吸附作用与多相催化ppt课件.ppt
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1、第三章 吸附作用与多相催化,固体催化剂的结构基础多相催化的反应步骤吸附等温线金属表面上的化学吸附氧化物表面上的化学吸附分子表面化学,3.1 固体催化剂的结构基础,固体催化剂的表面键合能力,即吸附活化表面反应分子的能力,强烈依赖于表面及其外貌特征关系到体相的物理和化学性质。,3.1.1点阵结构与对称操作,点阵:一组分立、周期相同、无限的点特征:连接任意两点的向量进行平移可使之复原,晶面及其标记:对三维结晶体,由于通过格子点的不同晶面具有不同的取向,格子点的排列也不同,性能也有差异,填充分数:晶胞中原子所占的体积分数,孔洞填充数,(100),(110),(111),面心立方晶格,(100),(11
2、0),(111),体心立方晶格,催化剂载体的结构密堆的立方结构和六方结构,立方晶系,六方晶系,正交晶系,(3-1),(3-2),(3-3),暴露晶面的影响,CO在单晶Pd的不同晶面上的吸附热,体相和表相结构的不完整性,固体中缺陷分类:,1.零维(点)缺陷,a.空位b.填系原子(离子)c.外来原子(离子),2.一维(线)缺陷,3.二维(面)缺陷,a.棱边位错b.螺旋位错,a.反相界面b.剪切面c.低倾角界面d.低扭转角界面e.晶粒界面f.表面,晶体表相与体相的比较:,Cu-Ni合金微晶表面组成随体相组成的变化,1.合金表面组成(图),2.晶体表面结构,晶体表面的原子处于与体相中的原子不同的状态,
3、它的相邻原子没有完全补足,因此它的配位数小于体相中原子的配位数。,共价键固体表面能图,离子键固体表面能图,A,B-,表面存在着力的不平衡,表面原子承受了一个净的内向力。,缩短:表面原子为寻求新的位置,缩短第一层与第二层原子或离子间的距离(层间距),但不影响最邻近的原子数(配位数)或表面原子的旋转对称性。,重构:表面原子不仅改变键角,而且也改变旋转对称性以及最邻近的原子数。,3.分子表面能量的不均匀性,原子水平的固体表面是不均匀的表面能量的不均匀性与力的性质有关,3.2 多相催化的反应步骤,1.反应物分子从气流中向催化剂表面和孔内扩散;2.反应物分子在催化剂内表面吸附;3.吸附的反应物分子在催化
4、剂表面上相互作用或与气体分子作用进行化学反应;4.反应产物自催化剂内表面脱附;5.反应产物在孔内扩散并扩散到反应气流中去,(1)、(5)扩散过程(2)为反应物分子的化学吸附(3)吸附分子的表面反应或转化(4)产物分子的脱附或者解吸,化学动力过程,3.2.1 扩散,分子由流体相向催化剂表面移动是受扩散定律(Fick定律)制约的。,式中扩散速率dn/dt为单位时间扩散通过截面S的分子数,De是有效扩散系数,dc/dx是浓度梯废。 dn/dt可根据分子的扩散类型求得,Fick定律,(3-4),扩散的四种类型,分子间扩散(容积扩散)努森(Knudsen)扩散构型扩散表面扩散,分子间扩散,扩散的阻力来自
5、分子间的碰撞,在大孔(孔径大于100nm)中或气体压力高时的扩散多为分子间扩散,又称为容积扩散。分子扩散系数DB 取决于温度T和总压力PT而与孔径无关。,(3-5),努森(Knudsen)扩散,其阻力来自于分子与孔壁的碰撞,在过渡孔(孔径为100nm一150nm)中或气体压力低时的扩散多属于此种类型。扩散系数DK主要取决于温度T和孔半径rp,(3-6),构型扩散,当分于运动时的直径与孔径相当时,扩散系数受孔径的影响变化很大。孔径小于1.5nm的微孔中的扩散如分子筛孔道内的扩散就属于此类型。分子在这种孔道中的相互作用非常复杂,还可能存在表面迁移作用。这种扩散对催化反应的速率和选择性影响较大,可利
