半导体器件物理ppt课件一.ppt
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1、第 1 章,半导体物理基础,1.3 半导体中的平衡与非平衡载流子1.4 半导体中载流子的输运现象 习题, 非平衡载流子的产生和复合载流子的漂移运动和扩散运动,关于能带图,电子能量,从下往上为升高的方向;空穴能量,从上往下为升高的方向;电子和空穴可以看作是两种所带电荷性质相反,电荷数量相同,质量相当的粒子;施放电子的过程可以看作俘获空穴的过程;施放空穴的过程也可以看作俘获电子的过程。,1.2 半导体的能带与杂质能级,有效杂质浓度,经过补偿之后,半导体中的净杂质浓度,当ND NA时,则(ND-NA)为有效施主浓度;当NA ND时,则(NA-ND)为有效受主浓度。,利用杂质补偿的作用,就可以根据需要
2、用扩散或离子注入等方法来改变半导体中某一区域的导电类型,以制备各种器件。,杂质的补偿作用,施主和受主杂质之间有相互抵消的作用,深能级杂质,非、族元素掺入硅、锗中也会在禁带中引入能级。非、族元素产生的能级有以下两个特点:(1)施主能级距离导带底较远,受主能级距离价带顶也较远。称为深能级,相应的杂质称为深能级杂质;(2)这些深能级杂质能产生多次电离,每一次电离相应地有一个能级。因此,这些杂质在硅、锗的禁带中往往引入若干个能级。而且,有的杂质既能引入施主能级,又能引入受主能级。,金在锗中一共有Au+、Au0、Au-、Au=、Au五个荷电状态,相应地存在着ED、EA1、EA2、EA3四个孤立能级,它们
3、都是深能级。,深能级杂质,一般情况下在半导体中的含量极少,而且能级较深,它们对半导体中的导电电子浓度、导电空穴浓度和导电类型的影响没有浅能级杂质明显,但对于载流子的复合作用比浅能级杂质强,故这些杂质也称为复合中心,它们引入的能级就称为复合中心能级。金是一种很典型的复合中心,在制造高速开关器件时,常有意地掺入金以提高器件的速度。,载流子,参与导电的电子和空穴统称为半导体的载流子。,载流子的产生,本征激发 电子从价带跃迁到导带,形成导带电子和价带空穴杂质电离 当电子从施主能级跃迁到导带时产生导带电子; 当电子从价带激发到受主能级时产生价带空穴,1.3 半导体中的平衡与非平衡载流子,载流子的复合,在
4、导电电子和空穴产生的同时,还存在与之相反的过程,即电子也可以从高能量的量子态跃迁到低能量的量子态,并向晶格放出一定的能量。,在一定温度下,载流子产生和复合的过程建立起动态平衡,即单位时间内产生的电子-空穴对数等于复合掉的电子-空穴对数,称为热平衡状态。 这时,半导体中的 导电电子浓度和空穴浓度都保持一个稳定的数值。处于热平衡状态下的导电电子和空穴称为热平衡载流子。,热平衡状态,实践表明,半导体的导电性与温度密切相关。实际上,这主要是由于半导体中的载流子浓度随温度剧烈变化所造成的。 所以,要深入了解半导体的导电性,必须研究半导体中载流子浓度随温度变化的规律。 因此,解决如何计算一定温度下,半导体
5、中热平衡载流子浓度的问题成了本节的中心问题。,能量在EE+dE范围内的电子数(统计方法),电子填充能级E的几率,N(E) 单位体积晶体中在能量E处的电子能级密度,能量为E的状态密度,能量无限小量,1 、导带电子浓度与价带空穴浓度,能量为E的电子状态密度,EC 导带底,h 普朗克常数,mn* 电子的有效质量,能量为E的空穴状态密度,mp* 空穴的有效质量EV 价带顶,费米-狄拉克分布函数,能量为E的一个量子态被一个电子占据的几率,E 电子能量 k0 玻耳兹曼常数 T 热力学温度EF 费米能级 常数,大多数情况下,它的数值在半导体能带的禁带范围内,和温度、半导体材料的导电类型、杂质的含量以及能量零
