光功能高分子材料ppt课件.ppt
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1、第五章 光功能高分子材料,1954年,美国柯达公司的Minsk等人开发出光功能高分子聚乙烯醇肉桂酸酯,并成功应用于印刷制版,应用领域已从电子、印刷、精细化工等领域扩大到塑料、纤维、医疗、生化和农业等方面,发展之势方兴未艾。,概述,光敏涂料,光致抗蚀剂,光致变色高分子材料,主要内容,光导电高分子材料,5.1 概述,光功能高分子:也称感光性高分子,指在吸收了光能后,能在分子内或分子间产生化学、物理变化的一类功能高分子材料。这种变化发生后,材料将输出其特有的功能。,1、光功能高分子材料及其分类,按作用机理,光物理材料光化学材料,光导电材料:光电转换材料光能储存材料光记录材料光致变色材料光致抗蚀材料,
2、光检测元件、光电子器件、静电复印、激光打印,聚合物型光电池,按其输出功能,感光性高分子包括,研究最成熟,最有实用价值,包括光刻胶、光固化粘合剂、感光油墨、感光涂料,2、光化学反应原理,光是一种电磁波,在一定波长和频率范围内,它能引起人们的视觉,这部分光称为可见光。广义的光还包括不能为人的肉眼所看见的微波、红外线、紫外线、X 射线和射线等。,光具有波粒二相性。微粒性:光有量子化的能量,不连续波动性:有干涉、衍射和偏振等现象,具有波长和频率,光化学:研究电子激发态的原子、分子的 结构及其物理化学性质的科学。光化学反应:物质由于光的作用引起的化 学反应。,Grotthus-Draper定律:只有被分
3、子吸收的 光才可以引起光化学变化。Stark-Einstein定律:一个分子在吸收一个 光子后即生成电子激发态。,激发态的衰减:一个激发到较高能态的分子是不稳定的,除了发生化学反应外,它还将竭力尽快采取不同的方式自动地放出能量,回到基态。,(a) 电子状态之间的非辐射转变,放出热能;(b) 电子状态之间辐射转变,放出荧光或磷光;(c) 分子之间的能量传递。(d) 化学反应。,光化学反应过程:1. 激发过程:分子吸收光能,电子从基 态向高能级跃迁,成为激发态。2. 化学反应:激发态分子向其它分子转移能量或产生各种活性中间体而发生化学反应。,3、光化学反应,光聚合与光交联 光降解和异构化,分子量变
4、大,溶解度降低,分子量降低,溶解度增大,(1)光聚合,与普通化学法引发的聚合反应相比:引发聚合的活性种的产生方式不同。活性种是由光化学反应产生。光聚合只有在链引发阶段需要吸收光能,活化能低,易于低温聚合。 可获得不含引发剂残基的纯的高分子。 量子效率高。吸收一个光子导致大量单体分子聚合为大分子,能发生光化学反应的条件,聚合体系中必须有一个组分能吸收某一波长范围的光能 吸收光能的分子能进一步分解或与其它分子相互作用而生成初级活性种 过程中所生成的大分子的化学键应是能经受光辐射的关键在于:选择适当能量的光辐射。,光引发自由基聚合三种方式:,光直接激发单体或激发带有发色团的聚合物分子而产生的反应活性
5、种引发聚合。 光激发分子复合物(大多为电荷转移复合物),由受激发分子复合物解离产生自由基、离子等活性种引发聚合 光活性分子(光引发剂、光敏剂)引发光聚合。由它们断裂产生的活性种或把能量传递给单体或能够形成引发活性种的其它分子,再引发聚合。,苯乙烯、甲基丙烯酸甲酯、烷基乙烯基酮、溴乙烯,(2)光引发剂与光敏剂,吸收适当波长及强度的光能,发生光物理过程至其某一激发态,若该激发态能量大于断裂键所需能量,就能产生初级自由基,光引发剂:,近紫外吸收较高,光裂解产率高,光聚合中应用最广,安息香、安息香烷基醚及安息香醋酸酯,裂解产物: 苯酰基自由基,活性较大,是引发聚合的主要初级自由基 取代苄基自由基,活性
