第3章:逻辑门电路课件.ppt
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1、同学们好,2022/12/1,数字逻辑电路,2,数字逻辑电路,使用教材,数字电子技术基础,清华大学出版社出版伍时和、吴友宇等编写,主讲:伍时和,2022/12/1,数字逻辑电路,3,数字电子技术基础,第3章 逻辑门电路,3.1 分立元件门电路3.2 TTL集成逻辑门3.3 发射极耦合逻辑门(ECL)3.4 MOS逻辑门3.5 74系列和4000系列逻辑门电路的使用,主要内容 逻辑门电路是实现逻辑函数运算的硬件电路结构,并利用电路的输入和输出电平关系确定电路可以实现何种逻辑运算,通常采用正逻辑赋值,将电路的高电平赋值1,低电平赋值0,并用输入信号表示逻辑运算的自变量,用电路的输出信号表示逻辑函数
2、运算的因变量。 门电路的基本的电路元件是二极管、三极管(单极或双极型)及电阻等。 二极管与门、或门电路,三极管非门电路的工作原理。TTL门电路、CMOS门电路的电路结构和原理,以及使用中的注意事项等。 集电极开路门、传输门、三态输出门等。了解电路的输入特性和输出特性。,2022/12/1,数字逻辑电路,5,3.1 分立元件门电路,3.1.1 二极管开关特性,二极管的V安特性可以用下述指数表达式近似的表示。 ID=IDS(eVd/VT-1) 其中Vd 为二极管(PN结)的外加电压; VT=KT/q=1.3810-23/1.60210-19 ,在T=300 时,VT=25.8mV=26mV,K波尔
3、兹曼常数=1.3810-23 库V, q电子电荷量=1.60210-19 库, T绝对温度=2730C+ t0C。,2022/12/1,数字逻辑电路,6,由二极管的V安特性可以看出,若二极管外加正向电压,且超过二极管的正向开启电压Vth,二极管正向导通,流经二极管的电流较大,其正向电压降维持在0.50.7V之间,若将二极管作为一个开关元件,相当于开关闭合。若二极管外加反向电压,且不超过VBR,或小于Vth的正向电压,流过二极管的电流很小,外加电压基本上等于二极管两端的电压值,此时相当于开关断开。,如果将E改为电路的输入信号电压Vi,而且为高电平VH(比Vth大几倍以上)和低电平VL(小于Vth
4、)的脉冲电压信号,二极管可以当成理想的开关元件,Vi为高电平VH时,二极管导通,Vi为低电平VL时,二极管处于完全截止状态。 二极管从反向截止到正向导通,或者从正向导通到反向截止,其时间是很短的,若工作电压的频率不高,这种转换过程所需要的时间完全可以忽略不计。如果输入信号的频率很高时,脉冲周期到达s,ns级,就得考虑其影响了。,3.1.1 二极管开关特性,2022/12/1,数字逻辑电路,7,2二极管的开关特性 1)二极管的正向导通,二极管从反向截止转为正向导通过程所需要的时间称为正向开通时间。这个时间与反向的恢复时间相比较是很小的。在反向电压的作用下,势垒区变厚,存在一定的电荷积累,这部分积
5、累的电荷为PN结两边的掺杂离子的复合电荷,与正向导通的电荷积累相比要小得多。外加反向电压转为正向电压时,这部分电荷很快被外加的正向电源拉走,使PN结变窄(薄)。正向导通时,PN结的正向电压很小,正向电阻很小,且为多数载流子形成电流,故此电流上升很快,所以正向开通时间很短,与反向恢复时间相比可以忽略不计。,3.1.1 二极管开关特性,2022/12/1,数字逻辑电路,8,2)二极管从正向导通到截止有一个反向恢复过程。,当输入信号电压为高电平VH时,二极管正向导通,P区接输入信号的高电位端,N区接输入信号的低电位端,形成多数载流子的扩散电流。由于VHVDON(二极管正向导通电压降),所以流过二极管