6、点的选取有关。只要知道了EF的数值,在一定温度下,电子在各量子态上的统计分布就完全确定了。,费米-狄拉克分布函数的特性,当T=0K时,若EEF,则f(E)=0,绝对零度时,费米能级EF可看成量子态是否被电子占据的一个界限。,当T0K时,若E1/2若E= EF,则f(E)=1/2若E EF,则f(E)1/2,当系统的温度高于绝对零度时,如果量子态的能量比费米能级低,则该量子态被电子占据的几率大于百分之五十;若量子态的能量比费米能级高,则该量子态被电子占据的几率小于百分之五十。因此,费米能级是量子态基本上被电子占据或基本上是空穴的一个标志。,导带电子浓度,能量在EE+dE范围内的导带电子浓度,导带
7、范围内积分,就可以得到导带电子浓度n0。积分上限扩展到,(导带电子主要集中在导带底附近,在导带顶或能量更高的区域,电子的分布几率已减小到接近于零)。,常温时k0T=0.026eV,Eg在1 eV 左右,EF在禁带中,所以E-EF远大于k0T,导带电子浓度,导带的有效能级密度,式(1-6),价带空穴浓度(同理),价带的有效能级密度,式(1-7),n0、p0和EF 的关系,导带中电子浓度n0和价带中空穴浓度p0随着温度T和费米能级EF的不同而变化。,在一定温度下,由于半导体中所含杂质的类型和数量的不同,电子浓度n0及空穴浓度p0也将随之变化。在温度一定时,NC和NV是常数,且它们的值很接近,公式中
8、的指数因子是造成n0和p0差别很大的主要原因。,n0、p0和EF 的关系,本征半导体(一块没有杂质和缺陷的半导体),n0=p0,费米能级大致在禁带的中央; N型半导体 n0p0,费米能级比较靠近导带; P型半导体 p0n0,费米能级比较靠近价带; 掺杂浓度越高,费米能级离导带或价带越近。,当半导体的温度大于绝对零度时,就有电子从价带激发到导带去,同时价带中产生空穴,这就是本征激发。由于电子和空穴成对出现,导带中的电子浓度应等于价带中的空穴浓度,n0=p0,式(1-8),将式(1-6)、(1-7)代入(1-8),可以求得本征半导体的费米能级EF,并用符号Ei表示,称为本征费米能级,式(1-9),
9、、本征载流子浓度与本征费米能级,式(1-9),等式右边第二项近似为零,可忽略,所以本征半导体的费米能级Ei基本上在禁带中线处。,将式(1-9)分别代入式(1-6)、(1-7),可得本征半导体载流子浓度ni,式(1-11),式(1-11),一定的半导体材料,其本征载流子浓度ni随温度上升而迅速增加; 不同的半导体材料在同一温度下,禁带宽度越大,本征载流子浓度ni就越小。,由(1-6)(1-7)得载流子浓度乘积,并与(1-11)比较,可得,n0p0=ni2,式(1-12),在一定温度下,任何非简并半导体(电子或空穴的浓度分别远低于导带或价带的有效能级密度)的热平衡载流子浓度的乘积n0p0等于该温度
10、下的本征半导体载流子浓度ni的平方,与所含杂质无关。 式(1-12)不仅适用于本征半导体,而且也适用于非简并的杂质半导体材料。,n0p0=ni2,式(1-12),该式对对非本征半导体同样成立,称为质量作用定律。,表1-1 300K下锗、硅、砷化镓的本征载流子浓度,、杂质半导体的载流子浓度,一般来说,在室温下所有的杂质都已电离,一个杂质原子可以提供一个载流子;假设掺入半导体中的杂质浓度远大于本征激发的载流子浓度 。,N型半导体,P型半导体,(ND为施主杂质浓度),(NA为受主杂质浓度),N型半导体中,电子为多数载流子(简称多子),空穴为少数载流子(简称少子);P型半导体中,空穴为多数载流子,电子
11、为少数载流子。,式(1-12),n0p0=ni2,由式(1-12),可以确定少数载流子的浓度,N型半导体,P型半导体,由于ND(或NA)远大于ni,因此在杂质半导体中少数载流子比本征半导体的载流子浓度ni小得多。,本征激发时,式(1-6),式(1-6)可改写如下,式,式代入式(1-6)可得,式,当一块半导体中同时掺入P型杂质和N型杂质时,考虑室温下,杂质全部电离,以及杂质的补偿作用,载流子浓度为|ND-NA| 。,多子浓度计算,少子浓度计算,N型半导体,P型半导体,对于杂质浓度一定的半导体,随着温度的升高,载流子则是从以杂质电离为主要来源过渡到以本征激发为主要来源的过程。相应地,费米能级则从位
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