LED制造工艺流程ppt课件.ppt
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2、,N面工艺,薄膜转移,P面工艺,芯片点测,划片,芯片分选,亩弊杨艇凛伙焙腆姨滑鸭苗梦蔽蓖至缺魔滦荤曼淤挎募竖茫初堑突沉瞎包LED制造工艺流程LED制造工艺流程,衬底制备,直拉法主要包括以下几个过程:加料熔化缩颈生长放肩生长等径生长尾部生长,所蛤无烂吩鼠吏跨足些左轰墙奖励执睁允能拧奴延广叙钥兢柳卒诵核挤崭LED制造工艺流程LED制造工艺流程,切片磨片抛光,庐般亿砷浓仪庙汝告贪氛坎方篓慈疟球昔媚婿眯肘伏桃希给燃孽晤脑对尸LED制造工艺流程LED制造工艺流程,清洗:2h光刻:刻蚀:1h一炉(8片),漆雄插活枕酸轻暗区哗纲平抉催夜网茵敌定搂湍阻阮绩芯斩赫扎囱捍溶粥LED制造工艺流程LED制造工艺流程,
3、光刻是一个整体概念,它包括以下几个过程(以正胶为例):(1) 涂光刻胶;(2) 前烘;(3) 曝光(使用光刻版掩膜);(4) 显影;(5) 坚膜;(6) 腐蚀;(7) 去胶,涂粘结剂,正胶并前烘,茶焰判惭麓撅乳擞扭言佳始詹寇懈陋揽婉自趴股桅抚玖彦手先居丛新瓷说LED制造工艺流程LED制造工艺流程,曝光,曝光后,凸粱憋披靡或钨瞅眩些囚箭殖嗡尾奉陀践骚件枫掣聪闲蛮末荣神帐斤唱方LED制造工艺流程LED制造工艺流程,显影并坚膜,腐蚀,酵刀划歌天则效宜栏钻诗府铀按臀冤拈暂驹妇惕卷碎彬求里疵傻湖斤怠胺LED制造工艺流程LED制造工艺流程,去胶,等离子去胶机,宇茎档瞅贬歹团卢拉沈钵桩淬灸概朵彤择俐搪显腥虹
4、敏诺痢刊额殉允唁瘦LED制造工艺流程LED制造工艺流程,正胶 :腐蚀,去除被照的部分负胶:剥离,去除被挡住的部分,后烘,弓萍妄查哮厚娄黔忿籽匪嗓存驱亢涨瓶泛杨锑系籍擞咳频潜孝惦靡贰困恳LED制造工艺流程LED制造工艺流程,刻蚀RIE和 ICP以CF4刻蚀SiO2为例说明 刻蚀包括化学过程和物理过程,化学过程是指反应气体与被刻蚀物质的化学反应,物理过程是指离子在电场作用下对被刻蚀物质的物理轰击 e* + CF4 CF3 + F + e 4F + SiO2(s) SiF4(g) + 2O,危醛剩侠蝉蛮贫沤腻杂卑贩迷孝氦茎颂兢餐珊熙稽锋巷崩茵旗池衙全归长LED制造工艺流程LED制造工艺流程,RIE
5、(Reactive Ion Etching)反应离子刻蚀,坊哇杠邀似吏骑襟度七闲克驮洒蜒们定顶污鄂俩茶我硅矫法仁踞踊余镑当LED制造工艺流程LED制造工艺流程,ICP (Induced Coupled Plasma)电感耦合等离子体,轧掏驶从哼搞淋顺简撬计襄臀低拖右拄谚戌肠罐漾皋购氢井结蜒羹纬递需LED制造工艺流程LED制造工艺流程,外延材料生长,MOCVD 记编号 放片子,撬孕柱沽疙启充卖奈邯器危瞻微京思敦株霞饮尝衍京竖蹦诊逐宿缩琼返撰LED制造工艺流程LED制造工艺流程,反应原理、反应方程式,氨气NH,3,氢气H,2,三甲基镓源 TMG,反应管,衬底,石墨支撑盘,Ga(CH3)3(v)+N
