图解芯片制作工艺流程图ppt课件.ppt
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1、1,2,3,INTEL 图解芯片制作工艺流程,共九个步骤,4,5,沙子:硅是地壳内第二丰富的元素,而脱氧后的沙子(尤其是石英)最多包含25的硅元素,以二氧化硅(SiO2)的形式存在,这也是半导体制造产业的基础。,6,7,硅熔炼:12英寸/300毫米晶圆级,下同。通过多步净化得到可用于半导体制造质量的硅,学名电子级硅(EGS),平均每一百万个硅原子中最多只有一个杂质原子。此图展示了是如何通过硅净化熔炼得到大晶体的,最后得到的就是硅锭(Ingot)。,8,单晶硅锭:整体基本呈圆柱形,重约100千克,硅纯度99.9999。,9,10,处理晶圆的机器,11,硅锭切割:横向切割成圆形的单个硅片,也就是我
2、们常说的晶圆(Wafer)。顺便说,这下知道为什么晶圆都是圆形的了吧?,12,晶圆:切割出的晶圆经过抛光后变得几乎完美无瑕,表面甚至可以当镜子。事实上,Intel自己并不生产这种晶圆,而是从第三方半导体企业那里直接购买成品,然后利用自己的生产线进一步加工,比如现在主流的45nm HKMG(高K金属栅极)。值得一提的是,Intel公司创立之初使用的晶圆尺寸只有2英寸/50毫米。,13,芯片加工无尘车间,14,15,光刻胶(Photo Resist):图中蓝色部分就是在晶圆旋转过程中浇上去的光刻胶液体,类似制作传统胶片的那种。晶圆旋转可以让光刻胶铺的非常薄、非常平。,16,17,光刻:光刻胶层随后
3、透过掩模(Mask)被曝光在紫外线(UV)之下,变得可溶,期间发生的化学反应类似按下机械相机快门那一刻胶片的变化。掩模上印着预先设计好的电路图案,紫外线透过它照在光刻胶层上,就会形成微处理器的每一层电路图案。一般来说,在晶圆上得到的电路图案是掩模上图案的四分之一。,18,光刻:由此进入50-200纳米尺寸的晶体管级别。一块晶圆上可以切割出数百个处理器,不过从这里开始把视野缩小到其中一个上,展示如何制作晶体管等部件。晶体管相当于开关,控制着电流的方向。现在的晶体管已经如此之小,一个针头上就能放下大约3000万个。,19,溶解光刻胶:光刻过程中曝光在紫外线下的光刻胶被溶解掉,清除后留下的图案和掩模
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