6、的正向电流IP为:,。,3.1.1 二极管开关特性,2022/12/1,数字逻辑电路,9,2)二极管从正向导通到截止有一个反向恢复过程。,当输入信号电压为高电平VH突变为低电平VL(其值为负VH)时,二极管由正向导通突然加上反向电压,理想的情况下ID0,但实际上存在一个恢复过程,开始,反向电流IR为:,式中VD为外加电压突变瞬间二极管PN结的电压降,约为 0.7V。,3.1.1 二极管开关特性,2022/12/1,数字逻辑电路,10,维持IR=VL/R这一过程所用的时间ts称为存储时间,然后才逐步下降到0.1IR 。规定此时才进入反向截止状态。反向电流从IR=VL/R下降到0.1IR 所用的时
7、间称为反向度越时间tr 。tf=ts+tr称为反向恢复时间。反向恢复时间一般在几个纳秒以下,长短与二极管的扩散电容及电阻R的大小有关。,3产生反向恢复过程的原因-电荷存储效应,3.1.1 二极管开关特性,2022/12/1,数字逻辑电路,11,3.1 分立元件门电路,当输入信号电压为高电平VH,P区接输入信号的高电位端,N区接输入信号的低电位端,形成多数载流子的扩散电流二极管正向导通。扩散到P区的自由电子和扩散到N区的空穴这些多数载流子在这两个区域并不是均匀分布的,而是形成靠近PN结附近浓度大,靠外接电极处浓度小的梯度分布。而且势垒区变窄,PN结存在一定的载流子存储。这是因为载流子跨越PN结到
8、达相应电极时需要一定的运动时间。二极管正向导通时,P区和N区的非平衡载流子的积累现象称为电荷存储效应 。,当输入信号电压由高电平VH突变为低电平VL,P区接输入信号的低电位端,N区接输入信号的高电位端,在突变的瞬间,正向时扩散到P区的自由电子和扩散到N区的空穴这些多数载流子形成,多数载流子由于电荷存储效应尚有一部分未达到外部连接电极。电荷存储效应积累非平衡载流子将形成反向漂移电流,即N区积累的空穴向P区漂移,P区积累的自由电子向N区漂移,在这部分积累的电荷消失之前,PN结也来不及变厚;这样PN结基本保留正向导通时基本相同数量级的反向电压降,所以二极管维持反向电流IR=VL/R,直到PN结两边积
9、累非平衡载流子基本消失,这一过程才开始结束;此后信号源向PN结补充空穴(N区一侧)和电子(P区一侧),电流也逐步下降,直到最终二极管截止,整个过程结束。,2022/12/1,数字逻辑电路,12,3.1.2 双极型三极管的开关特性,1. 双极型三极管(Bipolar junction Transistor,BJT)的结构,双极型三极管的基本结构以平面扩散型为主,即在一块单晶半导体上通过扩散掺杂外延扩散掺杂外延再扩散掺杂等工艺先后生产3层NPN型半导体或PNP型半导体,每层引出相应的连接电极,然后封装,就构成一个三极管。三层半导体按N、P、N型先后排布的,称为NPN型三极管; 三层半导体按P、N、
10、P型先后排布的,称为PNP型三极管。掺杂的浓度和每层的厚薄、层间的交界面都不相同,这些均由生产过程中进行严格控制 。,2022/12/1,数字逻辑电路,13,2. 双极型三极管的伏安特性,3.1.2 双极型三极管的开关特性,输入特性:是指基极电流和基极、发射极之间电压的大小关系;输出特性:是指集电极电流和集电极、发射极之间的电压大小关系。,输入特性:形状与二极管的正向特性基本相同。当基极与发射极之间外加电压VBE低于其正向开启电压Vth时,基极电流很小,可以认为接近于0,这种情况下,三极管处于截止工作状态;而当基极与发射极之间外加电压高于其正向开启电压Vth时,三极管的基极电流随VBE的上升而
