第2章场效应管及其放大电路课件.ppt
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1、 1.4 场效应管(Field Effect Transistor),场效应管与晶体管三极管(晶体管) 的区别,1. 晶体管是电流控制元件;场效应管是电压控制元件。2. 晶体管参与导电的是电子空穴,因此称其为双极型器件; 场效应管参与导电的只有一种载流子, 因此称其为单极型器件。3. 晶体管的输入电阻较低,一般102104; 场效应管的输入电阻高,可达10710124. 噪声低、热稳定性好、抗辐射能力强、易集成。,N沟道,P沟道,增强型,耗尽型,N沟道,P沟道,N沟道,P沟道,(耗尽型),场效应管分类:,Junction type,Insulated gate type,Depletion t
2、ype,enhancement,1、结型场效应管(JFET)结构,G,S,D,导电沟道,源极,用S或s表示source,N型导电沟道,漏极,用D或d表示drain,1.4.1 结型场效应管,栅极,用G或g表示gate,结型场效应管(JFET)符号, VGS对沟道的控制作用(VDS=0)等宽,当VGS0时PN结反偏,当沟道夹断时,ID减小至0,此时对应的栅源电压VGS称为夹断电压VGS(off)。,对于N沟道的JFET, VGS(off) 0。,耗尽层加厚,沟道变窄,VGS继续减小,沟道继续变窄, ID继续变小。,当VGS=0时,沟道最宽,沟道电阻最小。,沟道电阻变大,ID变小,根据其结构,它只
3、能工作在反偏条件下,N沟道管加负栅源电压, P沟道管加正栅源电压。,2、结型场效应管(JFET)的工作原理,当VGS=C时,VDS ID ,G、D间PN结的反向电压增加,使靠近漏极处的耗尽层加宽,沟道变窄,从上至下呈楔形分布。,当VDS增加到使VGD= VGS(off)时,在紧靠漏极处出现预夹断。,此时VDS ,夹断区延长,沟道电阻 ,ID基本不变, VDS对沟道的控制作用,沟道中只有一种类型的多数载流子参与导电,所以场效应管也称为单极型管。,JFET是电压控制电流器件,iD受vGS控制,预夹断前iD与vDS呈近似线性关系;预夹断后,iD趋于饱和。,JFET栅极与沟道间的PN结是反向偏置的,因
4、此iG0,输入电阻很高。,JFET是利用PN结反向电压对耗尽层厚度的控制,来改变导电沟道的宽窄,从而控制漏极电流的大小。,综上分析可知,(2)转移特性 transfer characteristics,VP,(1)输出特性output characteristics,3、结型场效应管(JFET)的特性曲线及参数,夹断区,variable resistance region,pinch off region,constant current region,结型场效应管,N沟道耗尽型,P沟道耗尽型,P49 图1.4.13_注意方向区别,1. 栅源极间的电阻虽然可达107以上,但在某些场合仍嫌不够高
5、。,3. 栅源极间的PN结加正向电压时,将出现较大的栅极电流。,绝缘栅场效应管可以很好地解决这些问题。,2. 在高温下,PN结的反向电流增大,栅源极间的电阻会显著下降。,结型场效应管的缺点:,MOS场效应管,1.4.2 绝缘栅场效应管,一、N沟道增强型MOS场效应管结构,漏极D,源极S,绝缘栅极G,衬底B,电极金属Metal绝缘层氧化物Oxide基体半导体Semiconductor因此称之为MOS管,增强型MOS场效应管,当VGS= UGS(th)时, 在P型衬底表面形成一层电子层,形成N型导电沟道,在VDS的作用下形成ID。,当VGS=0V时,漏源之间相当两个背靠背的PN结,无论VDS之间加
6、什么电压都不会在D、S间形成电流ID,即ID0.,当VGS UGS(th)时, 沟道加厚,沟道电阻减少,在相同VDS的作用下,iD将进一步增加。,开始时无导电沟道,当在VGSUth时才形成沟道,这种类型的管子称为增强型MOS管,MOSFET是利用栅源电压的大小,来改变半导体表面感生电荷的多少,从而控制漏极电流的大小。,二、N沟道增强型MOS场效应管工作原理,漏源电压VDS对漏极电流ID的控制作用,当VGS UGS(th) ,且固定为某一值时,来分析漏源电压VDS的不同变化对导电沟道和漏极电流ID的影响。,VDS=VDGVGS =VGDVGS VGD=VGSVDS,当VDS为0或较小时,相当 V
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- 场效应 及其 放大 电路 课件
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