽可调谐集成激光器线宽,按以下三类:III-VI族激光器对接耦合芯片(assembly)单芯片(异质集成),小结,尽管混合集成激光器可能是片上光源的最有潜力的实用方案之一,但以Intel 为首研究的全硅拉曼激光器和以美国MIT为首研究的硅基锗激光器也在近年取得了一系列突破,以英国伦敦大学为首的硅激光器也取得了良好性能。这些都为未来实现完全CMOS 工艺兼容的硅基光互连提供了前期的技术储备。,硅光器件:硅光调制器,概述,从激光器发出的光波是没有加载信号的,需要经过调制器,将外界电流、电压信号转换为光波的强度、幅值、相位、频率、偏振方向等参数,将电信号数据加载到光波上实现信号的光学传输。光调
12、制器有电光、热光、声光、全光四种调制,电光调制性能最佳,其原理是利用晶体的电光效应,通过控制外电场来改变晶体折射率或双折射率,从而改变输出光波的相位或强度。光学微机电系统调制的也是一种可选方案,但仅限于一些低速应用。调制器关键参数包括速度、调制深度、驱动电压(或功耗)、光损耗、紧密度、波长范围、温度敏感性和偏振依赖性。,目前电光调制器主要分为三类:利用直接电光效应的LiNbO3调制器、利用多量子阱电吸收原理的InP调制器、利用等离子色散效应的硅基电光调制器。等离子色散调制器基于马赫-泽德干涉(MZI),这是目前主要的商用调制器。目前主要挑战在于降低功耗,要实现足够的调制深度通常需要较大驱动电压
13、(6v),功耗约在pJ/bit。等离子色散调制器又可分为载流子积累型、注入型和耗尽型,而调制效果最好的是载流子积累型。基于载流子积累效应的调制器可以提升约5倍的效率,但是制造工艺更复杂,或需要掺杂多晶硅从而导致高传播损耗。一个解决方案是使用一个共振或慢波结构减小封装尺寸和调制器的驱动电压,但这样会使设备的温度依赖性高,并缩小光学带宽。如果对设备调优(tuning)以抵消温度变化也会导致功耗增加。另一种方案已应用在商用产品中,即弗朗兹一凯尔迪什效应调制器,这类调制器同样存在一定的温度依赖性。还有一种较有前景的方案是电浆调制器(plasma modulator)。,技术现状与挑战,理想的光学调制器
14、是高调制速度、大带宽、低损耗、小尺寸及超低功耗.然而,目前这些要求无法同时都满足。所以,目前在实际应用中是根据不同的目的进行折中优化。,小结,光调制器原理,硅光器件:复用/解复用器件,概述,为了充分发挥光通信带宽优势,采用波分复用(WDM)技术是一种有效途径。此外还有偏振复用(PDM)、模式复用(MDM)等复用技术。,波分复用技术是利用多个不同波长的光,在单根光纤/波导上的多通道数据实现并行传输,极大地拓展了已光互连的通信容量,因而在长距离光通信系统中获得了极大成功,得到了广泛应用。其关键功能是如何将不同波长携带的多路数据合并或分开,对应的关键器件即波分复用器件。实现波分复用器件的基本原理是利
15、用光束干涉,可分为双光束干涉和多光束干涉两大类。相比于双光束干涉器件(如马赫曾德尔干涉仪),多光束干涉器件可实现更窄带宽的滤波,易于实现多通道密集波长复用。最常见的多光束干涉波分复用器件主要有阵列波导光栅(AWG)、刻蚀衍射光栅(EDG)、微环谐振器(MRR)等。波分复用技术的特点:光无源波分复用器的可靠性较高,结构简单、尺寸小、易于与光纤耦合,可双向传输降低器件的极限速率。WDM技术在满足系统容量的基础上,大幅降低了对某些器件的性能要求提高光线频带效率具有透明的传输信道,与电调制方式和信号的传输速率均无关提高光纤网络组网的灵活性,增加其使用范围,使系统具有多功能存在插损和串扰,会降低系统的实