11、快速上升。而且基极与发射极之间的电压一般不超过0.7V(硅材料管),处于开关工作状态的三极管,这一电压称为导通电压,并用VON表示。若VBE在VthVON之间变化,基极电流的变化量与VBE的变化量具有接近于线性变化的关系,这一范围内,三极管可以工作于放大状态或饱和状态。,2022/12/1,数字逻辑电路,14,2. 双极型三极管的伏安特性输出特性,3.1.2 双极型三极管的开关特性,图中直流负载线是指在直流电源电压的作用下,IC与VCE之间的变化关系。从图中可以看出,输出特性可以分成3个工作区。,2022/12/1,数字逻辑电路,15,3.1.2 双极型三极管的开关特性,2. 双极型三极管的伏
12、安特性输出特性,(1)截止工作区:IB为0以下的工作区,这一区域,IC很小,且等于ICEO,大小在1A以下,VCE接近于电源电压VCC。根据三极管的输入特性,此时VBE应低于其正向开启电压Vth,即就是双极型三极管的发射结外加反向电压(称为反偏)或外加正向电压但小于Vth的状态。而此时由于VCE接近于电源电压VCC,集电极电位高于基极电位(NPN型管),所以“集电结”外加反向电压(称为反偏)状态。(2)放大工作区:IC随IB正比增加的工作区域。在这一工作区,VBE在大于Vth和接近VON之间变化,ICIB,VCE对IC影响很小。三极管的发射结外加电压处于正向(正偏)状态。而此时由于VCE小于电
13、源电压VCC,但集电极电位还是高于基极电位(NPN型管),所以“集电结”外加反向电压(反偏)状态。,2022/12/1,数字逻辑电路,16,3.1.2 双极型三极管的开关特性,2. 双极型三极管的伏安特性输出特性,(3)饱和工作区:IC不随IB正比增加的工作区域。在这一工作区,VBE在大于或等于VON之间的范围变化,ICIB,而是等于集电极的饱和电流ICS,ICS(VCCVCES)/RC,VCE较小,并称其为饱和电压降VCES,且对IC影响较大。此时,三极管的发射结外加电压处于正向(正偏)状态VBE=0.7V。而此时由于VCE很小,在0.3V以下(硅管),使集电极电位还是低于基极电位(NPN型
14、管),所以“集电结”外加正向电压(正偏)状态。 处于开关工作状态的双极型三极管,稳定时,将工作于截止状态,或者饱和状态;只是在从饱和状态突变到截止状态的过程中,或从截止状态突变到饱和状态的过程中,中间一定会经历一段放大工作状态变化过程 。,2022/12/1,数字逻辑电路,17,3.1.2 双极型三极管的开关特性,2. 双极型三极管的伏安特性输出特性,双极型三极管的三种工作状态及其特点。,2022/12/1,数字逻辑电路,18,3.1.2 双极型三极管的开关特性,必定使VBE Vth,根据三极管的输入特性曲线,可以确定IB0,此时集电极电流IC很小,IC0,所以集电极外接电阻RC两端的电压也接
15、近于0,双极型三极管集电极与发射极之间连接的开关作用相当于有触点开关的“断开”。 输出电压:Vo=VCE=VCC,3. 双极型三极管的伏安特性脉冲工作特点,输入电压的低电平低于双极型三极管的开启电压时,2022/12/1,数字逻辑电路,19,3.1.2 双极型三极管的开关特性,3. 双极型三极管的伏安特性脉冲工作特点,输入信号电压Vi为高电平时,VBEVON=0.7V(硅管),VCES为三极管集电极与发射极之间的饱和电压。,三极管集电极饱和电流,若不成立 ,晶体管工作于放大状态,而集电极电流为,晶体管处于饱和工作状态Vo=VCES=0.3V,2022/12/1,数字逻辑电路,20,3.1.2