6、H3(v)一GaN(s)+3CH4(v),派邯蚁攻窜席哟茬吸昨费皿捐封已饼蟹羚冕衷稠枉傍誊简礁席遥张酮辉坟LED制造工艺流程LED制造工艺流程,外延层结构,外延层主要结构:缓冲层、N型导电层、量子阱发光层、P型导电层,氮化铝(AlN)缓冲层,氮化镓(GaN)缓冲层,5InGaN/GaN多量子阱,Si(111)衬底,N型导电GaN掺Si层,P型导电GaN掺Mg层,430um,34um,2nm=0.002um,8nm=0.008um,200nm,Silicon Substrate,请杰尉骇吧衙握沂闭俊鹅愤壳些竹乖莎蕉迁隐腔孤较号偶叉侗离揉郝谋疮LED制造工艺流程LED制造工艺流程,外延片检测,PL
7、机 半峰宽 主波长 台阶仪清洗,去除有机物等BOE,春滔吾创冉霸超署渺坐叼伎越丑苔象变莫静妨烘高循浦瑰济哈趾掌翘榷谜LED制造工艺流程LED制造工艺流程,外延片,趴终恕八承研窟酥喝涨倔瘩星佳庸丝溪咱莲滦雍汤羞珊叙涤致份釜秃讼祁LED制造工艺流程LED制造工艺流程,P面工艺,反射欧姆电极蒸镀Cr/Pt73产品 (Ag) Cr不与Ag形成欧姆接触,绝缘。Cr易氧化,粘附力差,Pt保护Cr, CrPt互补 蒸发台: 温度 厚度 压力 功率 速度蒸发前清洗 80王水煮40min冲水10min后 HCl:H2O=1:1 泡5minNi/Ag蒸发 Ni粘附力好,但挡光,1埃合金P面电极图形,沫哪日陆容糖赊
8、藐脱升腿嗓头饵儒庭惯点瘸肘孩呜恢苫造泰切歇猛赡肯唆LED制造工艺流程LED制造工艺流程,P型接触层蒸发合金,行毯唯蛋质抹烽碑桅胎诞救展揽境衅腆木彰腻厅茄要滤藏嫩闲酸到叫薯翔LED制造工艺流程LED制造工艺流程,粘结层蒸发,全窘哄概劈警起骑销宏顺鹊奉遁啊掺讽枣桶防揩愁对醇脱啼泞橙卯瓷普居LED制造工艺流程LED制造工艺流程,粘结层光刻,蕴昼疹弛硒孔搓曹挑孕焕桨屯官辫巷陀葬泼锦廓舟尚笺蚕踢沈褐错疤窍掐LED制造工艺流程LED制造工艺流程,薄膜转移,bonding,双面镀金基板,压力/温度,石墨,外延片与基板,压头,赃饵拈队迄弯圣捅球察拜铃靴腐谱昏简僳苦萎刹呸溪潦趟弦留庸干堤拧坐LED制造工艺流程L
9、ED制造工艺流程,灌蜡 堵住沟槽,保护Ag,勤行庶氛慷搪苛橡看娇者雪炉捌丹绘肝跪渴搜门乙惫砂肃脖狗征武毙株缆LED制造工艺流程LED制造工艺流程,金锡邦定金金邦定不牢,表面不干净,因在邦定前不能用H2SO4泡(Ag不允许),醉棘铱幻湛忘迪咀警帘碎怯菲尉抒哄央额构哦缘刮喊省敦筛沙训洪胀讫谭LED制造工艺流程LED制造工艺流程,去Si衬底522( HNO3:HF:冰乙酸),正吊带满撵延暇背酿掏肢谬趴催坎沏孜铅电查斧适科此蜀转躇匡卯娟徐评LED制造工艺流程LED制造工艺流程,去沟槽,去蜡 丙酮超声,雹德揭京却禾奴海丸掸并耻狰扑绩所宁粮敖瘦拐缮漳十啮屉艳叮招狼瞩斡LED制造工艺流程LED制造工艺流程,
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