16、际有效功率。未来硅光子的波分复用将从稀疏波分复用向密集波分复用发展。,技术现状与挑战,采用单一的复用方式已经无法满足不断增长的巨大的带宽需求,而模式复用技术同现有非常成熟的波分复用技术、偏振复用技术一般有着很好的兼容性。其较高的信息密度,减小了器件的体积,对于有限的片上空间来说意义更为重大。多种复用方式混合使用可以实现更大带宽的光链路,有效地提高光的信息密度,是未来互联的发展方向。,小结,硅光器件:耦合器,概述,硅基波导光学耦合技术用于解决硅基集成光电芯片上的光信号同外部光信号互连的问题。硅基光波导的宽度通常在300500nm左右,相比于通常使用的单模光纤(芯径尺寸约810um)在几何尺寸上有
17、很大差距,造成了模场的严重失配,如图所示。因此需通过设计不同结构、材质的光耦合器件,使片上硅波导的光模场同单模光纤的光模场耦合相匹配,达到最优光耦合效率,常使用端面SSC(spot size converter)耦合以及光栅耦合两种方式。,端面SSC耦合:使光信号直接在硅基波导的横截面和光纤的横截面直接相耦合,优点在于耦合效率较高,而且能够在不改变光路的情况下进行对准。在制备上工艺难度大,需要特殊的端面抛光。通过在硅波导端面制作多层波导结构改变光波传播的模场,以实现不同直径模场匹配。不同波导材质及外形尺寸设计对SSC耦合损耗有影响。光栅耦合器:是一种常见的实现芯片与光纤间光互联的耦合器,原理是
18、利用布拉格衍射效应,光从光纤垂直(或有微小偏角)入射到光栅耦合器表面时,衍射光会在芯片表面垂直于光栅结构的方向上相互干涉得到增强,从而使一部分光延光栅耦合器进入芯片中的光波导。通过这种方式使得耦合器结构和位置的设计更加的自由,同时光栅结构(通常为12m12m)的尺寸同光纤芯尺寸(810m)相适应,可以提高光纤与耦合器的对准容差。阵列耦合:是多通道光器件同外部实现光交互的重要形式。实现多端口同时对准耦合,端口的耦合误差会形成积累,难度高于单端口耦合。可以分为光栅阵列耦合以及端面SSC阵列耦合,光栅阵列耦合是光电子芯片常见的阵列耦合形式,优点是操作简单、对准容差大,是常用的耦合手段。端面SSC阵列
19、耦合损耗小、封装体积小,将是未来光电子器件封装的主要形式。,主要技术,小结,如何进一步提高耦合效率是目前的主要问题,标准单模光纤阵列同硅基波导阵列之间的耦合将是解决未来大规模,高密度的集成硅光子芯片同外部光互联问题的重要手段。,直径约为10m,硅光器件:偏振相关器件,偏振态是光波的一个重要属性。在平面光波导中,一般存在TE、TM 两种偏振模式。对于硅纳米线光波导而言,由于硅和包层(空气或SiO2)存在巨大折射率差,其双折射效应极为显著。因此,大多数硅纳米线光波导器件均具有非常严重的偏振敏感特性。另一方面,硅纳米线光波导的超强双折射效应也有利于实现超小尺寸片上偏振调控器件,包括起偏器、偏振分束器
20、、偏振旋转器,可用于是实现线偏光的重要元件,一般用于光隔离器、光调制器、量子光学系统芯片等。,概述,起偏器(Polarizer):获得偏振光的器件称为起偏器,是实现线偏光的重要元件,一般可利用光波导中模场、本征损耗或者截止条件的偏振相关性来实现。偏振旋转器(Polarization Rotator,PR):同样是偏振调制系统的关键器件,用于旋转光束的线偏振偏振方向,配合偏振分光棱镜使用,通过控制光束的偏振方向以达到控制光从指定光路通过的功能。其实现原理通常是基于在非对称结构中混杂模式的干涉或者渐变演化的机制,具体结构一般可采用具有弯曲、倾斜侧壁或者缺角等特殊结构的光波导。偏振分束器(Polar