16、双极型三极管的开关特性,4. 双极型三极管的脉冲工作波形和开关时间,1)脉冲工作波形,在理想的情况下电路的输出电压波形也是理想的脉冲电压信号。但是由于三极管内部电流和电压的建立不可能即时完成,故此输出电压的波形与输入电压波形不是同步地发生变化,而是落后于输入电压的波形。,2022/12/1,数字逻辑电路,21,3.1.2 双极型三极管的开关特性,4. 双极型三极管的脉冲工作波形和开关时间,2)开关时间,输入电压Vi从低电平ViL跳变为高电平ViH时,三极管从截止工作状态变为饱和工作状态,集电极电流的增加要靠从发射极发出的电子流进行传载,电子流经历的路程是发射结、基区、集电结等,电流上升需要经历
17、一段建立、增加、到饱和所需的时间,这段时间称为三极管的开通时间ton,ton=td+tr的时间 。,2022/12/1,数字逻辑电路,22,3.1.2 双极型三极管的开关特性,4. 双极型三极管的脉冲工作波形和开关时间,当输入电压Vi从高电平ViH跳变为低电平ViL时,三极管从饱和工作状态变为截止工作状态,集电极电流从饱和电流下降到接近于0,需要等待将积累在基区、发射结和集电结的电荷全部消散这一段过程所需的时间,ts和tf的时间;这段时间称为关闭时间toff,2)开关时间,2022/12/1,数字逻辑电路,23,3.1.2 双极型三极管的开关特性,4. 双极型三极管的脉冲工作波形和开关时间,延
18、迟时间td 从+ViH加入开始到集电极电流上升到0.1ICS所需的时间。上升时间tr 集电极电流从0.1ICS上升到0.9ICS所需的时间。存储时间ts 从输入电压下降ViL开始,到集电极电流下降到0.9ICS所需的时间。下降时间tf 集电极电流从0.9ICS下降到0.1ICS到所需的时间。开通时间ton=td+tr 从ViH加入开,始到集电极电流上升到0.9ICS所需的时间。 关闭时间toff=ts+tf 从输入电压下降到ViL开始,到集电极电流下降到0.1ICS所需的时间。这一时间反映晶体管从导通到截止所用的时间。这些时间:一般在几十到几百纳秒之间。,2)开关时间,2022/12/1,数字
19、逻辑电路,24,3.1.3 MOS管的开关特性,MOS管的全称为金属氧化物半导体场效应管:MOSFET管(MetalOxideSemicconductor Type Field Effect Transistor.)是场效应管的一种形式,由于其栅极与漏极、源极之间处于完全绝缘状态,所以其输入电阻将大大提高,可达10111015。所以是一种低功耗的开关器件。目前大规模的数字集成电路,都是采用这种器件构成。,耗尽型:当VGS=0时,导电沟道已经存在相应的足够多的导电粒子,此时,若VDS不为零,Ids也不为零。增强型:当VGS=0时,导电沟道不存在相应的足够多的导电粒子,只要VGS=0,不论VDS为
20、零与否,Ids都接近于零。,MOS管的种类,2022/12/1,数字逻辑电路,25,3.1.3 MOS管的开关特性,在一块低参杂的P型半导体材料为衬底的基础上,利用参杂方法,扩散两个高参杂区(N+型),然后再在其表面生成一层二氧化硅的表面绝缘层,并在这一表面绝缘层及两个区(N+型)的表面安置3个铝引出电极即g(栅极)、d(漏极)、s(源极);同时,在P型衬底引出另外一个电极,作为接公共端“地”之用。,N沟道MOS管的结构,2022/12/1,数字逻辑电路,26,3.1.3 MOS管的开关特性,在一块低参杂的N型半导体材料为衬底的基础上,利用参杂方法,扩散两个高参杂区(P+型),然后再在其表面生
