刻蚀机操作培训之一硬件介绍课件.ppt
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1、硬件介绍篇,ELEDETM 330 ICP Etching System Operation Training,1,硬件介绍篇ELEDETM 330 1,目录,1.概述2.电气模块 3.工艺模块 3.1 工艺腔室系统 3.2 上电级和射频系统 3.3 下电极系统 3.4 真空系统 3.5 温控系统 3.6 气路系统4.传输模块,2,目录1.概述2,目录,1.概述2.电气模块 3.工艺模块 3.1 工艺腔室系统 3.2 上电级和射频系统 3.3 下电极系统 3.4 真空系统 3.5 温控系统 3.6 气路系统4.传输模块,3,目录1.概述3,设备规格,1.概述,4,整机标配1PM+1TM+1CM
2、设备占地(长宽高)2810,设备规格,1.概述,5,气路系统Cl2 200sccmBCl3300sccmSF6,外观结构,1.概述,6,外观结构1.概述6,系统组成,操作界面,ELEDE330 ICP刻蚀机,GasBox,干泵,电源柜,1.概述,CHILLER,7,系统组成操作界面ELEDE330 ICP刻蚀机GasBox干,目录,1.概述2.电气模块 3.工艺模块 3.1 工艺腔室系统 3.2 上电级和射频系统 3.3 下电极系统 3.4 真空系统 3.5 温控系统 3.6 气路系统4.传输模块,8,目录1.概述8,电气模块构成,集簇控制系统控制盒电源系统 下位机上位机显示器触摸屏触摸笔键鼠
3、键盘(带触摸板),2.电气模块,9,电气模块构成 集簇控制系统2.电气模块9,电源柜,输入电源:380VAC/3Phase,2.电气模块,DP,10,电源柜输入电源:380VAC/3Phase2.电气模块D,整机电源系统,整机交流部分,整机直流部分,2.电气模块,11,整机电源系统整机交流部分整机直流部分2.电气模块11,PM交流系统,2.电气模块,12,PM交流系统2.电气模块12,PM直流系统,PM直流分配:1.直流模块选型:模块一:一个+24V 400W;模块二:+15V 100W*2,+24V 200W。,2.电气模块,13,PM直流系统PM直流分配:2.电气模块13,控制盒,工艺模块
4、控制与传输模块控制基于DeviceNet网络的控制系统更快的响应速度,强大的功能更高的可靠性与稳定性附图是传输模块,工艺模块类似控制系统划分DeviceNet总线耦合器 外部I/O信号收集互锁电路板直流电源分配端子,互锁电路板,外部I/O信号收集,DeviceNet 总线耦合器,直流电源分配端子,2.电气模块,14,控制盒工艺模块控制与传输模块控制互锁电路板外部I/O信号收集,目录,1.概述2.电气模块 3.工艺模块 3.1 工艺腔室系统 3.2 上电级和射频系统 3.3 下电极系统 3.4 真空系统 3.5 温控系统 3.6 气路系统4.传输模块,15,目录1.概述15,工艺模块,(1)上电
5、级系统(2)反应腔系统(3)下电极系统(4)真空系统以及温控系统和气路系统,(1),(2),(3),(4),3.工艺模块,16,工艺模块(1)上电级系统(1)(2)(3)(4)3.工艺,腔室结构,侧下抽气+中央进气方式-实现优秀气流均匀性和抽气能力,腔室对称设计-实现高密度等离子体和刻蚀均匀性 腔室特殊防腐处理-优良的耐化学和耐等离子腐蚀,3.工艺模块,17,腔室结构 侧下抽气+中央进气方式 腔室对称设计3.工艺模块,腔室结构,气流仿真指导设计,对气体流速和压力进行模拟仿真。,模型,仿真结果,3.工艺模块,18,腔室结构气流仿真指导设计,对气体流速和压力进行模拟仿真。模型,腔室组件设计,石英窗
6、-减少颗粒污染,调整支架-可以有效调整离子鞘层;-改变气体流速和分布,带有屏蔽的中央进气喷嘴-实现高功率有效放电,Dupont Viton 密封圈-优良的耐化学和耐等离子腐蚀,3.工艺模块,19,腔室组件设计 石英窗 调整支架 带有屏蔽的中央进气喷嘴 Du,目录,1.概述2.电气模块 3.工艺模块 3.1 工艺腔室系统 3.2 上电级和射频系统 3.3 下电极系统 3.4 真空系统 3.5 温控系统 3.6 气路系统4.传输模块,20,目录1.概述20,特性和优点石英喷嘴抗等离子体耐腐蚀内壁粗糙度控制稳定气流减少颗粒污染喷嘴出口均匀气体分布稳定的气流,均匀气体分布,稳定的气流,3.工艺模块,进
7、气喷嘴,21,特性和优点均匀气体分布稳定的气流3.工艺模块进气喷嘴21,高品质石英窗,易于清洗和维护 减少颗粒污染,3.工艺模块,石英窗,22,高品质石英窗 易于清洗和维护3.工艺模块石英窗22,射频系统组成,3.工艺模块,上电级,下电级,反应腔,23,射频系统组成3.工艺模块上电级下电级反应腔23,射频系统线圈,低电子温度、高功率和压力-减少等离子损伤,高离子密度和宽工艺窗口-增强等离子密度和刻蚀速率,中心对称-提供刻蚀均匀性 镀金镀银-增强线圈导电,3.工艺模块,24,射频系统线圈 低电子温度、高功率和压力 高离子密度和宽工艺,目录,1.概述2.电气模块 3.工艺模块 3.1 工艺腔室系统
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