6、用构型扩散的特点来控制反应的选择性,属择形催化。,表面扩散,表面扩散是吸附在催化剂内表面上的分子向着表面浓度降低的方向移动的迁移过程。对于较高温度下进行的气固相催化反应,表面扩散可以不考虑,孔大小对扩散系数的影响,在反应条件下,催化剂颗粒周围由反应物分子、产物分子和稀释剂分子等混合物组分形成一稳定的层流层滞流层。反应物、产物分子通过层流层向催化剂颗粒的外表面的扩散或向其反方向的扩散,称为外扩散。由于在催化剂表面上反应物分子进行反应,反应物分子消失的最快,因而反应物在催化剂表面上的浓度最低。这样就形成了一个向催化剂表面的扩散流,即在颗粒的外表面和滞流层之间形成一浓度梯度。,一、 外扩散与外扩散系
7、数,外扩散系数,通量DE(ch-cs)DE是外扩散系数Ch是均匀气流层中反应物浓度Cs是反应物在催化剂颗粒外表面处的浓度,当反应速率不受流体流速影响时,表明已消除了外扩散的影响,二 、内扩散与内扩散系数,反应物分子到达催化剂颗粒外表面、经反应后尚未转化的部分,就会在外表面与内孔的任一点间出现第二种浓度梯度。穿过这种浓度梯度的过程,就称为内扩散。内扩散系数用DI表示。内扩散较外扩散更复杂,既有容积扩散,又有努森扩散,在分子筛孔道中的内扩散属于构型扩散。,内扩散系数,c是内孔中某定点的反应分子浓度DI是内扩散系数,通量DI(cs-c),为孔隙率,一般取为0.30.8为孔道的形状因子,一般取为34,
8、效率因子(),如果反应物向活性表面扩散速度比较小,致使测定的反应速度低于快速扩散时所能达到的速度,就称之为“扩散控制”。这种扩散作用可能是颗粒内部的(内扩散),也可能是颗粒外面的(外扩散)。在内扩散控制时,人们将测定的反应速率与无扩散控制的本征反应速率之比定义为效率因子()。这个系数小于1。,效率因子的意义,因子定量地表达了催化剂内表面利用的程度。因为内表面是主要的反应表面,反应物分子能到达内表面的不同深度,故内表面各处的反应物浓度不同,反应速率和选择性也就有差异,亦即在相同的体相浓度下,内表面各处是不等效的。,3.2.2 反应物分子的化学吸附,当反应物分子通过扩散到达催化剂活性表面附近时,它
9、们就可能进行化学吸附,并与催化剂活性中心相互作用产生新的化学物种。发生化学吸附的原因是由于位于固体表面的原子具有自由价,这些原子的配位数小于固体内原子的配位数,使得每个表面原子受到一种向内的净作用力,将扩散到其附近的气体分子吸附形成化学键。气体分子以几何和电子效应两个方面寻求与表面适合的几何对称性和电子轨道,以进行化学吸附。,3.2.3 表面反应,在吸附过程中被吸附的反应物形成的原子、离子、自由基或表面络合物,当温度足够高时,它们就在固体表面上获得能量而被活化,在固体表面迁移,随之进行化学反应。这种表面化学反应的进行要求化学吸附不能太强也不能太弱、太强则不利于活性物种的迁移、接触,太弱则会在进