21、成一层二氧化硅的表面绝缘层,并在这一表面绝缘层及两个区(P+型)的表面安置3个铝引出电极即g(栅极)、d(漏极)、s(源极);同时,在N型衬底引出另外一个电极,作为接公共端“地”之用。,P沟道MOS管的结构,2022/12/1,数字逻辑电路,27,3.1.3 MOS管的开关特性,VDS,s,g,d,栅极,漏极,源极,P型衬底,PN耗尽层,N+,N+,(a)N沟道MOSFET管基本工作原理示以图vGS=0时,未形成感应导电沟道iD=0,P型衬底引线,当栅极与源极之间短接(注意衬底与源极也短接在一起)VGS=0时,漏极、源极之间的通道未形成感应导电自由电子层,即连接漏极、源极之间的P型衬底区仍然为
22、低浓度参杂的P型半导体区,这样,漏极、源极与P型衬底区之间形成的两个PN结成为两个二极管的背靠背的连接,不管VDS如何变化,总有一个PN结反向偏置,使IDS基本上为零 。,1. MOS管的结构及工作原理,(1)VGS=0的工作状态,2022/12/1,数字逻辑电路,28,3.1.3 MOS管的开关特性,漏极、源极之间加一正向电压VGS(注意衬底与源极也短接在一起)且VGS0时,漏极、源极之间的通道将形成感应导电沟道,即连接漏极、源极之间的P型衬底区产生感应导电粒子自由电子,这样,漏极、源极与P型衬底区之间的连接形成由自由电子构成的导电通道连接,VDS为正,且不断增加变化时,源极与P型衬底区之间
23、的形成的PN结,处于正向偏置状态;,(2)VGSVT 的工作状态,1. MOS管的结构及工作原理,漏极与P型衬底区之间的形成的PN结,处于反向偏置状态,这样将把导电沟道的自由电子拉入漏极区而形成漏极电流,源极区将不断地向沟道补充被拉走的自由电子而形成源极电流,从而形成Ids。,2022/12/1,数字逻辑电路,29,3.1.3 MOS管的开关特性,若VGS保持一定不变,导电沟道的宽度或载流子浓度也将保持一定,这样VDS从较小向较大变化时,IDS将随VDS的上升而接近于线性的增加,导电沟道的形状也将从方形向锲形变化。,(4)VDS足够大 的工作状态,1. MOS管的结构及工作原理,若VDS足够大
24、,最后形成顶部夹断状态,Ids也达到饱和状态。,(3)VDS较小 的工作状态,2022/12/1,数字逻辑电路,30,3.1.3 MOS管的开关特性,若VGS增大,导电沟道的宽度或载流子浓度也将随之增宽和加大,IDS达到饱和状态的值也将随之而增大,这体现VGS对Ids的控制作用。 规定漏极、源极之间施加不大的VDS,若VGS从零开始增加,刚刚产生较小的IDS时,漏极、源极之间加的电压称为开启电压,用VT表示。MOS管出现顶部夹断的时候: VGD=VGSVDS=VT。 对于P型沟道增强型MOS管,除了栅极、源极之间外加电压VGS ,漏极、源极之间外加VDS应为负值外,其他与N沟道增强型相似。,2
25、022/12/1,数字逻辑电路,31,3.1.3 MOS管的开关特性,2. 特性曲线,I区为截止工作区,在这一工作区,VGS小于开启电压VT,IGS很小接近于0,II区为恒流区,类似于双极型三极管的放大区,VGS大于开启电压VT ,IGS的动态变化量与VGS的动态变化量接近于正比关系,而且受VDS影响很小。,2022/12/1,数字逻辑电路,32,3.1.3 MOS管的开关特性,III区为可变电阻工作区,类似于双极型三极管的饱和工作区,VGS大于开启电压VT,且较高,IGS的动态变化量与VGS的动态变化量不成正比关系,而且随VDS的增加而快速增加。在这一工作区,漏极、源极之间的导通电阻RON受
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