6、低,往往引发二聚,安息香具有强的分子内氢键,长波吸收峰位置与溶剂极性有关:乙醇中, max330nm,环己烷中时, max =345nm。缺点:容易发生暗聚合,储存稳定性下降。,将安息香醚化,破坏分子内氢键,可提高光分解速率。安息香烷基醚断裂是激发单线态裂解,较安息香具有更高的引发聚合反应速率。安息香异丙基醚活性好,使用寿命长。,苯乙酮的衍生物,光敏剂,吸收光能发生光物理过程至它的某一激发态,发生分子内或分子间能量转移,传递至另一分子(单体或引发剂)产生初级自由基。光敏剂本身并不消耗或改变结构,可以看作是光化学反应的催化剂,提高光化学反应的量子效率,常见的光敏剂,米蚩酮(MK),二苯甲酮(BP
7、),当光源条件给定时,光引发剂和光敏剂发生作用的要求,具有合适的吸收光谱(与光源匹配否)和消光系数 引发量子效率高 光敏剂、光引发剂及其断裂产物不参与链转移和链终止反应 。 光引发剂和光敏剂应有一定的热稳定性。与反应体系互溶,无毒,无气味以及不使反应产物发黄等特性。,(3)光交联,原料:线形高分子或线形高分子与单体产物:不溶性的网状聚合物应用:光固化油墨、印刷制版、光敏涂料、光致抗蚀剂,交联反应,链聚合非链聚合,含双键,必须加光敏剂,带有不饱和基团的高分子:丙烯酸酯、不饱和聚酯、不饱和聚乙烯醇衍生物、不饱和聚酰胺等 硫醇与烯烃分子。(加聚反应) 饱和高分子。(链转移作用,夺氢或卤原子,产生活性
8、中心,或光解断裂产生自由基)(卤代聚合物、含硫高分子),链聚合,非链聚合,高分子与交联剂(光敏剂重铬酸盐、重氮盐和芳香族叠氮化合物) 带有可以发生光聚合反应官能团的高分子(、不饱和羰基最为常见。)注意:体系中,光敏剂是必需的,5.2 光敏涂料,优点: 固化速度快 不需加热,耗能少 污染少 便于流水线作业缺点: 不适合形状复杂物体的涂层 价格高,光敏涂料,表面涂料:装饰和保护层,光致抗蚀剂:制造印刷电路板,光敏涂料体系的组成:,光敏预聚物 光引发剂和光敏剂 稀释剂 添加剂,光敏预聚物,分子量:1000-5000 分子链中有一个或多个可供进一步聚合的反应性基团 固化速率随预聚物分子量、反应性基团数
9、目和粘度的增加而提高 不饱和聚酯(应用最广)、丙烯酸改性聚氨酯、丙烯酸改性环氧树脂等。,一、光刻工艺,5.3 光致抗蚀剂,光刻胶(photoresist):又称光致抗蚀剂,由感光树脂、光敏剂和溶剂三部分组成的对光敏感的混合液体。,光刻即光刻腐蚀,1、原理光刻工艺是利用感光性树脂材料作为抗蚀涂层。这类感光树脂在光照(主要是紫外光)时,短时间内即能发生化学反应,使得这类材料的溶解性、熔融性或亲和性在曝光后发生明显的变化,利用这些性能在曝光前后发生的明显差异,只要控制光照的区域就可得到所需要的几何图形保护层。,2、光刻工艺过程,光刻过程示意图,1. 光致抗蚀剂层,2. 基材,3. 掩膜,涂光致抗蚀剂
10、,曝光,显影,腐蚀,去胶,按照化学反应原理和显影原理,光致抗蚀剂可分为正性和负性两大类。正性:光照使光致抗蚀剂发生光分解或其他反应负性:光聚合或光交联反应 按曝光光源分类紫外线致抗蚀剂、远紫外线致抗蚀剂、电子束光致抗蚀剂、x射线光致抗蚀剂、离子束光致抗蚀剂。,二、光致抗蚀剂,对光致抗蚀剂的一般要求: 容易形成均匀的薄膜; 对光或射线的灵敏度高; 形成图像的清晰度或分辨率高; 显影时应该除去的部分能迅速的溶解掉; 作为图像的保护膜应具有一定的牢度和强度; 储存稳定性好; 具有与细微光刻要求相适应的化学和物理特征。,三、负性光致抗蚀剂(负性胶),1. 聚乙烯醇肉桂酸酯,光敏剂:N-甲基-2-苯甲酰
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