10、行反应之前流失。一般关联催化反应速度与吸附强度的曲线,呈现“火山型”。,3.2.4 产物的脱附,脱附是吸附的逆过程,它和吸附遵从同样的规律。反应产物在表面上吸附不应太强,否则它将会阻碍反应物分子接近表面,使活性中心得不到再生,起着毒害作用。若目的产物是连续几个反应步骤中的中间生成物,则此中间生成物应尽快脱附,以免发生进一步降解。,反应控制区,比较阿累尼乌斯方程相式(3-5)、(3-6),可知温度对反应速度的影响比对扩散速度的影响要大。多相催化反应是扩散过程与化学过程的综合结果。,多孔固体摧化剂上发生气相反应时可能有的动力学区域,反应分为四个区域:(1)在足够低的温度T,反应速度远远低于扩散速度
11、,受化学反应控制,称动力学控制区;(2)随着温度的升高,有效扩散系数缓慢地增加,而本征反应速度常数却呈指数迅速上升,以至整个推动力大部分消耗在孔内扩散,小部分用于推动化学反应,此时反应变为内扩散控制;(3)温度再升高,则反应物刚由流体主体扩散到催化剂外表面就被反应掉,此时反应为外扩散控制;(4)温度更高以致在气相中就能反应,这时反应成为均相反应。在实际生产中,操作条件往往控制在动力学与扩散控制的过渡区,使扩散和表面反应都能顺利地进行。,3.3 吸附等温线,有关吸附的名词简单的Langmuir吸附等温式解离吸附的Langmuir等温式竞争吸附的Langmuir等温式非理想的吸附等温式BET公式,
12、3.3.1 吸附的名词,当气体与固体表面接触时,在固体表面上气体的浓度高于气相浓度,此现象称为吸附现象。当固体表面上的浓度由于吸附作用而由小变大时,这一过程称为吸附过程;反之由大变小的过程称为脱附过程。当吸附过程进行的速度与脱附过程进行的速度相等时,固体表面上气体的浓度恒定,这种状态称为吸附平衡吸附平衡是一个动态平衡,它取决于温度和压力,在等温下进行吸附称为等温吸附,在等压下进行吸附称为等压吸附。能吸附气体的固体物质称为吸附剂;被吸附的气体称为吸附质(或吸附物)。,吸附的名词,达到平衡时的气体吸附量称为平衡吸附量。它是吸附物系(吸附剂和吸附质)的性质、温度和压力的函数。对于给定的物系,在温度恒
13、定和达到平衡的条件下,吸附量与压力的关系称为吸附等温式或称吸附平衡式,绘制成的曲线谓之吸附等温线。,物理吸附,物理吸附是反应物分子靠范德华力吸附在催化剂表面上,它类似蒸气的凝聚和气体的液化。被吸附的分子在吸附前后结构变化不大。物理吸附可以改变反应物在催化剂表面上的浓度,通过浓度的改变影响反应速度,但对反应速率常数基本上没有影响。,化学吸附,化学吸附类似于化学反应,其推动力是化学键力。吸附后,反应物分子与催化剂表面原子之间,形成吸附化学键,组成表面络合物,它与原反应物分子相比,由于吸附键的强烈影响,某个键或某几个键被减弱,而使反应活化能降低很多。,物理吸附与化学吸附的区别,H2在Ni粉上的吸附等
14、压线,三种观点:(1)在低温时是物理吸附,高温时是活化吸附;(2)低温时既有物理吸附又有非活化吸附,高温则是吸收(吸收为吸热);(3)在最小值前的低温侧为非活化吸附,高温侧为活化吸附。,吸附势能曲线,氢在镍表面上的化学吸附,化学吸附类型:,3.3.2 简单的Langmuir吸附等温式,Langmuir吸附等温方程所依据的模型是:吸附剂表面是均匀的吸附分子之间无相互作用吸附是单分子层吸附,每个分子占据一个吸附位一定条件下,吸附与脱附间可以建立动态平衡,Langmuir表达式, 是吸附气体所占据的表面覆盖分率,K为吸附平衡常数,p为气体的分压,=Kp,P较小时,P很高时,=V/Vm,Langmui
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