MOS场效应晶体管的结构工作原理ppt课件.ppt
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1、场效应晶体管有二种结构形式: 1.绝缘栅型场效应晶体管 又分增强型和耗尽型二类 2.结型场效应晶体管-只有耗尽型 场效应晶体管在集成电路中被广泛使用,绝缘栅场效应晶体管(MOSFET)分为增强型和耗尽型两大类,每类中又有N沟道和P沟道之分。不象双极型晶体管只有NPN和PNP两类,场效应晶体管的种类要多一些。但是它们的工作原理基本相同,所以下面以增强型N沟道场效应晶体管为例来加以说明。,4.1 MOS场效应晶体管的结构、工作原理,N沟道增强型MOSFET 的结构示意图和符号见图 4.1。其中: D(Drain)为漏极,相当c; G(Gate)为栅极,相当b; S(Source)为源极,相当e。
2、图4.1 N沟道增强型 MOSFET结构示意图(动画),绝缘栅型场效应三极管MOSFET( Metal Oxide Semiconductor FET)。分为 增强型 N沟道、P沟道 耗尽型 N沟道、P沟道,1 N沟道增强型MOSFET的结构,取一块P型半导体作为衬底,用B表示。,用氧化工艺生成一层SiO2 薄膜绝缘层。,然后用光刻工艺腐蚀出两个孔。,扩散两个高掺杂的N型区。从而形成两个PN结。(绿色部分),从N型区引出电极,一个是漏极D,一个是源极S。,在源极和漏极之间的绝缘层上镀一层金属铝作为栅极G。,N沟道增强型MOSFET的符号如左图所示。左面的一个衬底在内部与源极相连,右面的一个没有
3、连接,使用时需要在外部连接。,动画2-3,2 N沟道增强型MOSFET的工作原理,对N沟道增强型MOS场效应三极管的工作原理,分两个方面进行讨论,一是栅源电压UGS对沟道会产生影响,二是漏源电压UDS也会对沟道产生影响,从而对输出电流,即漏极电流ID产生影响。,1栅源电压UGS的控制作用,先令漏源电压UDS=0,加入栅源电压UGS以后并不断增加。,UGS带给栅极正电荷,会将正对SiO2层的表面下的衬底中的空穴推走,从而形成一层负离子层,即耗尽层,用绿色的区域表示。,同时会在栅极下的表层感生一定的电子电荷,若电子数量较多,从而在漏源之间可形成导电沟道。,沟道中的电子和P型衬底的多子导电性质相反,
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