第三章场效应管g课件.ppt
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1、2 场效应管及其基本放大电路,一、场效应管,二、场效应管放大电路静态工作点的设置方法,三、场效应管放大电路的动态分析,概 述,场效应管是另一种具有正向受控作用的半导体器件。它体积小、工艺简单,器件特性便于控制,是目前制造大规模集成电路的主要有源器件。,场效应管与三极管主要区别:,场效应管输入电阻远大于三极管输入电阻。,场效应管是单极型器件(三极管是双极型器件)。,场效应管分类:,1 MOS场效应管,N沟道MOS管与P沟道MOS管工作原理相似,不同之处仅在于它们形成电流的载流子性质不同,因此导致加在各极上的电压极性相反。,1.1 增强型MOS场效应管,N沟道EMOSFET结构示意图,N沟道EMO
2、S管外部工作条件,VDS 0 (保证栅漏PN结反偏)。,U接电路最低电位或与S极相连(保证源衬PN结反偏)。,VGS 0 (形成导电沟道),N沟道EMOS管工作原理,N沟道EMOSFET沟道形成原理,假设VDS =0,讨论VGS作用,VGS越大,反型层中n 越多,导电能力越强。,VDS对沟道的控制(假设VGS VGS(th) 且保持不变),VDS很小时 VGD VGS 。此时W近似不变,即Ron不变。,由图 VGD = VGS - VDS,因此 VDSID线性 。,若VDS 则VGD 近漏端沟道 Ron增大。,此时 Ron ID 变慢。,当VDS增加到使VGD =VGS(th)时 A点出现预夹
3、断,若VDS 继续A点左移出现夹断区,此时 VAS =VAG +VGS =-VGS(th) +VGS (恒定),若忽略沟道长度调制效应,则近似认为l 不变(即Ron不变)。,因此预夹断后:,VDS ID 基本维持不变。,若考虑沟道长度调制效应,则VDS 沟道长度l 沟道电阻Ron略。,因此 VDS ID略。,由上述分析可描绘出ID随VDS 变化的关系曲线:,曲线形状类似三极管输出特性。,MOS管仅依靠一种载流子(多子)导电,故称单极型器件。,三极管中多子、少子同时参与导电,故称双极型器件。,利用半导体表面的电场效应,通过栅源电压VGS的变化,改变感生电荷的多少,从而改变感生沟道的宽窄,控制漏极
4、电流ID。,MOSFET工作原理:,由于MOS管栅极电流为零,故不讨论输入特性曲线。,共源组态特性曲线:,伏安特性,转移特性与输出特性反映场效应管同一物理过程,它们之间可以相互转换。,NEMOS管输出特性曲线,非饱和区,特点:,ID同时受VGS与VDS的控制。,当VGS为常数时,VDSID近似线性,表现为一种电阻特性;,当VDS为常数时,VGS ID ,表现出一种压控电阻的特性。,沟道预夹断前对应的工作区。,因此,非饱和区又称为可变电阻区。,数学模型:,此时MOS管可看成阻值受VGS控制的线性电阻器:,VDS很小MOS管工作在非饱区时,ID与VDS之间呈线性关系:,其中:W、l 为沟道的宽度和
5、长度。,COX (= / OX)为单位面积的栅极电容量。,注意:非饱和区相当于三极管的饱和区。,饱和区,特点:,ID只受VGS控制,而与VDS近似无关,表现出类似三极管的正向受控作用。,沟道预夹断后对应的工作区。,考虑到沟道长度调制效应,输出特性曲线随VDS的增加略有上翘。,注意:饱和区(又称有源区)对应三极管的放大区。,数学模型:,若考虑沟道长度调制效应,则ID的修正方程:,工作在饱和区时,MOS管的正向受控作用,服从平方律关系式:,其中: 称沟道长度调制系数,其值与l 有关。,通常 =( 0.005 0.03 )V-1,截止区,特点:,相当于MOS管三个电极断开。,沟道未形成时的工作区,条
6、件:,VGS VGS(th),ID=0以下的工作区域。,IG0,ID0,击穿区,VDS增大到一定值时漏衬PN结雪崩击穿 ID剧增。,VDS沟道 l 对于l 较小的MOS管穿通击穿。,NEMOS管转移特性曲线,VGS(th) = 3V,VDS = 5V,转移特性曲线反映VDS为常数时,VGS对ID的控制作用,可由输出特性转换得到。,VDS = 5V,转移特性曲线中,ID =0 时对应的VGS值,即开启电压VGS(th) 。,P沟道EMOS管,N沟道EMOS管与P沟道EMOS管工作原理相似。,即 VDS 0 、VGS 0,外加电压极性相反、电流ID流向相反。,不同之处:,电路符号中的箭头方向相反。
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