21、ization Beam Splitter,PBS):用于将入射非偏振光分成两束偏振态正交的偏振光,两束出射的偏振光与入射光相互平行。O光沿着原光路出射,没有位移,E光会沿着光轴方向走离,但是出射时仍然与入射光平行。偏振分束器也可以反过来用于将两束正交偏振态的偏振光合束。,硅光器件:探测器,概述,光电探测器是一种能够将光辐射转换成电量的一个器件,利用被照射材料由于辐射的关系电导率发生改变的物理特点对光波进行探测。光电探测器性能的基本参数主要包括决定器件灵敏度的探测噪声(暗电流)、决定器件速率的电容、以及代表器件将光转换为电的能力的量子效率与光谱响应等。,目前的主要挑战是如何提高探测灵敏度,因为
22、硅光通信的首要问题是降低能耗,一是降低每个光电设备的功耗和芯片上的传播损耗,二是尽可能降低光源的输出光功率,这都需要提高探测器的灵敏度。目前光纤通信系统中商用通信波段探测器普遍使用III-V族材料,价格昂贵,热学机械性能差。硅基IV族材料探测器与Si-CMOS工艺兼容性好,成本低廉,并且易于与硅基波导器件集成,因而开展基于IV族材料的硅基探测器具有非常重要的应用价值。为了提高灵敏度,硅光电探测器发展出许多结构,包括硅APD光电探测器(Avalanche Photo-Diode)、SACM探测器(Separate Absorption Charge Multiplication)、MSM(Met
23、al Semiconductor Metal)光电探测器。,技术现状与挑战,小结,目前光纤通信系统中商用通信波段探测器普遍使用III-V族材料,价格较高,热学机械性能差。硅基IV族材料探测器与Si-CMOS工艺兼容性好,成本低廉,并且易于与硅基波导器件集成,因而开展基于IV族材料的硅基探测器具有非常重要的应用价值。,Pin二极管 APD,硅光器件:波导,概述,光波导是引导光波在其中传播的介质,又称介质光波导。光波导有两大类:一类是集成光波导,包括平面(薄膜)介质光波导和条形介质光波导,它们通常都是光电集成器件(或系统)中的一部分,所以叫作集成光波导;另一类是圆柱形光波导,即光纤。硅基波导是构成
24、光电子器件和器件之间互联的基础。,常用的波导和包层组合包括:硅/空气、硅/二氧化硅、氮化硅/二氧化硅,氮氧化硅/二氧化硅对于高密度集成,硅/二氧化硅的波导结构更具有优势,主要原因在于这种波导的损耗低,且具有较大的芯和包层折射率差(约58%),远远大于常用的单模光纤的1%。常见的硅基波导结构有条形波导、脊形波导、单沟槽波导以及光子晶体波导,,技术现状与挑战,小结,在制造过程中波导会有尺寸上的波动,这会对无源波长选择器件的相位精确度造成影响,波导有效折射率改变还将导致器件光谱灵敏度发生无法控制的变化。在最好的控制下,对于先进的193nm深紫外光刻(DUV),观察到的谱线宽度波动大约5nm的顺序,最
25、先进的SOI基板的硅层厚度波动大约1nm。因此,优化制造技术使提升波导尺寸的均匀性是需要解决的主要问题。同时,目前大量的研发工作正在进展中,以解决在一个共同的波导上集成多个组件的需求,并能达到高产量。,目前对于独立的硅光器件,采用不同的波导厚度是最优的方案。而对于集成,领先的晶圆厂采用了220纳米厚的设备层作为电路开发的标准。在短期内,需要进一步研究最优的厚度以用于标准化。长远来看,达到需要的电路性能需要协整(co-integration)有不同硅厚度的多种波导结构。,集成芯片,由于高度集成的芯片涉及到激光光源或者探测器,在这方面,锗硅探测器虽然有不错的突破,但业界仍以III-V族异质集成为主
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